| Produkt-ID | Formel | Purity | Dimension | Quantity | Preis in € | Anfrage |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 14140800WF001 | Si/SiO2 | 99.99% | Ø 100mm, SiO2=285nm th. Wafer=500μm th. | 1 | 23.00 | Inquire |
| 14140800WF003 | Si/SiO2 | 99.99% | Ø 4 inch | 1 | 27.00 | Inquire |
| 14140800WF002 | Si/SiO2 | 99.99% | Ø 100mm, SiO2=285nm th. Wafer=500μm th. | 1 | 23.00 | Inquire |
| 14140800WF004 | Si/SiO2 | 99.99% | Ø 4 inch | 1 | 27.00 | Inquire |
Silizium/Siliziumoxid-Wafer werden häufig in der Halbleiter-, Mikroelektronik- und Forschungsbranche eingesetzt. Siliziumwafer sind das Grundmaterial für Halbleiterbauelemente und sind mit einer Schicht aus Siliziumdioxid mit einer Dicke von wenigen Nanometern bis zu Dutzenden von Nanometern bedeckt, die als Isolator und Schutz wirken kann. Die Oberflächeneigenschaften der Siliziumdioxidschicht haben einen großen Einfluss auf die Leistungsfähigkeit des Siliziumwafers. Basismaterial: Als Substrat dient ein Siliziumwafer (Si). Oxidschicht: Eine Schicht aus Siliziumdioxid (SiO₂) wird thermisch gezüchtet oder auf der Siliziumoberfläche abgeschieden. Die Dicke dieser Oxidschicht kann je nach Anforderung variieren.
Die Silizium/Siliziumoxid-Wafer können hydrophil oder hydrophob sein, die unterschiedliche Oberflächeneigenschaften aufweisen. 1. Hydrophile Oberfläche Wenn die Oberflächenenergie niedriger ist als die Oberflächenenergie der Flüssigkeit, ist die Oberfläche hydrophil zur Flüssigkeit. Die Siliziumdioxidschicht auf der Oberfläche des Siliziumwafers kann nach der Behandlung durch einige chemische Verfahren eine hydrophile Oberfläche aufweisen. In diesem Fall bilden Wassermoleküle einen flüssigen Wasserfilm mit einem kleinen Benetzungswinkel auf der Oberfläche des Siliziumwafers, der für einige Reaktionen, Wachstum oder Analysen, die mit Wasser interagieren, förderlich ist. 2. Hydrophobe Oberfläche Ist die Oberflächenenergie höher als die Oberflächenenergie der Flüssigkeit, ist die Oberfläche gegenüber der Flüssigkeit hydrophob. Die Siliziumdioxidschicht auf der Oberfläche des Siliziumwafers weist in der Regel eine Hydrophobie auf. In diesem Fall bilden Wassermoleküle ein Wassertröpfchen in einem großen Winkel auf der Oberfläche des Siliziumwafers, was für einige Reaktionen, Wachstum oder Analysen, die mit Wasser interagieren, nicht förderlich ist.
Mikroelektronik: Wird bei der Herstellung von integrierten Schaltkreisen verwendet. Forschung: Ideal für Tests und Entwicklungen in Laboren und Universitäten. Optoelektronik: Grundlage für Geräte, die mit Licht interagieren, wie Photodetektoren und LEDs. MEMS-Bauelemente: Unverzichtbar für mikroelektromechanische Systeme. Dielektrische Schichten: SiO₂ wirkt als isolierende Schicht für verschiedene Anwendungen.
Oberflächenbeschaffenheit: Polierte oder aufgeraute Oberflächen. Doppelseitige oder einseitige Oxidschichten. Kundenspezifische Dotierungsgrade und Waferdicke.
Die VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) wendet ein strenges Qualitätssicherungssystem an, um die Zuverlässigkeit unserer Produktqualität zu gewährleisten. In der gesamten Produktionskette werden strenge Qualitätskontrollen durchgeführt, und bei fehlerhaften Produkten setzen wir das Prinzip der Nachbesserung streng durch. Jede Charge wird erst dann freigegeben, wenn sie detaillierte Spezifikationstests bestanden hat.
Jede Charge unserer Materialien wird von unabhängiger Seite getestet, und falls erforderlich, senden wir Proben an zertifizierte Unternehmen zur Prüfung. Wir liefern diese Dokumente und Analysezertifikate zusammen mit der Lieferung, um zu bestätigen, dass unsere Produkte die erforderlichen Standards erfüllen.
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