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Chemical Name:
Silizium
Formula:
Si
Product No.:
1400
CAS No.:
7440-21-3
EINECS No.:
231-130-8
Form:
Wafer
HazMat:

MSDS

TDS

Produkt-ID Formel Purity Dimension Quantity Preis in € Anfrage
1400WF001 Si 99.99% Ø 50.8mm x 0.1 mm th. 1 POR Inquire
1400WF003 Si 99.99% Ø 101.6mm x 0.2 mm th. 1 POR Inquire
1400WF002 Si 99.99% Ø 50.8mm x 0.675 mm th. 1 POR Inquire
Produkt-ID
1400WF001
Formel
Si
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8mm x 0.1 mm th.
Quantity
1
Preis in €
POR
Produkt-ID
1400WF003
Formel
Si
Purity
99.99%
Dimension
Ø 101.6mm x 0.2 mm th.
Quantity
1
Preis in €
POR
Produkt-ID
1400WF002
Formel
Si
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8mm x 0.675 mm th.
Quantity
1
Preis in €
POR

Siliziumwafer eignen sich besonders nützlich bei der Herstellung elektronischer Schaltkreise als Substrate für Chips. Silizium ist das siebthäufigste Element im gesamten Universum und das zweithäufigste Element auf der Erde. Silizium ist derzeit der am weitesten verbreitete Halbleiter in der Halbleitertechnik. Siliziumwafer gibt es je nach Verwendungszweck in einer Vielzahl von Formen und Größen. Die Wafer reichen von 2 Zoll bis 12 Zoll, wobei 6 Zoll, 8 Zoll und 12 Zoll am häufigsten sind. VIMATERIAL ist in der Lage, hochwertige einkristalline Siliziumwafer mit verschiedenen Spezifikationen sowie Dienstleistungen in der Verarbeitung und Anpassung von einkristallinen Siliziumwafern anzubieten.

  • Wachstumsmethode: CZ, FZ usw.
  • Größe: 2″, 3″, 4″, 5″, 6″, 8″, 12″ und spezielle nicht standardmäßige Durchmesser und speziell geformte Siliziumwafer;
  • Oberfläche: einfaches Polieren, doppeltes Polieren, Schleifen usw.;
  • Orientierung: <100>, <111>, <110> Ausrichtungs- und Ablenkwinkel und spezielle Ausrichtung;
  • Dicke: 50um-2mm usw., häufig verwendete Dicke: 200um / 500um / 1mm
  • Leitfähiger Typ: N-Typ, P-Typ, intrinsisch halbisolierend;
  • Spezifischer Widerstand: stark dotiert <0,001 Ω.cm, leicht dotiert 1~100Ω.cm, undotiert >1000~>20000Ω.cm;

Herstellungsprozess von Siliziumwafern:

Silizium (durch Reduktion)–>Metallisches Silizium (durch Reinigung)–>Polykristallines Silizium (durch Erhitzen und Schmelzen im Tiegel)–>Geschmolzenes Silizium (durch die Czochralski-Methode)–>Einkristalliner Siliziumstab (durch Drahtmesserschneiden)–>Siliziumwafer (durch chemisch-mechanisches Schleifen)–>Polierter Wafer (durch Wärmebehandlung)–>Geglühter Wafer (durch epitaktisches Wachstum)–>Epitaktischer Wafer (durch eine Vielzahl von Prozessen)–>Herstellung verschiedener integrierter Schaltkreise oder diskreter Bauelemente

Empfohlenes Produkt

QUALITÄTSSICHERUNG

Die VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) wendet ein strenges Qualitätssicherungssystem an, um die Zuverlässigkeit unserer Produktqualität zu gewährleisten. In der gesamten Produktionskette werden strenge Qualitätskontrollen durchgeführt, und bei fehlerhaften Produkten setzen wir das Prinzip der Nachbesserung streng durch. Jede Charge wird erst dann freigegeben, wenn sie detaillierte Spezifikationstests bestanden hat.

Jede Charge unserer Materialien wird von unabhängiger Seite getestet, und falls erforderlich, senden wir Proben an zertifizierte Unternehmen zur Prüfung. Wir liefern diese Dokumente und Analysezertifikate zusammen mit der Lieferung, um zu bestätigen, dass unsere Produkte die erforderlichen Standards erfüllen.

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