Siliciumdioxid Ringtargets sind hochreine anorganische Materialien, die aus Silizium und Sauerstoff bestehen. Dank ihrer hervorragenden optischen Transparenz, chemischen Stabilität, elektrischen Isolation und thermischen Beständigkeit werden SiO₂-Ringtargets häufig für die Dünnschichtabscheidung in der Optik, Halbleiterindustrie, Displaytechnik, Elektronik sowie in anderen Anwendungen mit hochentwickelten Materialien eingesetzt.
VIMATERIAL liefert hochwertige SiO₂-Ringtargets, die sich durch hohe Reinheit, eine stabile Zusammensetzung, gute Maßgenauigkeit und zuverlässige Leistung während der Abscheidung auszeichnen. Je nach Kundenanforderungen können unterschiedliche Reinheitsgrade, Abmessungen und Spezifikationen bereitgestellt werden. Wir bieten außerdem Target-Bonding-Dienstleistungen und maßgeschneiderte Target-Lösungen an.
Sollten Sie spezifische Anforderungen an Materialien oder Targets haben, steht Ihnen unser technisches Team mit fachkundiger Unterstützung zur Seite. Kontaktieren Sie uns.
| Molekülformel | SiO₂ |
| Molekulargewicht | 60,08 g/mol |
| Aussehen | Farblos bis transparent, mit glasartigem Aussehen |
| Dichte | Etwa 2,20 g/cm³ |
| Schmelzpunkt | Etwa 1713 °C |
| Struktur | Im Allgemeinen amorph, mit kurzreichweitiger atomarer Ordnung und weitreichender struktureller Unordnung |
Die amorphe Struktur von SiO₂ sorgt für eine gute optische Gleichmäßigkeit, chemische Stabilität und elektrische Isolierung, wodurch es sich für eine Vielzahl von Beschichtungs- und Dünnschichtanwendungen eignet.
Der Herstellungsprozess von SiO₂-Ringtargets kann je nach erforderlicher Reinheit, Dichte, Abmessungen und Anwendung Pulververarbeitung, Formgebung, Sintern, Heißpressen und heißisostatisches Pressen (HIP) umfassen.
Pulvermetallurgie
Die Pulvermetallurgie ist ein gängiges Verfahren zur Herstellung herkömmlicher Keramik-Targets. Das Pulver wird vor dem Sintern verarbeitet und in die gewünschte Target-Geometrie geformt.
Heißpresssintern
Beim Heißpresssintern werden Druck und Temperatur gleichzeitig angewendet, um die Verdichtung des Materials und die mechanische Festigkeit zu verbessern. Dieses Verfahren eignet sich für Anwendungen, die eine höhere Targetdichte und strukturelle Integrität erfordern.
Heißisostatisches Pressen (HIP)
Beim HIP werden hoher Druck und hohe Temperatur gleichmäßig auf das Material ausgeübt, wodurch die innere Porosität deutlich reduziert und die Dichte sowie die Gleichmäßigkeit verbessert werden können. Es eignet sich für anspruchsvolle Targetanwendungen, bei denen eine hohe Dichte und strukturelle Konsistenz erforderlich sind.
Das geeignete Herstellungsverfahren kann entsprechend den Abmessungen, der Reinheit, der Dichte und dem vorgesehenen Abscheidungsverfahren des Targets ausgewählt werden.
VIMATERIAL kann Siliziumdioxid-Targets in verschiedenen Konfigurationen entsprechend den Kundenanforderungen liefern.
Abmessungen und technische Spezifikationen können entsprechend den Zeichnungen und Anwendungsanforderungen des Kunden besprochen werden.
Für jede Produktcharge wird ein strenges Qualitätskontrollsystem wird für jede Produktcharge durchgeführt. Von der Auswahl der Rohstoffe über die Verarbeitung bis hin zur Endkontrolle und Auslieferung werden wichtige Qualitätsparameter sorgfältig überwacht.
Die Prüfungen können Folgendes umfassen:
Detaillierte Prüfberichte können entsprechend den Kundenanforderungen bereitgestellt werden, um sicherzustellen, dass die gelieferten SiO₂-Ringtargets den festgelegten technischen Anforderungen entsprechen.
Verpackung: SiO₂-Ringtargets werden sorgfältig mit weichen Polstermaterialien geschützt und in maßgeschneiderten Kartons oder Holzkisten verpackt, um das Risiko von Stößen und Beschädigungen während des Transports zu minimieren.
Lagerung: Lagern Sie SiO₂-Ringtargets in einer sauberen, trockenen Umgebung und schützen Sie sie vor Feuchtigkeit, Verunreinigungen und korrosiven Substanzen wie starken Säuren und Laugen. Vermeiden Sie starke Temperaturschwankungen und längere direkte Sonneneinstrahlung. Behandeln Sie das Target sorgfältig, um mechanische Beschädigungen zu vermeiden.
A: Ein SiO₂-Ringtarget ist ein Siliziumdioxid-Target, das in ringförmiger Geometrie für Dünnschichtabscheidungsverfahren hergestellt wird. Es wird hauptsächlich in der Optik, Halbleiterindustrie, Elektronik, Displaytechnik und anderen Beschichtungsanwendungen eingesetzt.
A: Ja. Maßgeschneiderte Abmessungen, Geometrien, Reinheitsgrade und andere technische Spezifikationen können gemäß Kundenzeichnungen und Anwendungsanforderungen bereitgestellt werden.
A: Zu den typischen Anwendungen zählen optische Beschichtungen, Dünnschichten in der Halbleiter- und Elektronikindustrie, Displaybeschichtungen, dielektrische Schichten, Schutzbeschichtungen und Antireflexbeschichtungen.
A: Amorphes SiO₂ weist keine kristalline Fernordnung auf, während kristalline Formen wie Quarz eine geordnete Kristallstruktur besitzen. Die erforderliche Struktur hängt vom Herstellungsprozess des Targets und der vorgesehenen Dünnschichtanwendung ab.
Die VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) wendet ein strenges Qualitätssicherungssystem an, um die Zuverlässigkeit unserer Produktqualität zu gewährleisten. In der gesamten Produktionskette werden strenge Qualitätskontrollen durchgeführt, und bei fehlerhaften Produkten setzen wir das Prinzip der Nachbesserung streng durch. Jede Charge wird erst dann freigegeben, wenn sie detaillierte Spezifikationstests bestanden hat.
Jede Charge unserer Materialien wird von unabhängiger Seite getestet, und falls erforderlich, senden wir Proben an zertifizierte Unternehmen zur Prüfung. Wir liefern diese Dokumente und Analysezertifikate zusammen mit der Lieferung, um zu bestätigen, dass unsere Produkte die erforderlichen Standards erfüllen.
Wenden Sie sich noch heute an unser Expertenteam und lassen Sie sich von uns bei Ihrem Geschäft helfen!
