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Chemical Name:
Natriumfluorid
Formula:
NaF
Product No.:
110900
CAS No.:
7681-49-4
EINECS No.:
231-667-8
Form:
Sputtering Target
HazMat:

MSDS

TDS

Produkt-ID Formel Purity Dimension Quantity Preis in € Anfrage
110900ST001 NaF 99.95% Ø 25.4mm x 3.175mm 1 POR Inquire
110900ST002 NaF 99.95% Ø 25.4mm x 6.35mm 1 POR Inquire
Produkt-ID
110900ST001
Formel
NaF
Purity
99.95%
Dimension
Ø 25.4mm x 3.175mm
Quantity
1
Preis in €
POR
Produkt-ID
110900ST002
Formel
NaF
Purity
99.95%
Dimension
Ø 25.4mm x 6.35mm
Quantity
1
Preis in €
POR

Das Natriumfluorid-Sputtertarget ist eine spezielle Form von Natriumfluorid, die in Dünnschichtabscheidungstechniken wie der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) und dem Sputtern verwendet wird, um hochreine, gleichmäßige Beschichtungen auf verschiedenen Substraten zu erzeugen. Dieses Target ermöglicht die präzise Abscheidung von Natriumfluorid in Anwendungen, die optische, elektronische oder schützende Beschichtungen erfordern.

Physikalische Eigenschaften:

Formel: NaF Molekulargewicht: 41,99 g/mol Aussehen: Das Target erscheint in der Regel als dichter, weißer Feststoff, typischerweise in Form einer kreisförmigen oder rechteckigen Scheibe, die für den Einbau in Sputteranlagen vorbereitet ist. Reinheit: Für Sputtertargets sind hohe Reinheitsgrade, oft 99,9 % oder mehr, erforderlich, um die Qualität und Konsistenz der abgeschiedenen Schichten zu gewährleisten. Dichte: Ca. 2.558 g/cm³, um die Haltbarkeit während des Sputterprozesses zu gewährleisten. Thermische Eigenschaften: Natriumfluorid hat einen Schmelzpunkt von etwa 993 °C (1.819 °F), was für Hochtemperatur-Sputterbedingungen geeignet ist.

Anträge:

Optische Beschichtungen: Natriumfluorid-Sputtertargets werden aufgrund ihrer Transparenz im ultravioletten (UV) und infraroten (IR) Bereich häufig zur Abscheidung dünner Schichten für optische Beschichtungen verwendet. Diese Beschichtungen werden häufig auf Linsen, Spiegel und andere optische Geräte aufgebracht, um die Leistung zu verbessern und die Lichtdurchlässigkeit zu steuern. Halbleiter und elektronische Bauteile: Natriumfluorid-Sputtertargets werden manchmal in der Halbleiterfertigung und auf elektronischen Bauteilen eingesetzt, um Oberflächeneigenschaften zu modifizieren oder isolierende Schichten bereitzustellen. Schutz- und Antireflexbeschichtungen: Natriumfluorid-Sputtertargets werden in Schutzbeschichtungen verwendet, die Feuchtigkeit, Chemikalien und anderen Umwelteinflüssen widerstehen und sich daher ideal für Anwendungen in rauen oder reaktiven Umgebungen eignen. Forschung und Entwicklung: Natriumfluorid-Sputtertargets werden in der Forschung und Entwicklung für Materialwissenschaften und Dünnschichttechnologie eingesetzt und ermöglichen experimentelle Beschichtungen für die Entwicklung neuer Produkte und die Analyse der Natriumfluoridfilmeigenschaften.

Sicherheit und Handhabung:

Schutzausrüstung: Der Umgang mit Natriumfluorid-Zielen erfordert eine geeignete Schutzausrüstung, da Natriumfluoridstaub giftig sein kann, wenn er eingeatmet oder verschluckt wird. Schutzbrille, Handschuhe und Masken werden empfohlen. Lagerung: An einem trockenen, kühlen Ort lagern, fern von Feuchtigkeit und unverträglichen Materialien wie starken Säuren, um Zersetzungs- oder Reaktivitätsprobleme zu vermeiden.

 

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Die VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) wendet ein strenges Qualitätssicherungssystem an, um die Zuverlässigkeit unserer Produktqualität zu gewährleisten. In der gesamten Produktionskette werden strenge Qualitätskontrollen durchgeführt, und bei fehlerhaften Produkten setzen wir das Prinzip der Nachbesserung streng durch. Jede Charge wird erst dann freigegeben, wenn sie detaillierte Spezifikationstests bestanden hat.

Jede Charge unserer Materialien wird von unabhängiger Seite getestet, und falls erforderlich, senden wir Proben an zertifizierte Unternehmen zur Prüfung. Wir liefern diese Dokumente und Analysezertifikate zusammen mit der Lieferung, um zu bestätigen, dass unsere Produkte die erforderlichen Standards erfüllen.

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