Lithiumfluorid

Lithiumfluorid-Sputtertarget ist ein Zielmaterial, das beim Sputtern verwendet wird, um dünne Schichten aus Lithiumfluorid auf verschiedenen Substraten abzuscheiden. Lithiumfluorid ist eine anorganische Verbindung, die hochionisch ist und ausgeprägte Eigenschaften aufweist, die sie für Anwendungen in der Elektronik, Optik und anderen fortschrittlichen Materialbereichen geeignet machen.

Physikalische Eigenschaften:

Chemische Formel: LiF

Molare Masse:25,939(2) g/mol

Aussehen: weißes Pulver oder transparente Kristalle, hygroskopisch

Dichte: 2,635 g / cm3

Schmelzpunkt: 845 °C (1.553 °F; 1.118 K)

Siedepunkt: 1.676 °C (3.049 °F; 1.949 K)

Löslichkeit in Wasser”0,127 g/100 mL (18 °C)/0,134 g/100 mL (25 °C) Löslichkeit:löslich in HF; unlöslich in Alkohol

Magnetische Suszeptibilität (χ):−10,1·10−6 cm3/mol

Brechungsindex (nD):1.3915

Kristallstruktur: Flächenzentriert kubisch

Anträge:

Dünnschichtabscheidung: Die Hauptanwendung von Lithiumfluorid-Sputtertargets ist die Abscheidung dünner Schichten im Sputterprozess. LiF-Dünnschichten werden in Anwendungen wie den folgenden eingesetzt:

• Optische Beschichtungen: Lithiumfluoridfolien werden in Optiken für UV-Beschichtungen, Antireflexbeschichtungen und Linsen verwendet. Aufgrund seiner Transparenz im ultravioletten Spektrum wird es häufig in Geräten wie UV-Fenstern und optischen Filtern eingesetzt.
• Dielektrische Materialien: LiF-Dünnschichten werden manchmal in Kondensatoren, Halbleitern und anderen elektronischen Komponenten verwendet, bei denen eine hohe Durchschlagsfestigkeit und elektrische Isolierung erforderlich sind.
• Barriereschichten: LiF wird in Barriereschichten für bestimmte Arten von flexibler Elektronik und zum Schutz der darunter liegenden Materialien in verschiedenen Halbleiterbauelementen verwendet.
• Ionenaustauscher- und Batterieanwendungen: LiF-Beschichtungen werden auch in einigen Ionenaustauscher- und Batterietechnologien verwendet, um die Leistung bestimmter Elektroden oder Membranen zu verbessern.

Halbleiterbauelemente: Lithiumfluorid-Sputtertarget wird gelegentlich bei der Herstellung von Halbleitern eingesetzt, auch als Teil der dielektrischen Schichten in Transistoren und anderen Halbleiterbauelementen. Solarzellen: Lithiumfluorid-Sputtertarget wird auch in einigen Dünnschicht-Solarzellentechnologien verwendet, wo seine einzigartigen Eigenschaften zur Verbesserung der Energieeffizienz oder Stabilität beitragen können.