Lithiumphosphat-Sputtertarget ist ein Material, das in Dünnschichtabscheidungsprozessen, speziell für das Sputtern, verwendet wird. Sputtern ist eine Technik, die häufig bei der Herstellung dünner Schichten für verschiedene Anwendungen eingesetzt wird, darunter Elektronik, Optik und Energiespeicher.
Formel: Li₃PO₄. Struktur: Lithiumphosphat hat eine kristalline Struktur, die je nach Synthesemethode typischerweise ein monoklines oder orthorhombisches Gitter annimmt. Das Material enthält Lithium (Li), Phosphor (P) und Sauerstoff (O) Ionen. Reinheit: Eine hohe Reinheit (99,9 % oder mehr) ist in der Regel für Sputtertargets erforderlich, um eine gleichmäßige Abscheidung und hochwertige dünne Schichten zu gewährleisten.
Aussehen: Lithiumphosphat-Sputtertargets sind in der Regel feste Scheiben oder kreisförmige Platten aus hochreinem Material, die je nach Verarbeitungsbedingungen grau bis weiß aussehen. Dichte: Etwa 2,6 g/cm³, ähnlich wie bei anderen Phosphatmaterialien. Schmelzpunkt: Lithiumphosphat hat einen relativ hohen Schmelzpunkt von etwa 1.300°C, was für die Stabilität des Targets während des Sputterprozesses wichtig ist.
Dünnschichtabscheidung: Lithiumphosphatfilme werden in verschiedenen Anwendungen eingesetzt, darunter Energiespeicher (wie Lithium-Ionen-Batterien), Halbleiterbeschichtungen und optische Beschichtungen. Batterietechnologie: Die Verwendung von Lithiumphosphat-Sputtertargets ist für die Lithium-Ionen-Batterieforschung von Interesse, insbesondere für Festkörperelektrolyte oder Kathoden, bei denen Lithiumphosphat Teil der Elektrodenmaterialien ist. Photovoltaik: Bei der Herstellung von Solarzellen können Lithiumphosphat-Beschichtungen eingesetzt werden, um die elektrische Leitfähigkeit zu verbessern oder den Wirkungsgrad bestimmter Photovoltaik-Technologien zu steigern. Optische Beschichtungen: Lithiumphosphat-Dünnschichten können in optischen Anwendungen wie Antireflexbeschichtungen oder Dünnschichtfiltern eingesetzt werden.
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