Kataloge

Chemical Name:
Kupfer-Silizium-Oxid
Formula:
CuSiO3
Product No.:
29140800
CAS No.:
1344-72-5
EINECS No.:
215-707-1
Form:
Sputtering Target
HazMat:

MSDS

TDS

Produkt-ID Formel Purity Dimension Quantity Preis in € Anfrage
29140800ST001 CuSiO3 99.99% Ø 50.8 mm x 6.35 mm 1 POR Inquire
29140800ST002 CuSiO3 99.99% Ø 76.2 mm x 6.35 mm 1 POR Inquire
29140800ST003 CuSiO3 99.99% Ø 101.6 mm x 3.175 mm 1 POR Inquire
Produkt-ID
29140800ST001
Formel
CuSiO3
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Quantity
1
Preis in €
POR
Produkt-ID
29140800ST002
Formel
CuSiO3
Purity
99.99%
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm
Quantity
1
Preis in €
POR
Produkt-ID
29140800ST003
Formel
CuSiO3
Purity
99.99%
Dimension
Ø 101.6 mm x 3.175 mm
Quantity
1
Preis in €
POR

Kupfer-Silizium-oxid-Sputtertarget ist eine Art keramisches Verbindungssputtertarget aus Kupfer-, Silizium- und Sauerstoffelementen, das zur Herstellung relevanter Dünnschichtmaterialien durch Magnetron-Sputtern und andere Techniken verwendet wird und wichtige Anwendungen in der Elektronik, Optik und anderen Bereichen hat.

VIMATERIAL bietet hochreine Kupfer-Silizium-oxid-Sputtertargets, wir sind ein professioneller Lieferant von anorganischen chemischen Rohstoffen, unsere Sputtertargets zeichnen sich durch hohe Reinheit, gute Oberflächenebenheit, stabile Produktleistung und gute Produktkonsistenz aus. Wir unterstützen maßgeschneiderten Service und verbindlichen Service, wenn Sie technische Probleme haben, sprechen Sie uns bitte an.

Physikalische Eigenschaften

Summenformel: CuSiO₃

Molekulargewicht: 143,63

Aussehen: meist blaues oder blaugrünes Pulver

Dichte: ca. 3,8 g/cm³.

Kristallstruktur: gehört zum orthorhombischen Kristallsystem, dessen Kristallstruktur aus Kupferionen, Siliziumionen und Sauerstoffionen entsprechend einer bestimmten räumlichen Anordnung eine stabile Kristallgitterstruktur bildet, Silizium- und Sauerstofftetraeder ist die grundlegende Struktureinheit, die Kupferionen sind in der Verteilung ihrer umgebenden Wechselwirkungen mit der Bildung des Gesamtkristalls verteilt.

Anträge

Elektronisches Feld: Bei der Herstellung elektronischer Geräte verwendet, kann es eine Rolle bei der Abscheidung der Isolierschicht von integrierten Schaltkreischips spielen, der durch Sputtern gebildete Film kann gute dielektrische Eigenschaften bieten, was dazu beiträgt, die Leistung und Stabilität des Chips zu verbessern.

Optisches Feld: Bei der optischen Beschichtung kann es zur Vorbereitung von optischen Linsen und Filtern usw. verwendet werden. Die abgeschiedene Kupfer-Siliziumoxid-Schicht kann den Brechungsindex und den Transmissionsgrad der optischen Komponenten einstellen, das reflektierte Licht effektiv reduzieren, die Lichtdurchlässigkeit erhöhen und die Abbildungsqualität des optischen Systems verbessern.

Photovoltaikfeld: Bei der Herstellung von Solarzellen kann es als potenzielles Pufferschichtmaterial verwendet werden. Der durch Sputtern gebildete CuSiO₃-Dünnfilm trägt dazu bei, die Grenzflächenleistung der Zelle zu verbessern, den Wirkungsgrad der photovoltaischen Umwandlung zu erhöhen und gleichzeitig die Widerstandsfähigkeit der Zelle gegen Umwelteinflüsse zu erhöhen.

Halbleiterbereich: Als Dünnschichtmaterial im Halbleiterprozess wird es in der Passivierungsschicht oder der mehrschichtigen Verdrahtungsstruktur von Halbleiterchips angewendet, wodurch die Korrosionsbeständigkeit und elektrische Leistung des Chips verbessert und die Zuverlässigkeit und Lebensdauer von Halbleiterbauelementen gewährleistet werden kann.

Qualitätskontrolle

Jede Produktcharge verfügt über ein strenges Qualitätssystem, um sicherzustellen, dass die vollständigen Inspektionsaufzeichnungen, alle Produkte ab Werk, zurückverfolgt werden können, und dem Kunden nach dem Werk Muster zur Verfügung gestellt werden, damit die Kunden sie erneut überprüfen können. Wir haben eine gute Produktkonsistenz und eine hohe Produktreproduzierbarkeit.

Verpackung und Lagerung

Kupfer-Silizium-oxid-Sputtertargets werden in der Regel durch Doppelvakuumbeutel geschützt, gefolgt von Boxen.

Kupfer-Silizium-oxid-Sputtertargets sollten in einer trockenen, kühlen und gut belüfteten Umgebung gelagert werden, um Feuchtigkeit und Oxidation zu vermeiden und zu verhindern, dass sie mit korrosiven Substanzen wie Säuren und Laugen in Kontakt kommen, und gleichzeitig sollten wir sicherstellen, dass die Temperatur der Lagerumgebung stabil ist, um physische Schäden an den Targets aufgrund von Temperaturänderungen zu vermeiden. Und wir sollten gute Maßnahmen ergreifen, um Staub zu vermeiden.

Empfohlenes Produkt

QUALITÄTSSICHERUNG

Die VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) wendet ein strenges Qualitätssicherungssystem an, um die Zuverlässigkeit unserer Produktqualität zu gewährleisten. In der gesamten Produktionskette werden strenge Qualitätskontrollen durchgeführt, und bei fehlerhaften Produkten setzen wir das Prinzip der Nachbesserung streng durch. Jede Charge wird erst dann freigegeben, wenn sie detaillierte Spezifikationstests bestanden hat.

Jede Charge unserer Materialien wird von unabhängiger Seite getestet, und falls erforderlich, senden wir Proben an zertifizierte Unternehmen zur Prüfung. Wir liefern diese Dokumente und Analysezertifikate zusammen mit der Lieferung, um zu bestätigen, dass unsere Produkte die erforderlichen Standards erfüllen.

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