| Produkt-ID | Formel | Purity | Dimension | Quantity | Preis in € | Anfrage |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 2900ST001 | Cu | 99.99% | Ø 25.4 mm x 3.175 mm | 1 | 41.00 | Inquire |
| 2900ST002 | Cu | 99.999% | Ø 25.4 mm x 3.175 mm | 1 | 52.00 | Inquire |
| 2900ST003 | Cu | 99.99% | Ø 25.4 mm x 6.35 mm | 1 | 51.00 | Inquire |
| 2900ST004 | Cu | 99.999% | Ø 25.4 mm x 6.35 mm | 1 | 66.00 | Inquire |
| 2900ST005 | Cu | 99.99% | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | 1 | 66.00 | Inquire |
| 2900ST006 | Cu | 99.999% | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | 1 | 88.00 | Inquire |
| 2900ST007 | Cu | 99.99% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | 1 | 88.00 | Inquire |
| 2900ST008 | Cu | 99.999% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | 1 | 117.00 | Inquire |
| 2900ST009 | Cu | 99.999% | Ø 54 mm x 3 mm | 1 | 109.00 | Inquire |
| 2900ST010 | Cu | 99.99% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | 1 | 102.00 | Inquire |
| 2900ST011 | Cu | 99.999% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | 1 | 126.00 | Inquire |
| 2900ST012 | Cu | 99.99% | Ø 76.2 mm x 6.35 mm | 1 | 126.00 | Inquire |
| 2900ST013 | Cu | 99.999% | Ø 76.2 mm x 6.35 mm | 1 | 234.00 | Inquire |
| 2900ST014 | Cu | 99.999% | Ø 101.6 mm x 6.35 mm | 1 | 166.00 | Inquire |
| 2900ST015 | Cu | 99.999% | Ø 101.6 mm x 6.35 mm | 1 | 304.00 | Inquire |
| 2900ST016 | Cu | 99.99% | Ø 127 mm x 6.3 mm | 1 | 231.00 | Inquire |
| 2900ST017 | Cu | 99.999% | Ø 127 mm x 6.3 mm | 1 | 480.00 | Inquire |
| 2900ST018 | Cu | 99.99% | Ø 152.4 mm x 3.175 mm | 1 | 199.00 | Inquire |
| 2900ST019 | Cu | 99.999% | Ø 152.4 mm x 3.175 mm | 1 | 484.00 | Inquire |
| 2900ST020 | Cu | 99.99% | OD32 mm x ID23 mm x 492.4 | 1 | POR | Inquire |
| 2900ST021 | Cu | 99.999% | OD32 mm x ID23 mm x 492.4 | 1 | POR | Inquire |
| 2900ST022 | Cu | 99.999% | OD52 mm x ID30 mm x 215mm | 1 | POR | Inquire |
Kupfermetall-Sputtertarget ist ein Material aus hochreinem Kupfermetall, das in der PVD-Technologie (Physical Vapour Deposition) verwendet wird, bei der Kupferatome durch Ionenbeschuss in einer Vakuumumgebung gesputtert und auf der Oberfläche eines Substrats abgeschieden werden, wodurch hochwertige Kupferfilme für Elektronik, Halbleiter und viele andere Bereiche bereitgestellt werden.
VIMATERIAL liefert hochreine und qualitativ hochwertige Kupfermetall-Sputtertargets. Wir liefern Kupfermetall-Sputtertargets mit hoher Dichte, guter Produktoberfläche, hoher Sputtereffizienz und niedrigem Preis. Wir haben ein professionelles Forschungs- und Entwicklungsteam, und alle Produkte können angepasst und entwickelt werden, bitte kontaktieren Sie uns.
Summenformel: Cu
Molekulargewicht: 63.546
Aussehen: purpurrotes Glanzmetall
Dichte: 8,92 g/cm³
Schmelzpunkt: 1083,4±0,2 °C.
Siedepunkt: 2567°C
Kristallstruktur: flächenzentrierte kubische Kristallstruktur. In der flächenzentrierten kubischen Struktur ist jedes Kupferatom von 12 Kupferatomen mit dem nächsten Nachbarn umgeben.
Halbleiter: Wird bei der Herstellung von Verbindungen in integrierten Schaltkreisen verwendet, um Verzögerungen bei der Signalübertragung zu reduzieren und die Chipleistung aufgrund seiner hohen Leitfähigkeit zu verbessern.
Elektronische Anzeige: In Flüssigkristallanzeigen und OLED-Displays (Organic Light Emitting Dioden) werden Kupfer-Metall-Sputtertargets verwendet, um Elektroden und andere Komponenten herzustellen, um genaue und stabile Displays zu gewährleisten.
Photovoltaik-Industrie: Als Abscheidungsquelle für Elektrodenmaterialien kann sie die elektrische Leistung von Solarzellen optimieren und den Wirkungsgrad der photoelektrischen Umwandlung verbessern.
Optische Beschichtung: Kupferdünnschichten werden durch Sputtern gebildet und im Beschichtungsprozess von optischen Linsen verwendet, um die optischen Eigenschaften und die Haltbarkeit der Linsen zu verbessern.
Für jede Produktcharge wird ein strenges Qualitätsmanagementsystem implementiert, mit vollständigen Aufzeichnungen von den Rohstoffen bis zum Endprodukt für eine einfache Rückverfolgbarkeit des Produkts. Wir haben strenge Trennungsmaßnahmen für den Umgang mit fehlerhaften Produkten, um sicherzustellen, dass kein einzelnes fehlerhaftes Produkt dem nächsten Prozess überlassen werden kann.
Kupfer Metall-Sputtertargets werden in Doppelvakuumbeutel verpackt und anschließend verpackt.
Kupfer Metall-Sputtertargets sollten in einer trockenen, sauberen und gut belüfteten Umgebung mit relativ stabiler Temperatur und Luftfeuchtigkeit gelagert werden, wobei der Kontakt mit korrosiven Substanzen, aktiven Metallen und starken Oxidationsmitteln sowie physikalische Kollisionen und Reibung vermieden werden sollten, um sicherzustellen, dass die Oberflächenqualität und die physikalisch-chemischen Eigenschaften nicht beeinträchtigt werden.
Die VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) wendet ein strenges Qualitätssicherungssystem an, um die Zuverlässigkeit unserer Produktqualität zu gewährleisten. In der gesamten Produktionskette werden strenge Qualitätskontrollen durchgeführt, und bei fehlerhaften Produkten setzen wir das Prinzip der Nachbesserung streng durch. Jede Charge wird erst dann freigegeben, wenn sie detaillierte Spezifikationstests bestanden hat.
Jede Charge unserer Materialien wird von unabhängiger Seite getestet, und falls erforderlich, senden wir Proben an zertifizierte Unternehmen zur Prüfung. Wir liefern diese Dokumente und Analysezertifikate zusammen mit der Lieferung, um zu bestätigen, dass unsere Produkte die erforderlichen Standards erfüllen.
Wenden Sie sich noch heute an unser Expertenteam und lassen Sie sich von uns bei Ihrem Geschäft helfen!
