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Chemical Name:
Hafnium-Silizid
Formula:
HfSi2
Product No.:
721400
CAS No.:
12401-56-8
EINECS No.:
235-640-1
Form:
Sputtering Target
HazMat:

MSDS

TDS

Produkt-ID Formel Purity Dimension Quantity Preis in € Anfrage
721400ST001 HfSi2 99.8% (Zr< 0.5wt%) Ø 50.8 mm x 3.175 mm 1 POR Inquire
721400ST002 HfSi2 99.8% (Zr< 0.5wt%) Ø 76.2 mm x 3.175 mm 1 POR Inquire
721400ST003 HfSi2 99.8% (Zr< 0.5wt%) Ø 101.6 mm x 6.35 mm 1 POR Inquire
Produkt-ID
721400ST001
Formel
HfSi2
Purity
99.8% (Zr< 0.5wt%)
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Quantity
1
Preis in €
POR
Produkt-ID
721400ST002
Formel
HfSi2
Purity
99.8% (Zr< 0.5wt%)
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Quantity
1
Preis in €
POR
Produkt-ID
721400ST003
Formel
HfSi2
Purity
99.8% (Zr< 0.5wt%)
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm
Quantity
1
Preis in €
POR

Hafnium-silizid Target ist ein wichtiges Material.

Grundlegende Informationen:

Chemische Zusammensetzung: bestehend aus zwei Elementen, Hafnium (Hf) und Silizium (Si), chemische Formel HfSi₂.
CAS-Nr.: 12401-56-8.
Aussehen: normalerweise graues festes Ziel.
Dichte: Relativ hoch, was ihm eine gute Stabilität und Materialtransporteigenschaften beim Sputtern verleiht.
Schmelzpunkt: hoher Schmelzpunkt, gute Beständigkeit gegen hohe Temperaturen, in der Lage, die strukturelle Stabilität während des Sputterprozesses aufrechtzuerhalten.
Partikelgröße und Kristallinität: Hat im Allgemeinen eine gleichmäßigere Partikelgrößenverteilung und eine gute Kristallinität, was für die Gleichmäßigkeit und Qualität der gesputterten Beschichtung sehr wichtig ist.

Anwendungsbereiche

Dünnschichtabscheidung: In der Halbleiterherstellung werden Hafnium-silizid Targets in Prozessen wie der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) und der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) eingesetzt, um hochwertige Dünnschichten herzustellen.

Optische Beschichtung: Es kann verwendet werden, um optische Filme wie Antireflexfolien, Folien zur Verbesserung der Durchlässigkeit usw. vorzubereiten, die in optischen Geräten, Linsen, Displays und anderen Bereichen verwendet werden.

Optischer Kommunikationsbereich: In optischen Kommunikationsgeräten wie faseroptischen Verstärkern, WDMs usw. können HfSi₂-Targets verwendet werden, um verwandte optische Schichten vorzubereiten, um die Funktionen der Übertragung, Verstärkung und Multiplexung optischer Signale zu erreichen.

Flachbildschirme: Bei der Herstellung von Flachbildschirmen wie Flüssigkristallanzeigen (LCDs), Plasmabildschirmen (PDPs), organischen Leuchtdiodendisplays (OLEDs) usw. können HfSi₂-Targets verwendet werden, um dünne Schichten wie Elektroden und Isolierschichten herzustellen. Diese Folien können die Auflösung, Helligkeit, den Kontrast und andere Eigenschaften des Displays verbessern und weisen eine gute Stabilität und Zuverlässigkeit auf.

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QUALITÄTSSICHERUNG

Die VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) wendet ein strenges Qualitätssicherungssystem an, um die Zuverlässigkeit unserer Produktqualität zu gewährleisten. In der gesamten Produktionskette werden strenge Qualitätskontrollen durchgeführt, und bei fehlerhaften Produkten setzen wir das Prinzip der Nachbesserung streng durch. Jede Charge wird erst dann freigegeben, wenn sie detaillierte Spezifikationstests bestanden hat.

Jede Charge unserer Materialien wird von unabhängiger Seite getestet, und falls erforderlich, senden wir Proben an zertifizierte Unternehmen zur Prüfung. Wir liefern diese Dokumente und Analysezertifikate zusammen mit der Lieferung, um zu bestätigen, dass unsere Produkte die erforderlichen Standards erfüllen.

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