Das Gadoliniumfluorid-Target ist ein wichtiges Sputtertarget mit mehreren Eigenschaften und Anwendungen.
Zusammensetzung: Der Hauptbestandteil ist GdF₃, das aus den Elementen Gadolinium und Fluor besteht. Aussehen: Normalerweise feste Flocken, runde oder andere kundenspezifische Formen.
Dichte: relativ hoch, was den Gadoliniumfluorid-Zielen eine gute Stabilität beim Sputtern verleiht.
Schmelzpunkt: 1231°C.
Härte: Hat einen gewissen Härtegrad, um dem Beschuss und Abrieb durch Ionen während des Sputterprozesses standzuhalten.
Optisches Feld: Es kann verwendet werden, um optische Filme vorzubereiten, wie z. B. das Plattieren von GdF₃-Filmen auf optischen Linsen, Filtern, Lasergeräten und anderen optischen Komponenten, die die Leistung optischer Komponenten verbessern können, z. B. die Erhöhung des Brechungsindex und die Verbesserung der optischen Durchlässigkeit.
Elektronisches Feld: Bei der Herstellung elektronischer Geräte kann das GdF₃-Ziel zur Herstellung elektronischer Schichten verwendet werden, z. B. von Halbleiterbauelementen, integrierten Schaltkreisen und anderen elektronischen Komponenten, die mit Gadoliniumfluoridfilm beschichtet sind, und kann die Leistung elektronischer Komponenten verbessern, z. B. die elektrische Leitfähigkeit verbessern und die magnetischen Eigenschaften verbessern.
Materialwissenschaftliche Forschung: Da Gadoliniumfluorid einzigartige physikalische und chemische Eigenschaften aufweist, haben Gadoliniumfluorid-Targets auch wichtige Anwendungen in der materialwissenschaftlichen Forschung.
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