Das Sputtertarget aus Dysprosium-Eisen-Legierung ist ein Schlüsselmaterial, das aus den Seltenerdelementen Dysprosium und Eisen besteht und zur Bildung dünner Schichten auf Substraten in Sputterabscheidungstechniken verwendet wird und wichtige Anwendungen in vielen Bereichen wie Halbleitern, magnetischer Aufzeichnung und Optik hat. Eigenschaften wie hohe Reinheit, gute Kristallstruktur und gleichmäßige Zusammensetzungsverteilung sind in der Regel erforderlich, um die Qualität und Leistung dünner Schichten beim Sputtern zu gewährleisten.
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Summenformel: Legierungsform, kann angepasst werden
Aussehen: Grau-schwarzes Metallziel
Hoher Schmelzpunkt und hohe Temperaturbeständigkeit: Die Dysprosiumlegierung hat einen hohen Schmelzpunkt, der es Sputtertargets ermöglicht, während des Sputterprozesses einem hohen Energiebeschuss und hohen Temperaturen standzuhalten, ohne zu schmelzen oder sich zu verformen, wodurch die Stabilität des Sputterprozesses und die Lebensdauer des Targets gewährleistet werden.
Gute elektrische Leitfähigkeit: Bei Dünnschichtanwendungen, die elektrische Leitfähigkeit erfordern, stellt die gute elektrische Leitfähigkeit von Dysprosium-Ferrolegierung-Sputtertargets sicher, dass die abgeschiedenen Schichten eine hervorragende elektrische Leitfähigkeit aufweisen, um die Anforderungen elektronischer Geräte und anderer Bereiche zu erfüllen.
Magnetisches Aufzeichnungsfeld: Die Dysprosium-Eisenlegierung hat hervorragende magnetische Eigenschaften und kann zur Herstellung magnetischer Aufzeichnungsfilme mit hoher Koerzitivfeldstärke und hoher Permeabilität verwendet werden, wodurch die Speicherdichte und die Lese-/Schreibgeschwindigkeit von magnetischen Aufzeichnungsmedien erhöht wird.
Halbleiterbereich: Bei der Herstellung von Halbleiterchips müssen verschiedene dünne Schichten, wie z. B. leitfähige und Barriereschichten, auf der Waferoberfläche abgeschieden werden. Sputtertargets aus Dysprosium-Ferr-Legierungen können verwendet werden, um diese Schichten so vorzubereiten, dass sie eine gute Leitfähigkeit, Barriereeigenschaften und thermische Stabilität bieten, um die hohen Leistungsanforderungen von Halbleiterbauelementen zu erfüllen.
Optisches Feld: Im Bereich der optischen Beschichtung können Sputtertargets aus Dysprosiumlegierungen verwendet werden, um dünne Schichten mit besonderen optischen Eigenschaften herzustellen, wie z. B. Transmissionsverstärkungsfilme, reflektierende Folien und lichtfilternde Folien.
Die VI HALBLEITERMATERIAL GmbH implementiert strikt ein Full-Prozess-Qualitätskontrollsystem, hält sich an das Prinzip der Nacharbeit bei fehlerhaften Produkten und gibt jede Produktcharge erst frei, nachdem sie detaillierte Spezifikationstests bestanden hat. Wir verpflichten uns, eine verantwortungsvolle Lieferkette aufzubauen, indem wir die REACH- und ASTM-Standards einhalten, die Chargenkonsistenz sicherstellen und ein vollständig dokumentiertes Rückverfolgbarkeitssystem einrichten.
Dysprosium-Eisen-Legierungsziele werden nach dem Vakuum in speziellen Kartons verpackt und für den Versand in Kartons geschützt.
DyFe-Legierungstargets müssen versiegelt und in einer trockenen Umgebung gelagert werden, um Oxidation und mechanische Beschädigungen zu vermeiden. Die Lagertemperatur wird ≤ 25 °C und eine Luftfeuchtigkeit ≤ 10 % RH empfohlen, fern von Säuren, Halogenen und oxidierenden Substanzen.
Die VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) wendet ein strenges Qualitätssicherungssystem an, um die Zuverlässigkeit unserer Produktqualität zu gewährleisten. In der gesamten Produktionskette werden strenge Qualitätskontrollen durchgeführt, und bei fehlerhaften Produkten setzen wir das Prinzip der Nachbesserung streng durch. Jede Charge wird erst dann freigegeben, wenn sie detaillierte Spezifikationstests bestanden hat.
Jede Charge unserer Materialien wird von unabhängiger Seite getestet, und falls erforderlich, senden wir Proben an zertifizierte Unternehmen zur Prüfung. Wir liefern diese Dokumente und Analysezertifikate zusammen mit der Lieferung, um zu bestätigen, dass unsere Produkte die erforderlichen Standards erfüllen.
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