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Chemical Name:
Wismut-Germanium-Oxid (BGO)
Formula:
Bi4Ge3O12
Product No.:
83320800
CAS No.:
12233-56-6
EINECS No.:
235-457-7
Form:
Sputtering Target
HazMat:

MSDS

TDS

Produkt-ID Formel Purity Dimension Quantity Preis in € Anfrage
83320800ST001 Bi4Ge3O12 99.99% Ø 50.8 mm x 3.175 mm 1 POR Inquire
83320800ST002 Bi4Ge3O12 99.99% Ø 50.8 mm x 6.35 mm 1 POR Inquire
83320800ST003 Bi4Ge3O12 99.99% Ø 76.2 mm x 3.175 mm 1 POR Inquire
83320800ST004 Bi4Ge3O12 99.99% Ø 101.6 mm x 3.175 mm 1 POR Inquire
Produkt-ID
83320800ST001
Formel
Bi4Ge3O12
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Quantity
1
Preis in €
POR
Produkt-ID
83320800ST002
Formel
Bi4Ge3O12
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Quantity
1
Preis in €
POR
Produkt-ID
83320800ST003
Formel
Bi4Ge3O12
Purity
99.99%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Quantity
1
Preis in €
POR
Produkt-ID
83320800ST004
Formel
Bi4Ge3O12
Purity
99.99%
Dimension
Ø 101.6 mm x 3.175 mm
Quantity
1
Preis in €
POR

Das Wismut-Germaniumoxid-Target ist ein wichtiges Ziel für funktionales Material.

Grundlegende Informationen:

Chemische Formel: Bi₄Ge₃O₁₂. Kristallstruktur: mit kubischer Ewerite-Kristallstruktur
Aussehen: in der Regel feste Flocke oder rundes Ziel, in der Regel cremefarben oder hellgelb.

Chemische Eigenschaften:

Stabilität: Es ist bei Raumtemperatur und -druck relativ stabil, aber in einigen speziellen chemischen Umgebungen, wie z. B. starken Säuren und Basen, können chemische Reaktionen auftreten. Oxidierende Eigenschaften: Die darin enthaltenen Wismut- und Germaniumelemente haben bestimmte oxidierende Eigenschaften und können als Oxidationsmittel an einigen Reaktionen beteiligt sein, aber im Anwendungsprozess des Ziels haben solche oxidierenden Eigenschaften in der Regel keinen negativen Einfluss auf seine Leistung.

Anwendungsbereich:

Optisches Feld: Wismut-Germaniumoxid ist in der Lage, unter Einwirkung von hochenergetischen Teilchen oder hochenergetischen Strahlen (z. B. β-Strahlen und Röntgenstrahlen) grüne Fluoreszenz zu emittieren, seine Targets können zur Herstellung optischer Filme verwendet werden, die beispielsweise in Szintillatormaterialien und fluoreszierenden Bildschirmen verwendet werden. Halbleiterfeld: Kann bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen, wie z. B. in integrierten Schaltkreisen, optoelektronischen Bauelementen und anderen Aspekten des Dünnschichtabscheidungsprozesses, als Sputterzielmaterial zur Herstellung von Filmen mit bestimmten Funktionen verwendet werden, diese Schichten können die Leistung von Halbleiterbauelementen verbessern. Elektronik: Im Bereich der Elektronik können Bi₄Ge₃O₁₂-Targets bei der Herstellung von Isolier- oder Schutzschichten für elektronische Komponenten verwendet werden, um die Leistung und Zuverlässigkeit von elektronischen Komponenten zu verbessern.

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QUALITÄTSSICHERUNG

Die VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) wendet ein strenges Qualitätssicherungssystem an, um die Zuverlässigkeit unserer Produktqualität zu gewährleisten. In der gesamten Produktionskette werden strenge Qualitätskontrollen durchgeführt, und bei fehlerhaften Produkten setzen wir das Prinzip der Nachbesserung streng durch. Jede Charge wird erst dann freigegeben, wenn sie detaillierte Spezifikationstests bestanden hat.

Jede Charge unserer Materialien wird von unabhängiger Seite getestet, und falls erforderlich, senden wir Proben an zertifizierte Unternehmen zur Prüfung. Wir liefern diese Dokumente und Analysezertifikate zusammen mit der Lieferung, um zu bestätigen, dass unsere Produkte die erforderlichen Standards erfüllen.

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