Aluminiumnitrid

Aluminiumnitrid-Sputtertarget (AlN) ist ein hochreines Material, das in PVD-Prozessen (Physical Vapor Deposition), insbesondere beim Sputtern, verwendet wird, um dünne Schichten aus Aluminiumnitrid auf verschiedenen Substraten zu erzeugen. AlN-Dünnschichten sind für ihre hervorragende Wärmeleitfähigkeit, hohe elektrische Isolierung und Langlebigkeit bekannt und werden häufig in der Elektronik-, Optik- und Halbleiterindustrie eingesetzt. Die Zusammensetzung und Fertigungsqualität des Aluminiumnitrid-Sputtertargets sind entscheidend für das Erreichen gleichmäßiger und fehlerfreier Beschichtungen.

Zusammensetzung und Reinheit:

Aluminiumnitrid (AlN): AlN-Targets bestehen aus Aluminium und Stickstoff und bieten eine hohe Wärmeleitfähigkeit und elektrische Isolierung. Hohe Reinheit (typischerweise ≥ 99,5 %): Hochreine AlN-Targets sind unerlässlich, um hochwertige, kontaminationsfreie Dünnschichten zu erzielen, was in Halbleiter- und Elektronikanwendungen von entscheidender Bedeutung ist.

Physikalische und thermische Eigenschaften:

Hohe Wärmeleitfähigkeit: AlN bietet eine der höchsten Wärmeleitfähigkeiten unter den Keramiken und bietet eine hervorragende Wärmeableitung für dünne Schichten in der Elektronik. Elektrische Isolierung: Die isolierenden Eigenschaften von AlN machen es ideal für Folien, die eine elektrische Isolierung erfordern, wie z. B. in Halbleiterbauelementen. Langlebig und resistent gegen thermische Beanspruchung: Aluminiumnitrid-Sputtertargets sind bei hohen Temperaturen stabil und eignen sich daher für anhaltende Abscheidungsprozesse.

Anträge:

Halbleiterindustrie: AlN-Schichten werden als Isolierschichten in Halbleiterbauelementen verwendet, um die Leistung zu verbessern, indem sie Stromlecks verhindern. Dünnschichttransistoren (TFTs) und LEDs: AlN wird in Dünnschichttransistoren und LED-Substraten verwendet, wo seine Wärmeleitfähigkeit die Wärmeableitung unterstützt und die Lebensdauer des Geräts verlängert. Surface Acoustic Wave (SAW)-Bauelemente: Aufgrund seiner piezoelektrischen Eigenschaften eignet sich AlN für SAW-Filter, die häufig in HF-Filtern und drahtlosen Kommunikationssystemen verwendet werden. Optoelektronik und optische Beschichtungen: AlN-Dünnschichten werden in der Optoelektronik wegen ihrer Transparenz und Kompatibilität mit optischen Bauelementen geschätzt.

Handhabung und Lagerung:

Zerbrechlichkeit: Aluminiumnitrid-Sputtertargets sind zwar unter Abscheidungsbedingungen haltbar, können aber spröde sein. Eine sorgfältige Handhabung ist notwendig, um Späne oder Brüche zu vermeiden. Feuchtigkeitskontrolle: AlN ist in feuchten Umgebungen leicht anfällig für Hydrolyse, daher wird empfohlen, die Ziele in einer trockenen, kontrollierten Umgebung zu lagern, um Reinheit und Leistung zu erhalten.