Sulfure de germanium

La cible GeS est un matériau important utilisé dans le dépôt de couches minces et d’autres processus.

Informations de base :

Composition chimique : Principalement composé de germanium (Ge) et de soufre (S) deux éléments.

Caractéristiques d’apparence : Généralement des flocons ronds ou carrés solides, la couleur peut varier en fonction de la pureté et de la composition spécifique, par exemple, peut apparaître gris, noir, etc.

Point de fusion : Avoir un point de fusion élevé

Structure cristalline : Possède une structure cristalline spécifique, qui détermine ses propriétés physiques et chimiques, et a un impact important sur la croissance et les performances du film lors de la pulvérisation.

Stabilité : Relativement stable à température ambiante, mais des réactions chimiques peuvent se produire à haute température, dans l’air humide ou dans des environnements chimiques spécifiques. Par exemple, il peut être oxydé lorsqu’il est chauffé à l’air.

Réactivité : Il peut réagir avec des oxydants puissants, des agents réducteurs ou des substances chimiques spécifiques, mais ses propriétés chimiques sont relativement stables et il n’est pas facile de réagir violemment avec des substances chimiques courantes.

Méthode de préparation :

Méthode de métallurgie des poudres : la poudre de germanium de haute pureté et la poudre de soufre conformément à une certaine proportion de mélange, de broyage, de pressage et d’autres processus pour fabriquer des billettes, puis frittage dans des conditions de haute température et de haute pression pour obtenir une cible de germanium sulfuré. Cette méthode permet de préparer le matériau cible avec une composition uniforme et une densité élevée.

Méthode de dépôt chimique en phase vapeur : utilisation de composés de germanium et de composés soufrés comme précurseurs, dans certaines conditions de température et d’atmosphère, par la méthode de dépôt chimique en phase vapeur pour se développer sur le substrat d’un film de sulfure de germanium, puis le film est décollé du substrat pour fabriquer un matériau cible de sulfure de germanium.

Domaine d’application :

Industrie des semi-conducteurs : Dans la fabrication de dispositifs à semi-conducteurs, les cibles GeS peuvent être utilisées pour préparer des films minces, ces films peuvent être utilisés comme couche fonctionnelle de dispositifs à semi-conducteurs, tels que des cellules solaires, des photodétecteurs et d’autres dispositifs, les films GeS peuvent jouer un rôle dans l’absorption de la lumière, la conversion de l’énergie, etc.

Champ optique : Parce que le sulfure de germanium a certaines propriétés optiques, il peut être utilisé pour préparer des films optiques, comme dans les dispositifs optiques infrarouges, les films de sulfure de germanium peuvent être utilisés comme films antireflets, films réfléchissants, etc., pour améliorer les performances des dispositifs optiques.

Recherche en science des matériaux : En tant que nouveau type de matériau, la cible de sulfure de germanium fait également l’objet d’une attention particulière dans la recherche en science des matériaux, et les chercheurs l’utilisent pour explorer les propriétés physiques et chimiques de nouveaux matériaux, ainsi que pour développer de nouveaux domaines d’application.