Formule chimique : composé de deux éléments, le hafnium (Hf) et le silicium (Si), avec un rapport atomique de 1:2.
Poids moléculaire : 234,61.
Structure cristalline : HfSi₂ a une structure cristalline tétragonale, qui donne aux atomes un arrangement régulier et ordonné dans l’espace.
Aspect et morphologie : La poudre HfSi₂ est généralement grise ou blanc cassé.
Densité : 9,56 g/cm³, ce qui lui donne un avantage dans les applications où le poids et la stabilité sont importants.
Point de fusion : Environ entre 1800 et 1900°C, ce qui indique qu’il est capable de rester solide et de maintenir sa structure de base à des températures élevées.
Matériaux électroniques : Le siliciure de hafnium, en tant que matériau semi-conducteur, est utilisé dans la fabrication de divers composants électroniques dans les circuits intégrés, tels que les transistors à effet de champ, les résistances et les condensateurs.
Matériaux à haute température : En raison de son point de fusion élevé et de sa bonne stabilité thermique, le HfSi₂ peut être utilisé dans la fabrication de céramiques structurelles à haute température. Dans les équipements à haute température de l’aérospatiale, de la métallurgie, de l’énergie et d’autres domaines, le HfSi₂ est utilisé comme composants structurels à haute température ou matériaux de revêtement de barrière thermique.
Domaine des matériaux céramiques : Le HfSi₂ peut être mélangé à d’autres matériaux céramiques pour former des composites céramiques aux propriétés particulières.
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