| ID du produit | Formule | Purity | Dimension | Quantity | Prix en € | Enquête |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 721400ST001 | HfSi2 | 99.8% (Zr< 0.5wt%) | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 721400ST002 | HfSi2 | 99.8% (Zr< 0.5wt%) | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 721400ST003 | HfSi2 | 99.8% (Zr< 0.5wt%) | Ø 101.6 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
La cible de siliciure de hafnium est un matériau important.
Composition chimique : composé de deux éléments, le hafnium (Hf) et le silicium (Si), de formule chimique HfSi₂.
N° CAS : 12401-56-8.
Aspect : cible solide généralement grise.
Densité : Relativement élevée, ce qui lui confère une bonne stabilité et des propriétés de transport de matériau lors de la pulvérisation.
Point de fusion : point de fusion élevé, bonne résistance aux températures élevées, capable de maintenir la stabilité structurelle pendant le processus de pulvérisation.
Taille des particules et cristallinité : A généralement une distribution granulométrique plus uniforme et une bonne cristallinité, ce qui est très important pour l’uniformité et la qualité du revêtement pulvérisé.
Dépôt de couches minces : Dans la fabrication de semi-conducteurs, les cibles de siliciure d’hafnium sont utilisées dans des processus tels que le dépôt physique en phase vapeur (PVD) et le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) pour préparer des films minces de haute qualité.
Revêtement optique : Il peut être utilisé pour préparer des films optiques, tels que des films antireflets, des films d’amélioration de la transmittance, etc., qui sont utilisés dans les dispositifs optiques, les lentilles, les écrans et d’autres domaines.
Domaine de la communication optique : Dans les dispositifs de communication optique, tels que les amplificateurs à fibre optique, les WDM, etc., les cibles HfSi₂ peuvent être utilisées pour préparer des films optiques associés afin de réaliser les fonctions de transmission, d’amplification et de multiplexage des signaux optiques.
Écrans plats : Dans la fabrication d’écrans plats tels que les écrans à cristaux liquides (LCD), les écrans plasma (PDP), les écrans à diodes électroluminescentes organiques (OLED), etc., les cibles HfSi₂ peuvent être utilisées pour préparer des films minces tels que des électrodes et des couches isolantes. Ces films peuvent améliorer la résolution, la luminosité, le contraste et d’autres propriétés de l’écran, et ont une bonne stabilité et fiabilité.
VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) utilise un système d’assurance qualité rigoureux pour garantir la fiabilité de la qualité de ses produits. Un contrôle de qualité strict est mis en œuvre tout au long de la chaîne de production et, pour les produits défectueux, nous appliquons strictement le principe de la reprise et du remplacement. Chaque lot n’est libéré qu’après avoir passé des tests de spécification détaillés.
Chaque lot de nos matériaux est testé de manière indépendante et, si nécessaire, nous envoyons des échantillons à des entreprises certifiées pour qu’elles les testent. Nous fournissons ces documents et les certificats d’analyse avec l’envoi pour certifier que nos produits répondent aux normes requises.
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