| ID du produit | Formule | Purity | Dimension | Quantity | Prix en € | Enquête |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 130700ST001 | AlN | 99.9% | Ø 25mm x 5mm | 1 | POR | Inquire |
| 130700ST002 | AlN | 99.9% | Ø 50.8mm x 3.2mm | 1 | POR | Inquire |
| 130700ST003 | AlN | 99.5% | Ø 76.2mm x 3mm | 1 | POR | Inquire |
La cible de pulvérisation cathodique au nitrure d’aluminium (AlN) est un matériau de haute pureté utilisé dans les processus de dépôt physique en phase vapeur (PVD), en particulier la pulvérisation, pour créer de minces films de nitrure d’aluminium sur divers substrats. Connu pour son excellente conductivité thermique, son isolation électrique élevée et sa durabilité, les films minces AlN sont largement utilisés dans les industries de l’électronique, de l’optique et des semi-conducteurs. La composition et la qualité de fabrication de la cible de pulvérisation en nitrure d’aluminium sont cruciales pour obtenir des revêtements uniformes et sans défaut.
Nitrure d’aluminium (AlN) : Composées d’aluminium et d’azote, les cibles AlN offrent une conductivité thermique et une isolation électrique élevées. Haute pureté (généralement ≥ 99,5 %) : Les cibles AlN de haute pureté sont essentielles pour obtenir des films minces de haute qualité et sans contamination, ce qui est essentiel dans les applications de semi-conducteurs et d’électronique.
Conductivité thermique élevée : AlN offre l’une des conductivités thermiques les plus élevées parmi les céramiques, offrant une excellente dissipation de chaleur pour les films minces dans l’électronique. Isolation électrique : Les propriétés isolantes d’AlN le rendent idéal pour les films qui nécessitent une isolation électrique, comme dans les dispositifs à semi-conducteurs. Durable et résistant aux contraintes thermiques : Les cibles de pulvérisation cathodique en nitrure d’aluminium sont stables à des températures élevées, ce qui les rend adaptées aux processus de dépôt soutenu.
Industrie des semi-conducteurs : Les films AlN sont utilisés comme couches isolantes dans les dispositifs à semi-conducteurs, améliorant les performances en empêchant les fuites de courant. Transistors à couche mince (TFT) et LED : AlN est utilisé dans les transistors à couche mince et les substrats LED, où sa conductivité thermique contribue à la dissipation de la chaleur, prolongeant ainsi la durée de vie opérationnelle du dispositif. Dispositifs à ondes acoustiques de surface (SAW) : Les propriétés piézoélectriques d’AlN le rendent adapté aux filtres SAW, couramment utilisés dans les filtres RF et les systèmes de communication sans fil. Optoélectronique et revêtements optiques : Les couches minces d’AlN sont appréciées en optoélectronique pour leur transparence et leur compatibilité avec les dispositifs optiques.
Fragilité : Les cibles de pulvérisation en nitrure d’aluminium, bien que durables dans des conditions de dépôt, peuvent être cassantes. Une manipulation soigneuse est nécessaire pour éviter les copeaux ou les fractures. Contrôle de l’humidité : L’AlN est légèrement sensible à l’hydrolyse dans les environnements humides, il est donc recommandé de stocker les cibles dans un environnement sec et contrôlé pour maintenir la pureté et les performances.
VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) utilise un système d’assurance qualité rigoureux pour garantir la fiabilité de la qualité de ses produits. Un contrôle de qualité strict est mis en œuvre tout au long de la chaîne de production et, pour les produits défectueux, nous appliquons strictement le principe de la reprise et du remplacement. Chaque lot n’est libéré qu’après avoir passé des tests de spécification détaillés.
Chaque lot de nos matériaux est testé de manière indépendante et, si nécessaire, nous envoyons des échantillons à des entreprises certifiées pour qu’elles les testent. Nous fournissons ces documents et les certificats d’analyse avec l’envoi pour certifier que nos produits répondent aux normes requises.
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