Le monoxyde de silicium est un composé inorganique de formule chimique SiO. Il s’agit d’un composé composé d’éléments de silicium et d’oxygène d’un poids moléculaire de 60,0845. SiO est une poudre solide brune avec un point de fusion et un point d’ébullition élevés. C’est un composé relativement stable, mais il peut réagir avec certaines substances à haute température.
Aspect : poudre amorphe brun noir à loess Point de fusion : 1702°C Point d’ébullition : 1880°C Densité : 2,13g/cm
Insoluble dans l’eau. Il peut être dissous dans un acide mixte d’acide fluorhydrique dilué et d’acide nitrique et libérer du tétrafluorure de silicium et générer de la poudre de dioxyde de silicium blanc lorsqu’il est chauffé à l’air.
1. Matériaux semi-conducteurs : Parce que SiO a une grande pureté et d’excellentes propriétés physiques, il s’agit d’une matière première importante pour la préparation de matériaux semi-conducteurs. En dotant avec d’autres éléments, les propriétés conductrices du SiO peuvent être ajustées pour répondre aux besoins de différents appareils électroniques. 2. Matériaux optiques : Le SiO a une transparence élevée et de bonnes propriétés optiques, il est donc souvent utilisé comme matériau pour la préparation de lentilles optiques, de prismes et d’autres composants optiques. 3. Matériaux céramiques : Le SiO est également un composant important pour la préparation de céramiques haute performance. Ces matériaux céramiques ont d’excellentes propriétés telles que la résistance aux hautes températures et la résistance à la corrosion, et sont largement utilisés dans l’aérospatiale, la construction automobile et d’autres domaines.
Actuellement, il existe deux méthodes principales pour préparer le SiO : le dépôt chimique en phase vapeur et la méthode sol-gel. 1. Méthode de dépôt chimique en phase vapeur : Sous une certaine température et pression, la source de silicium et la source d’oxygène sont converties en monoxyde de silicium par réaction chimique et déposées sur le substrat. Cette méthode permet de préparer des films de monoxyde de silicium de haute pureté et de haute qualité. 2. Méthode sol-gel : En dissolvant la source de silicium dans un solvant pour former un sol, puis en subissant des étapes telles que la gélification, le séchage et le traitement thermique, la poudre de monoxyde de silicium ou le matériau en vrac est finalement obtenu. Cette méthode est simple dans son processus, peu coûteuse et adaptée à la production à grande échelle.
Le SiO est un matériau isolant typique et n’a pas la conductivité des matériaux semi-conducteurs. Bien que le monoxyde de silicium soit largement utilisé dans le domaine de l’électronique pour fabriquer des couches isolantes et isolantes dans les circuits intégrés, il ne s’agit pas d’un matériau semi-conducteur en soi.
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