La cible de pulvérisation au fluorure de lithium est un matériau cible utilisé dans le processus de pulvérisation pour déposer de minces films de fluorure de lithium sur divers substrats. Le fluorure de lithium est un composé inorganique hautement ionique et possède des propriétés distinctes qui le rendent adapté aux applications dans les domaines de l’électronique, de l’optique et d’autres domaines des matériaux avancés.
Formule chimique :LiF
Masse molaire :25.939(2) g/mol
Apparence : poudre blanche ou cristaux transparents, hygroscopique
Densité :2.635 g/cm3
Point de fusion :845 °C (1 553 °F ; 1 118 K)
Point d’ébullition :1 676 °C (3 049 °F ; 1 949 K)
Solubilité dans l’eau”0,127 g/100 mL (18 °C)/0,134 g/100 mL (25 °C) Solubilité :soluble dans le HF ; insoluble dans l’alcool
Susceptibilité magnétique (χ) : −10,1·10−6 cm3/mol
Indice de réfraction (nD) : 1,3915
Structure cristalline : Cubique centré sur la face
Dépôt de couches minces : L’utilisation principale des cibles de pulvérisation de fluorure de lithium est le dépôt de couches minces dans le processus de pulvérisation. Les films minces LiF sont utilisés dans des applications telles que :
Dispositifs à semi-conducteurs : La cible de pulvérisation de fluorure de lithium est parfois utilisée dans la fabrication de semi-conducteurs, y compris dans le cadre des couches diélectriques des transistors et autres dispositifs à semi-conducteurs. Cellules solaires : La cible de pulvérisation de fluorure de lithium est également utilisée dans certaines technologies de cellules solaires à couche mince, où ses propriétés uniques peuvent aider à améliorer l’efficacité énergétique ou la stabilité.
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