Dioxyde de silicium La cible annulaire est un matériau inorganique de haute pureté composé de silicium et d’oxygène. Doté d’une excellente transparence optique, d’une grande stabilité chimique, d’une isolation électrique et d’une résistance thermique exceptionnelles, le SiO₂ est largement utilisé pour le dépôt de couches minces dans les domaines de l’optique, des semi-conducteurs, des écrans, de l’électronique et d’autres applications impliquant des matériaux de pointe.
VIMATERIAL fournit des cibles annulaires en SiO₂ de haute qualité, caractérisées par une grande pureté, une composition stable, une bonne précision dimensionnelle et des performances fiables lors du dépôt. Différents niveaux de pureté, dimensions et spécifications peuvent être proposés en fonction des besoins des clients. Nous proposons également des services de collage de cibles et des solutions de cibles sur mesure.
Si vous avez des exigences spécifiques en matière de matériaux ou de cibles, notre équipe technique peut vous apporter une assistance professionnelle. Contactez-nous.
| Formule moléculaire | SiO₂ |
| Masse moléculaire | 60,08 g/mol |
| Aspect | Incolore à transparent, d’aspect vitreux |
| Densité | Environ 2,20 g/cm³ |
| Point de fusion | Environ 1 713 °C |
| Structure | Généralement amorphe, avec un ordre atomique à courte portée et un désordre structurel à longue portée |
La structure amorphe du SiO₂ offre une bonne uniformité optique, une bonne stabilité chimique et une bonne isolation électrique, ce qui le rend adapté à un large éventail d’applications de revêtement et de couches minces.
Le procédé de fabrication des cibles annulaires en SiO₂ peut inclure le traitement de la poudre, le formage, le frittage, le pressage à chaud et le pressage isostatique à chaud (HIP), en fonction de la pureté, de la densité, des dimensions et de l’application requises.
Métallurgie des poudres
La métallurgiedes poudresest un procédé couramment utilisé pour la fabrication de cibles céramiques classiques. La poudre est traitée et mise en forme selon la géométrie requise pour la cible avant le frittage.
Frittage par pressage à chaud
Le frittage par pressage à chaud applique simultanément une pression et une température afin d’améliorer la densification du matériau et sa résistance mécanique. Il peut être utilisé pour des applications nécessitant une densité et une intégrité structurelle accrues de la cible.
Pressage isostatique à chaud (HIP)
Le HIP applique uniformément une pression et une température élevées au matériau et permet de réduire considérablement la porosité interne tout en améliorant la densité et l’uniformité. Il convient aux applications exigeantes où une densité élevée et une cohérence structurelle sont requises.
Le procédé de fabrication approprié peut être sélectionné en fonction des dimensions de la cible, de sa pureté, de sa densité et du procédé de dépôt prévu.
VIMATERIAL peut fournir des cibles en dioxyde de silicium dans différentes configurations, selon les exigences des clients.
Les dimensions et les spécifications techniques peuvent être définies en fonction des plans fournis par le client et des exigences de l’application.
Un système de contrôle qualité rigoureux est mis en œuvre pour chaque lot de produits. De la sélection des matières premières à leur transformation, en passant par le contrôle final et la livraison, les paramètres clés de qualité sont soigneusement contrôlés.
Les essais peuvent porter sur :
Des rapports d’essais détaillés peuvent être fournis selon les exigences du client afin de garantir que les cibles annulaires en SiO₂ livrées répondent aux exigences techniques spécifiées.
Emballage : les cibles annulaires en SiO₂ sont soigneusement protégées à l’aide de matériaux de rembourrage souples et emballées dans des cartons ou des caisses en bois sur mesure afin de minimiser les risques de chocs et de dommages pendant le transport.
Stockage : Stockez les cibles annulaires en SiO₂ dans un environnement propre et sec, et protégez-les de l’humidité, de la contamination et des substances corrosives telles que les acides et alcalis forts. Évitez les changements brusques de température et l’exposition prolongée à la lumière directe du soleil. Manipulez la cible avec précaution afin d’éviter tout dommage mécanique.
R : Une cible annulaire en SiO₂ est une cible en dioxyde de silicium fabriquée sous forme d’anneau pour les procédés de dépôt de couches minces. Elle est principalement utilisée dans les domaines de l’optique, des semi-conducteurs, de l’électronique, des écrans et d’autres applications de revêtement.
R : Oui. Nous pouvons proposer des dimensions, une géométrie, une pureté et d’autres spécifications techniques sur mesure, conformément aux plans fournis par le client et aux exigences de l’application.
R : Les applications typiques comprennent les revêtements optiques, les films minces pour semi-conducteurs et l’électronique, les revêtements d’écrans, les couches diélectriques, les revêtements protecteurs et les revêtements antireflets.
R : Le SiO₂ amorphe ne présente pas d’ordre cristallin à longue portée, tandis que les formes cristallines telles que le quartz possèdent une structure cristalline ordonnée. La structure requise dépend du procédé de fabrication de la cible et de l’application prévue du film mince.
VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) utilise un système d’assurance qualité rigoureux pour garantir la fiabilité de la qualité de ses produits. Un contrôle de qualité strict est mis en œuvre tout au long de la chaîne de production et, pour les produits défectueux, nous appliquons strictement le principe de la reprise et du remplacement. Chaque lot n’est libéré qu’après avoir passé des tests de spécification détaillés.
Chaque lot de nos matériaux est testé de manière indépendante et, si nécessaire, nous envoyons des échantillons à des entreprises certifiées pour qu’elles les testent. Nous fournissons ces documents et les certificats d’analyse avec l’envoi pour certifier que nos produits répondent aux normes requises.
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