Chlorure de hafnium(HfCl₄) est un composé inorganique couramment utilisé dans diverses applications industrielles et de recherche.Voici un aperçu détaillé de la poudre de chlorure d’hafnium (HfCl₄).
Propriétés
Chimique Formule : HfCl₄
Poids moléculaire : 320,30 g/mol
Apparence : Poudre cristalline blanche à blanc cassé.
Point de fusion : 432 °C (se décompose avant d’être bouilli).
Solubilité : Réagit avec l’eau (hydrolyse) pour former de l’oxychlorure de hafnium et de l’acide chlorhydrique (HCl).
Application
1. Dépôt chimique en phase vapeur (CVD) : Le chlorure de hafnium est utilisé comme précurseur dans le CVD pour produire des films minces de dioxyde de hafnium (HfO₂) et d’autres matériaux à base de hafnium.
Le HfO₂ est largement utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs, en particulier dans les matériaux diélectriques à k élevé pour les isolateurs de grille dans les transistors.
2. Synthèse de matériaux : Il est utilisé dans la préparation d’autres composés d’hafnium, tels que le carbure d’hafnium (HfC), l’oxyde d’hafnium (HfO₂) et divers alliages.
3. Catalyseurs : Le chlorure d’hafnium peut agir comme catalyseur ou précurseur de catalyseur dans les réactions de synthèse organique et de polymérisation.
4. Applications nucléaires : Les excellentes propriétés d’absorption des neutrons du hafnium rendent le HfCl₄ utile dans l’industrie nucléaire, où des matériaux à base de hafnium sont utilisés dans les barres de contrôle et autres composants des réacteurs nucléaires.
5. Utilisations métallurgiques : Le hafnium est souvent allié à d’autres métaux pour améliorer la résistance à la corrosion et la stabilité à haute température, en particulier dans les applications aérospatiales.
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