Cible en alliage cobalt-fer-bore (CoFeB) est un alliage composé de cobalt (Co), de fer (Fe) et de bore (B). En fonction de l’application spécifique, la composition élémentaire peut être ajustée en conséquence. En combinant les excellentes propriétés magnétiques du cobalt et du fer avec les caractéristiques chimiques uniques du bore, les cibles d’alliage CoFeB permettent la formation de films minces aux performances magnétiques exceptionnelles et à la microstructure fine pendant les processus PVD.
En tant que matériau fonctionnel de haute performance, Cibles en alliage CoFeB jouent un rôle irremplaçable dans un large éventail de domaines technologiques avancés.
Caractéristiques des cibles en alliage cobalt-fer-bore
Densité d’énergie magnétique élevée
Le CoFeB présente une densité d’énergie magnétique exceptionnellement élevée, ce qui lui permet d’offrir de fortes performances magnétiques même dans des volumes limités ou des configurations de films ultra-minces. Il est donc idéal pour la miniaturisation des appareils et l’intégration à haute densité.
Résistance aux températures élevées et stabilité thermique
Les propriétés magnétiques du CoFeB restent stables pendant le recuit à moyenne ou haute température et les étapes de traitement ultérieures. Sa structure et ses performances ne subissent qu’une dégradation minimale, ce qui le rend parfaitement adapté aux environnements de fabrication des semi-conducteurs et de la spintronique.
Ultraprécision et excellente uniformité du film
Les films pulvérisés à partir de cibles CoFeB peuvent être plus fins qu’un centième du diamètre d’un cheveu humain. La structure amorphe assure une composition uniforme et des surfaces lisses, ce qui permet un contrôle au niveau du nanomètre de l’épaisseur du film et des propriétés magnétiques.
Excellentes propriétés magnétiques douces
Avec une faible coercivité et une faible perte d’hystérésis, CoFeB permet une commutation magnétique facile, ce qui contribue à réduire la consommation d’énergie et à améliorer la vitesse de réponse des appareils électroniques.
Les cibles en alliage de cobalt fer bore sont le matériau de base des processus de pulvérisation magnétron. Les films magnétiques ultraminces déposés à partir de ces cibles améliorent considérablement les performances des puces mémoire des smartphones, des disques durs et même des bobines de recharge sans fil.
Ce que nous offrons？
Pureté : 3N (99,9%)
Dimensions : 1″, 2″, 3″, etc. (usinage sur mesure selon les dessins)
Formes : Cibles planes, cibles tubulaires et géométries personnalisées
Contrôle des impuretés : Disponible sur demande
Formes supplémentaires : Granules de CoFeB et morceaux de CoFeB
Préparation des cibles CoFeB
Préparation des matières premières : Des poudres de fer (Fe), de cobalt (Co) et de bore (B) de haute pureté sont préparées, généralement avec une pureté de 99,9 % ou plus.
Mélange des poudres : Les poudres sont mélangées dans des proportions spécifiques à l’aide d’un broyeur à billes pendant plusieurs heures, voire plus de dix heures, afin de garantir un mélange homogène.
Compactage : Les poudres mélangées sont pressées dans des moules sous des pressions allant de plusieurs centaines à plusieurs milliers de mégapascals.
Frittage : Les cibles compactées sont frittées dans un four à des températures allant de plusieurs centaines à plus de mille degrés Celsius pendant plusieurs heures à plus de dix heures, ce qui garantit une densité et une intégrité structurelle élevées.
Post-traitement : Les cibles frittées sont ensuite usinées par découpage, meulage et polissage pour obtenir les dimensions et la qualité de surface requises.
À quoi servent les cibles en alliage cobalt-fer-bore ?
Enregistrement magnétique :
En enregistrement magnétique les cibles CoFeB permettent une densité de stockage des données très élevée, répondant ainsi aux exigences croissantes de l’ère de l’information. Leurs propriétés magnétiques stables garantissent la fiabilité des données à long terme et minimisent le risque de perte d’informations.
Dépôt de couches minces :
Les cibles en alliage CoFeB sont largement utilisées dans les processus de pulvérisation magnétron, qui exigent une pureté extrêmement élevée et des microstructures uniformes. Grâce à des techniques spécialisées de fusion et de traitement thermique, les cibles CoFeB obtiennent des microstructures denses et homogènes, garantissant un contrôle précis de la composition et un dépôt de film uniforme.
Applications dans des environnements difficiles :
En ajoutant des éléments d’alliage appropriés, la stabilité environnementale du CoFeB peut être encore améliorée, ce qui le rend adapté à des applications exigeantes telles que l’aérospatiale et l’ingénierie marine.
Moteurs électriques :
Avec le développement rapide des technologies d’énergie verte, les cibles d’alliage CoFeB présentent un grand potentiel dans les moteurs à aimant permanent. Leur densité d’énergie magnétique élevée améliore considérablement l’efficacité des moteurs et réduit les pertes d’énergie, ce qui favorise les véhicules électriques, la production d’énergie éolienne et d’autres applications dans le domaine des énergies renouvelables.
Comment choisir la bonne cible ?
Le choix d’une cible de pulvérisation est comparable à celui d’un produit de soin de première qualité : la pureté et la microstructure sont importantes. Ces facteurs déterminent directement les performances du film final.
Une pureté élevée minimise l’incorporation d’impuretés et garantit la stabilité des propriétés du film.
Une densité élevée réduit l’éjection des particules pendant la pulvérisation et améliore l’uniformité du film.
Unetaille de grain fine contribue à un comportement plus uniforme lors de la pulvérisation, tandis qu’une orientation appropriée du grain peut améliorer l’efficacité du dépôt.
Grâce à des processus de traitement thermique spécialisés, les cibles en alliage CoFeB peuvent atteindre des microstructures optimisées. En ajustant la composition de l’alliage, les paramètres magnétiques des films déposés peuvent être adaptés avec précision.
Alors que les technologies des couches minces continuent de progresser, les exigences de performance des cibles de pulvérisation deviennent de plus en plus strictes. L’émergence de cibles nanostructurées et composites élargit encore les limites d’application de la technologie de pulvérisation magnétron.