VI HALBLEITERMATERIAL GmbH propose une gamme complète de matériaux d’évaporation de haute pureté et de haute performance. matériaux d’évaporation. Ces matériaux permettent d’obtenir les propriétés de revêtement requises. Notre inventaire comprend une variété de formes (telles que granulés, pellets, grenaille, comprimés, morceaux, fils), avec des puretés allant de 99,0 % à 99,9999 %.
Nos capacités de production avancées nous permettent de fabriquer sur mesure des matériaux de la forme et de la pureté souhaitées, dans des quantités allant de quelques grammes à des centaines de kilogrammes. Chaque lot de matériel d’évaporation est accompagné d’un certificat d’analyse, spécifique au lot en cours. Une fiche de données de sécurité (FDS) est fournie pour les matériaux dangereux.
Si les matériaux/spécifications d’évaporation requis ne figurent pas dans la liste, nous vous encourageons à à nous contacter.
NOTRE GUIDE DES MATÉRIAUX D'ÉVAPORATION
| Métal | Alliage | Oxyde | Céramique (non oxydée) | Chalcogénure | Métal précieux | Terre rare | Halogénure | Composé |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Al | AlCr | Al₂O₃ | CrC | Al₂Se₃ | Ag | CeF₃ | AlF₃ | ATO |
| En tant que | AlCu | Bi₂O₃ | FeB | As₂S₃ | Ag₂Se | CeO₂ | BaF₂ | AZO |
| B | AlSi | CaO | MoSi₂ | Ga₂S₃ | Au | Dy₂O₃ | BiI₃ | FTO |
| Co | AlV | Co₃O₄ | NbAlC | Ga₂Te₃ | AuSn | Eu | CaF₂ | IGZO |
| Cr | Ni₃Al | Cr₂O₃ | SiC | GaAs | Os | Sc₂O₃ | CuI | ITO |
| Cu | FeGa | CuO | Ti₃AlC₂ | GeS | Pd | Sm | GeI₂ | IZO |
| Fe | LaNi₅ | Fe₂O₃ | TiC | GeSbTe | Pt | EuSe | EnF₃ | YSZ |
| Ge | NiCr | HfO₂ | TiSiC | GeSe₂ | Ru | Gd | LaF₃ | ZTO |
| Hf | NiV | MgO | Ta₄HfC₅ | HfS₂ | … | TbBr₃ | LiF | BaTiO₃ |
| En | NiY | MoO₃ | B₄C | HfSe₂ | TbI₃ | MgF₂ | FeTiO₃ | |
| Li | SnAgCu | Nb₂O₅ | BN | HgTe | Tm | PbF₂ | LiAlO₂ | |
| Mg | CuZn | Sb₂O₃ | AlN | En₂S₃ | Y | … | LiNbO₃ | |
| Mn | MgNi | CoO | GaN | InAs | Y₂O₃ | Y₃Al₅O₁₂ | ||
| Mo | TiCr | SiO | NbN | InP | YbF₃ | BiFeO₃ | ||
| Nb | NbTi | SiO₂ | Mo₂C | PbSe | YbF₃ | BiFeO₃ | ||
| Ni | NbZr | SnO₂ | WC | PbTe | … | MgTiO₃ | ||
| Se | MgZn | SrO | ZrN | ZnS | MgSiO₃ | |||
| Si | FeCr | Ta₂O₅ | … | ZnSe | SrTiO₃ | |||
| Ta | TaNb | Ti₃O₅ | ZnTe | SrNbO₃ | ||||
| Ti | WTi | TiO₂ | … | ZnTiO₃ | ||||
| V | VZr | WO₃ | ZnTiO₃ | |||||
| Zn | ZrY | ZnO | ||||||
| Zr | … | ZrO₂ | ||||||
| … | … |
APPLICATION DES MATÉRIAUX D'ÉVAPORATION
L’évaporation sous vide, un processus impliquant la vaporisation d’un matériau de revêtement dans des conditions de vide et sa condensation sur la surface d’un substrat pour former un film, est une technologie de dépôt en phase vapeur ancienne et largement utilisée. Il offre des avantages tels qu’une méthode de formation de film simple, une pureté et une densité de film élevées, ainsi qu’une structure et des performances de film uniques.
Les matériaux d’évaporation, en tant que matériaux de base essentiels dans le secteur de l’information électronique, sont au premier plan de la chaîne de l’industrie électronique. Les matériaux d’évaporation de haute pureté sont largement utilisés dans divers domaines, notamment les modules de cellules solaires CIGS à couche mince à haut rendement, les composants d’éclairage OLED, les composants optiques, les diodes électroluminescentes et les écrans plats.
Les principales méthodes de préparation des cibles de pulvérisation comprennent actuellement le processus de moulage et le processus de métallurgie des poudres.
GUIDE DE SÉLECTION DES MATÉRIAUX D'ÉVAPORATION
Lors de la sélection du matériau d’évaporation optimal pour une application, plusieurs facteurs clés doivent être pris en compte : 1. L’indice de réfraction requis ; 2. La zone de couverture souhaitée ; 3. La forme et la taille des matériaux d’évaporation ; 4. L’admissibilité des vapeurs radioactives telles que le fluorure de thorium. En outre, d’autres considérations doivent être prises en compte dans le choix des matériaux d’évaporation :
En outre, d’autres facteurs doivent être pris en compte lors du choix des matériaux d’évaporation :
Test de l’effet de l’application
Le coût du matériau d’évaporation est relativement faible par rapport à la valeur globale du composant optique ou au temps investi dans les processus de revêtement. Il est donc impératif que le matériau d’évaporation soit compatible avec les systèmes à vide. Chaque lot de matériaux d’évaporation doit faire l’objet d’un examen portant sur tout ou partie des paramètres suivants :
1. Facilité d’évaporation ;
2. Surveillance des gaz résiduels ;
3. Mesure de l’indice de réfraction à l’état de film mince ;
ainsi que la répartition et la composition des autres composants matériels. La réalisation de ces tests nécessite une chambre d’évaporation équipée de sources de résistance électrique et de faisceaux d’électrons, de cryopompes, de systèmes de contrôle optique et de spectromètres.
Pureté chimique
En règle générale, les fournisseurs de matériaux d’évaporation spécifient la pureté globale, souvent exprimée par plusieurs “neuf” (par exemple, 99,999%). Cependant, une mesure plus pratique de la pureté est la quantité maximale autorisée de chaque impureté spécifique. Par exemple, dans un fluorure métallique, la teneur en oxyde peut influencer de manière significative l’indice de réfraction du film.
Processus
Les fournisseurs de matériaux d’évaporation doivent fournir aux utilisateurs des informations complètes sur le développement des matériaux. Cette approche permet aux entreprises de revêtement optique de maintenir une norme technologique contemporaine et de rester compétitives dans l’industrie.
Comme la technologie PVD évolue en réponse aux besoins dynamiques des processus de revêtement, la consistance et le volume des matériaux d’évaporation deviennent cruciaux. En sélectionnant soigneusement les matériaux d’évaporation et leurs fabricants, il est possible d’atténuer les incertitudes du processus de revêtement.