Siliciuro de titanio

El objetivo de pulverización catódica de siliciuro de titanio es un material compuesto principalmente de titanio y silicio para la deposición física de vapor, generalmente en estado sólido, con estabilidad química específica y propiedades físicas adecuadas, en el proceso de pulverización catódica puede depositar átomos de titanio y silicio en la superficie del sustrato, para formar una película delgada con buenas propiedades eléctricas y térmicas, Se utiliza en semiconductores, microelectrónica y muchos otros campos.

Suministramos objetivos de pulverización catódica de siliciuro de titanio, VIMATERIAL también puede proporcionar un servicio de encuadernación de objetivos, nuestros productos están sujetos a personalización y experimentación, contáctenos si lo necesita.

Características

Fórmula molecular: TiSi₂.

Peso molecular: alrededor de 104.05

Aspecto: Generalmente gris o negro sólido, con brillo metálico

Densidad: aprox. 4,3 – 4,9 g/cm³.

Punto de fusión: alrededor de 1540 °C

Estructura cristalina: pertenece al sistema cristalino ortorrómbico, en su estructura cristalina los átomos de titanio y los átomos de silicio están dispuestos de acuerdo con una ley específica, los átomos de silicio forman una estructura de red tridimensional, los átomos de titanio llenan los intersticios de los cuales, esta estructura hace que tenga una mejor estabilidad térmica y propiedades eléctricas.

Aplicaciones

Campo semiconductor: el objetivo de pulverización catódica de siliciuro de titanio se utiliza como siliciuro metálico para formar capas de contacto de baja resistencia e interconectar materiales, lo que puede reducir efectivamente la resistencia de contacto de los dispositivos y mejorar el rendimiento y la velocidad de los circuitos integrados.

Dispositivos microelectrónicos: Se puede utilizar como capa de barrera de difusión para evitar la difusión de átomos entre diferentes capas metálicas, mejorando así la estabilidad y confiabilidad del dispositivo y extendiendo la vida útil del dispositivo microelectrónico.

Industria fotovoltaica: El siliciuro de titanio se puede utilizar como material de electrodo de contacto para células solares a base de silicio, lo que ayuda a mejorar la eficiencia de conversión fotoeléctrica de las células y reducir la pérdida de energía.

Materiales de alta temperatura: El siliciuro de titanio se utiliza en materiales estructurales de alta temperatura y componentes electrónicos de alta temperatura, que pueden mantener la integridad y el rendimiento de los materiales en entornos de alta temperatura.

Dispositivos optoelectrónicos: El siliciuro de titanio se puede utilizar como un componente importante para mejorar la detección y conversión de señales ópticas en dispositivos optoelectrónicos aprovechando sus propiedades eléctricas y ópticas especiales.

Control de calidad

Nuestros productos están sujetos a un estricto sistema de gestión de calidad. Existen estrictos estándares de inspección para los materiales entrantes, el procesamiento, la inspección final y la inspección de fábrica. Se toman estrictas medidas de aislamiento para el procesamiento no calificado para evitar que los productos no calificados fluyan al siguiente proceso. Las muestras se proporcionan para la reinspección del cliente de acuerdo con los requisitos del cliente.

Embalaje y almacenamiento

Los objetivos de pulverización catódica de siliciuro de titanio se empaquetan en bolsas de vacío de doble capa y luego se empaquetan en cajas y cartones.

Los objetivos de pulverización catódica de siliciuro de titanio deben almacenarse en un ambiente seco, fresco, bien ventilado y a temperatura estable para evitar la humedad, la oxidación, la contaminación con sustancias corrosivas y los cambios drásticos de temperatura, y es mejor utilizar un embalaje herméticamente sellado para garantizar que sus propiedades físicas y químicas no se dañen.