| ID del producto | Fórmula | Purity | Dimensión | Quantity | Precio en € | Indagación |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 721400ST001 | HfSi2 | 99.8% (Zr< 0.5wt%) | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 721400ST002 | HfSi2 | 99.8% (Zr< 0.5wt%) | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 721400ST003 | HfSi2 | 99.8% (Zr< 0.5wt%) | Ø 101.6 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
El objetivo de siliciuro de hafnio es un material importante.
Información básica:
Composición química: compuesto por dos elementos, hafnio (Hf) y silicio (Si), fórmula química HfSi₂.
Nº CAS: 12401-56-8.
Aspecto: generalmente blanco sólido gris.
Densidad: Relativamente alta, lo que le da buena estabilidad y propiedades de transporte de material durante la pulverización catódica.
Punto de fusión: alto punto de fusión, buena resistencia a las altas temperaturas, capaz de mantener la estabilidad estructural durante el proceso de pulverización catódica.
Tamaño de partícula y cristalinidad: Por lo general, tiene una distribución de tamaño de partícula más uniforme y buena cristalinidad, lo cual es muy importante para la uniformidad y la calidad del recubrimiento pulverizado.
Ámbitos de aplicación
Deposición de película delgada: En la fabricación de semiconductores, los objetivos de siliciuro de hafnio se utilizan en procesos como la deposición física de vapor (PVD) y la deposición química de vapor (CVD) para preparar películas delgadas de alta calidad.
Recubrimiento óptico: se puede utilizar para preparar películas ópticas, como películas antirreflectantes, películas de mejora de la transmitancia, etc., que se utilizan en dispositivos ópticos, lentes, pantallas y otros campos.
Campo de comunicación óptica: En dispositivos de comunicación óptica, como amplificadores de fibra óptica, WDM, etc., los objetivos HfSi₂ se pueden utilizar para preparar películas ópticas relacionadas para lograr las funciones de transmisión, amplificación y multiplexación de señales ópticas.
Pantallas planas: En la fabricación de pantallas planas como pantallas de cristal líquido (LCD), pantallas de plasma (PDP), pantallas de diodos emisores de luz orgánica (OLED), etc., los objetivos de HfSi₂ se pueden utilizar para preparar películas delgadas como electrodos y capas aislantes. Estas películas pueden mejorar la resolución, el brillo, el contraste y otras propiedades de la pantalla, y tienen buena estabilidad y confiabilidad.
VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) emplea un estricto sistema de garantía de calidad para asegurar la fiabilidad de la calidad de nuestros productos. Se aplica un estricto control de calidad en toda la cadena de producción, y en el caso de productos defectuosos, aplicamos estrictamente el principio de reelaborar y rehacer. Cada lote se libera sólo después de superar pruebas detalladas de especificación.
Cada lote de nuestros materiales se somete a pruebas independientes y, si es necesario, enviamos muestras a empresas certificadas para que las prueben. Proporcionamos estos documentos y certificados de análisis con el envío para certificar que nuestros productos cumplen las normas exigidas.
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