Los objetivos de pulverización catódica de óxido de magnesio son materiales utilizados en procesos de deposición física de vapor (PVD), principalmente para crear películas delgadas de MgO en diversas aplicaciones, como recubrimientos protectores, capas ópticas y dispositivos electrónicos. Los objetivos de MgO son valorados por sus propiedades aislantes, su alto punto de fusión y su transparencia en los rangos visible e infrarrojo, lo que los hace adecuados para aplicaciones que requieren películas duraderas y de alta calidad.
Fórmula química:MgO
Masa molar:40.304 g/mol
Aspecto:Polvo blanco
Olor:Inodoro
Densidad:3,6 g/cm3
Punto de fusión: 2.852 °C (5.166 °F; 3.125 K)
Punto de ebullición: 3.600 °C (6.510 °F; 3.870 K)
Solubilidad:Soluble en ácido, amoníaco insoluble en alcohol
Recubrimientos protectores: Las películas de MgO se utilizan como recubrimientos protectores para materiales que operan a altas temperaturas o en entornos corrosivos, como en componentes aeroespaciales y lentes ópticas. Películas ópticas y transparentes: Debido a su transparencia óptica y su capacidad para transmitir luz infrarroja y visible, el MgO se utiliza en recubrimientos ópticos, tecnologías de visualización y películas antirreflectantes. Microelectrónica y dispositivos semiconductores: Los objetivos de pulverización catódica de óxido de magnesio se utilizan como capas aislantes o dieléctricos de puerta en dispositivos semiconductores. La alta constante dieléctrica y las propiedades aislantes hacen que las películas de MgO sean adecuadas para aplicaciones en transistores y condensadores de alto rendimiento. Uniones de túnel magnético (MTJ): El MgO se utiliza a menudo como capa de barrera de túnel en los MTJ, que son componentes clave en los dispositivos espintrónicos y en la tecnología de memoria magnética de acceso aleatorio (MRAM). Dispositivos biomédicos: Los objetivos de pulverización catódica de óxido de magnesio son biocompatibles y se utilizan como recubrimientos en dispositivos médicos, incluidos los implantes, donde sirven como barrera biocompatible y resistente a la corrosión.
Fragilidad: Los objetivos de pulverización catódica de óxido de magnesio son frágiles, lo que los hace susceptibles a agrietarse o astillarse durante la manipulación. Se requiere un manejo adecuado y un montaje cuidadoso en los sistemas de pulverización catódica para evitar daños. Naturaleza higroscópica: El MgO puede absorber la humedad del aire, lo que puede provocar una hidratación parcial y afectar el rendimiento de la pulverización catódica. El almacenamiento y la manipulación en condiciones secas son esenciales para mantener la integridad del objetivo. Entorno de pulverización catódica reactiva: El MgO puede requerir un entorno de pulverización catódica controlado para evitar reacciones no deseadas, especialmente en entornos con alto contenido de oxígeno. La pulverización catódica reactiva también puede afectar la velocidad de deposición y la calidad de la película.
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