| ID del producto | Fórmula | Purity | Dimensión | Quantity | Precio en € | Indagación |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 29140800ST001 | CuSiO3 | 99.99% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 29140800ST002 | CuSiO3 | 99.99% | Ø 76.2 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 29140800ST003 | CuSiO3 | 99.99% | Ø 101.6 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
El objetivo de pulverización catódica de óxido de cobre y silicio es un tipo de objetivo de pulverización catódica de compuesto cerámico compuesto por elementos de cobre, silicio y oxígeno, que se utiliza para la preparación de materiales de película delgada relevantes mediante pulverización catódica de magnetrón y otras técnicas, y tiene importantes aplicaciones en electrónica, óptica y otros campos.
VIMATERIAL proporciona objetivos de pulverización catódica de óxido de silicio y cobre de alta pureza, somos un proveedor profesional de materias primas químicas inorgánicas, nuestros objetivos de pulverización catódica se caracterizan por su alta pureza, buena planitud de la superficie, rendimiento estable del producto y buena consistencia del producto. Apoyamos el servicio personalizado y el servicio de encuadernación, si tiene problemas técnicos, contáctenos.
Fórmula molecular: CuSiO₃
Peso molecular: 143.63
Aspecto: generalmente polvo azul o azul verdoso
Densidad: aprox. 3,8 g/cm³.
Estructura cristalina: pertenece al sistema cristalino ortorrómbico, su estructura cristalina de iones de cobre, iones de silicio e iones de oxígeno de acuerdo con una cierta disposición espacial para formar una estructura de red cristalina estable, el tetraedro de silicio y oxígeno es la unidad estructural básica, los iones de cobre se distribuyen en la distribución de sus interacciones circundantes con la formación del cristal general.
Campo electrónico: utilizado en la fabricación de dispositivos electrónicos, puede desempeñar un papel en la deposición de la capa aislante de los chips de circuitos integrados, la película formada por pulverización catódica puede proporcionar buenas propiedades dieléctricas, lo que ayuda a mejorar el rendimiento y la estabilidad del chip.
Campo óptico: En el recubrimiento óptico, se puede utilizar para la preparación de lentes y filtros ópticos, etc. La película de óxido de cobre y silicio depositada puede ajustar el índice de refracción y la transmitancia de los componentes ópticos, reducir efectivamente la luz reflejada, aumentar la transmitancia de la luz y mejorar la calidad de imagen del sistema óptico.
Campo fotovoltaico: En la fabricación de células solares, se puede utilizar como material de capa amortiguadora potencial. La película delgada de CuSiO₃ formada por pulverización catódica ayuda a mejorar el rendimiento interfacial de la célula, aumentar la eficiencia de conversión fotovoltaica y, al mismo tiempo, mejorar la resistencia de la célula a los factores ambientales.
Campo semiconductor: como material de película delgada en el proceso de semiconductores, se aplica en la capa de pasivación o en la estructura de cableado multicapa de los chips semiconductores, lo que puede mejorar la resistencia a la corrosión y el rendimiento eléctrico del chip, y salvaguardar la confiabilidad y la vida útil de los dispositivos semiconductores.
Cada lote de productos tiene un estricto sistema de calidad para garantizar que los registros de inspección completos, todos los productos de fábrica se puedan rastrear y proporcionarán muestras al cliente después de la fábrica, para que los clientes vuelvan a inspeccionar. Tenemos una buena consistencia del producto y una alta reproducibilidad del producto.
Los objetivos de pulverización catódica de óxido de cobre y silicio generalmente están protegidos por bolsas de vacío dobles seguidas de cajas.
Los objetivos de pulverización catódica de óxido de cobre y silicio deben almacenarse en un ambiente seco, fresco y bien ventilado para evitar la humedad y la oxidación, y para evitar que entren en contacto con sustancias corrosivas como ácidos y álcalis, y al mismo tiempo, debemos asegurarnos de que la temperatura del entorno de almacenamiento sea estable, para evitar daños físicos a los objetivos debido a los cambios de temperatura, Y debemos tomar buenas medidas para evitar el polvo.
VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) emplea un estricto sistema de garantía de calidad para asegurar la fiabilidad de la calidad de nuestros productos. Se aplica un estricto control de calidad en toda la cadena de producción, y en el caso de productos defectuosos, aplicamos estrictamente el principio de reelaborar y rehacer. Cada lote se libera sólo después de superar pruebas detalladas de especificación.
Cada lote de nuestros materiales se somete a pruebas independientes y, si es necesario, enviamos muestras a empresas certificadas para que las prueben. Proporcionamos estos documentos y certificados de análisis con el envío para certificar que nuestros productos cumplen las normas exigidas.
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