| ID del producto | Fórmula | Purity | Dimensión | Quantity | Precio en € | Indagación |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 830800ST001 | Bi2O3 | 99.99% | Ø 25.4 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 830800ST002 | Bi2O3 | 99.99% | Ø 25.4 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 830800ST003 | Bi2O3 | 99.99% | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 830800ST004 | Bi2O3 | 99.99% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 830800ST005 | Bi2O3 | 99.99% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 830800ST006 | Bi2O3 | 99.99% | Ø 76.2 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 830800ST007 | Bi2O3 | 99.99% | Ø 101.6 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
Objetivos de pulverización catódica de óxido de bismuto Los objetivos de pulverización catódica de óxido de bismuto se utilizan en técnicas de deposición de película delgada, como la deposición física de vapor (PVD), específicamente la pulverización catódica de magnetrón, para crear recubrimientos delgados de Bi₂O₃ en varios sustratos. Estas películas delgadas se usan comúnmente en aplicaciones electrónicas, ópticas y energéticas.
Propiedades
Pureza: Por lo general, disponible en altas purezas (99,9% a 99,999%) para garantizar películas delgadas de alta calidad.
Densidad: ~8,9 g/cm³.
Punto de fusión: 817 °C.
Propiedades eléctricas: Los objetivos de pulverización catódica de óxido de bismuto pueden ser semiconductores, con una banda prohibida de ~ 2.8 eV.
Forma: Disponibles como objetivos circulares, rectangulares o de forma personalizada, según el sistema de pulverización catódica.
Aplicaciones
Electrónica:Se utiliza para depositar películas delgadas para la producción de componentes electrónicos como varistores, condensadores y resistencias. Importante para transistores de película delgada (TFT) y otros dispositivos semiconductores.
Óptica: Los objetivos de pulverización catódica de óxido de bismuto mejoran las propiedades ópticas como el índice de refracción, la transparencia y la reflectividad. Se utiliza en filtros ópticos, lentes y espejos debido a su alto índice de refracción.
Aplicaciones energéticas: Las películas delgadas de Bi₂O₃ se emplean en celdas de combustible de óxido sólido (SOFC) y otros dispositivos relacionados con la energía por su conductividad iónica.
Fotocatálisis: Las películas delgadas de Bi₂O₃ tienen propiedades fotocatalíticas, lo que les permite degradar los contaminantes orgánicos cuando se exponen a la luz.
Sensores: Se utiliza en sensores de gas debido a su sensibilidad a varios gases, incluidos los óxidos de oxígeno y nitrógeno.
Ventajas No tóxico y sin plomo: El óxido de bismuto es una alternativa más segura a los materiales a base de plomo en electrónica y recubrimientos.
Versatilidad de película delgada: Permite un control preciso sobre el espesor y la composición de la capa depositada, lo cual es crucial para ajustar las propiedades eléctricas y ópticas.
VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) emplea un estricto sistema de garantía de calidad para asegurar la fiabilidad de la calidad de nuestros productos. Se aplica un estricto control de calidad en toda la cadena de producción, y en el caso de productos defectuosos, aplicamos estrictamente el principio de reelaborar y rehacer. Cada lote se libera sólo después de superar pruebas detalladas de especificación.
Cada lote de nuestros materiales se somete a pruebas independientes y, si es necesario, enviamos muestras a empresas certificadas para que las prueben. Proporcionamos estos documentos y certificados de análisis con el envío para certificar que nuestros productos cumplen las normas exigidas.
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