El objetivo de óxido de estaño y titanio de bario es un objetivo de pulverización catódica con composición y propiedades específicas.
Composición química: Está formado por cuatro elementos: bario (Ba), titanio (Ti), estaño (Sn) y oxígeno (O).
Estructura cristalina: Tiene una estructura cristalina de tipo calcogenuro. Aspecto: Por lo general, un bulto sólido gris o negro, después del procesamiento fino se puede hacer en diferentes formas y tamaños de objetivos.
Densidad: alta densidad, lo que hace que el material objetivo pueda mantener una mejor estabilidad en el proceso de pulverización catódica, reducir las salpicaduras de partículas en el proceso de pulverización catódica, para garantizar la calidad de la película pulverizada.
Dureza: alta dureza, puede soportar el bombardeo de iones en el proceso de pulverización catódica, no es fácil de deformar o dañar, con una larga vida útil.
Campo electrónico: Debido a sus buenas propiedades eléctricas, el óxido de estaño y titanio de bario se puede utilizar para preparar películas delgadas en dispositivos electrónicos, como en dispositivos semiconductores como capa aislante y en condensadores como capa dieléctrica.
Campo óptico: tiene ciertas aplicaciones en el recubrimiento óptico y se puede usar para depositar películas delgadas en el sustrato mediante pulverización catódica del objetivo BaTiSnO ₃, que se puede usar para preparar películas antirreflectantes y películas que mejoran la transmitancia para lentes ópticas, y mejorar el rendimiento de los dispositivos ópticos.
Campo energético: también existen aplicaciones potenciales en células solares, pilas de combustible y otros dispositivos energéticos.
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