Nitruro de boro

El objetivo de pulverización catódica de nitruro de boro es un material utilizado en el proceso de pulverización catódica para depositar películas de nitruro de boro (BN) sobre un sustrato. La pulverización catódica es un tipo de deposición física de vapor (PVD) en la que iones o partículas de alta energía golpean un objetivo, lo que hace que los átomos o moléculas del material objetivo sean expulsados y depositados sobre un sustrato para formar una película delgada.

Propiedades físicas:

Fórmula química:BN

Masa molar:24,82 g/mol

Apariencia: Los objetivos de pulverización catódica de nitruro de boro suelen ser discos o placas sólidas y blancas.

Densidad:2.1 (h-BN); 3,45 (c-BN) g/cm3

Punto de fusión:2.973 °C (5.383 °F; 3.246 K) sublima (cBN)

Solubilidad en agua: insoluble

Pureza: Los objetivos de pulverización catódica están disponibles en varios grados de pureza, que suelen oscilar entre el 99 % y el 99,99 % para aplicaciones de alto rendimiento. Aislamiento eléctrico: El nitruro de boro es un excelente aislante eléctrico, lo que lo hace ideal para aplicaciones que requieren aislamiento eléctrico junto con una alta conductividad térmica.

Tipos de objetivos de pulverización catódica de nitruro de boro:

Nitruro de boro hexagonal (h-BN):

Esta forma se utiliza a menudo para crear películas delgadas lubricantes o aislantes. Tiene una estructura estratificada similar al grafito, lo que permite la deposición de películas delgadas con propiedades lubricantes. Se utiliza por su alta conductividad térmica y propiedades de aislamiento eléctrico. Común en aplicaciones como recubrimientos para dispositivos electrónicos, películas ópticas y como recubrimiento protector en entornos de alta temperatura.

Nitruro de boro cúbico (c-BN):

Los objetivos de pulverización catódica de nitruro de boro cúbico se utilizan cuando la aplicación exige dureza, como en herramientas de corte, materiales abrasivos y recubrimientos resistentes al desgaste. Esta forma de BN es el segundo material más duro conocido (después del diamante), lo que lo hace ideal para películas resistentes al desgaste en condiciones adversas.

Aplicaciones:

Deposición de película delgada:

• Recubrimientos lubricantes: Las películas hexagonales de nitruro de boro se usan comúnmente como lubricantes en entornos de alta temperatura, incluso en piezas mecánicas, recubrimientos de moldes y componentes aeroespaciales.
• Recubrimientos dieléctricos: Las películas de nitruro de boro se utilizan como materiales dieléctricos en dispositivos electrónicos y semiconductores debido a sus excelentes propiedades aislantes eléctricas.

Recubrimientos ópticos: Los objetivos de pulverización catódica de nitruro de boro se pueden utilizar en aplicaciones ópticas, como en espejos o recubrimientos que deben soportar altas temperaturas y ofrecer claridad óptica. Gestión térmica: La alta conductividad térmica del nitruro de boro lo hace adecuado para aplicaciones de disipadores de calor y otros componentes electrónicos donde la disipación de calor es crítica. Recubrimientos resistentes al desgaste: Los objetivos de pulverización catódica de nitruro de boro cúbico se utilizan en la deposición de películas duras para herramientas de corte, productos abrasivos y recubrimientos protectores en las industrias automotriz y manufacturera. Reflectores de neutrones: Las películas BN se utilizan en aplicaciones nucleares como reflectores de neutrones debido a su baja absorción de neutrones y alta estabilidad térmica.