El monóxido de silicio es un compuesto inorgánico con la fórmula química SiO. Es un compuesto compuesto por elementos silicio y oxígeno con un peso molecular de 60,0845. El SiO es un polvo sólido marrón con un alto punto de fusión y punto de ebullición. Es un compuesto relativamente estable, pero puede reaccionar con ciertas sustancias a altas temperaturas.
Aspecto: polvo amorfo de color marrón negro a loess Punto de fusión: 1702 °C Punto de ebullición: 1880 °C Densidad: 2,13 g / cm
Insoluble en agua. Puede disolverse en un ácido mixto de ácido fluorhídrico diluido y ácido nítrico y liberar tetrafluoruro de silicio y generar polvo de dióxido de silicio blanco cuando se calienta en el aire.
1. Materiales semiconductores: Debido a que el SiO tiene una alta pureza y excelentes propiedades físicas, es una materia prima importante para la preparación de materiales semiconductores. Al doparse con otros elementos, las propiedades conductoras del SiO se pueden ajustar para satisfacer las necesidades de diferentes dispositivos electrónicos. 2. Materiales ópticos: El SiO tiene una alta transparencia y buenas propiedades ópticas, por lo que a menudo se utiliza como material para preparar lentes ópticas, prismas y otros componentes ópticos. 3. Materiales cerámicos: El SiO también es un componente importante para la preparación de cerámicas de alto rendimiento. Estos materiales cerámicos tienen excelentes propiedades, como resistencia a altas temperaturas y resistencia a la corrosión, y son ampliamente utilizados en la industria aeroespacial, la fabricación de automóviles y otros campos.
Actualmente, existen dos métodos principales para preparar SiO: la deposición química de vapor y el método sol-gel. 1. Método de deposición química de vapor: bajo una cierta temperatura y presión, la fuente de silicio y la fuente de oxígeno se convierten en monóxido de silicio a través de una reacción química y se depositan en el sustrato. Este método puede preparar películas de monóxido de silicio de alta pureza y alta calidad. 2. Método sol-gel: Al disolver la fuente de silicio en un solvente para formar un sol, y luego someterse a pasos como la gelificación, el secado y el tratamiento térmico, finalmente se obtiene polvo de monóxido de silicio o material a granel. Este método es simple en el proceso, de bajo costo y adecuado para la producción a gran escala.
El SiO es un material aislante típico y no tiene la conductividad de los materiales semiconductores. Aunque el monóxido de silicio se usa ampliamente en el campo de la electrónica para fabricar capas aislantes y de aislamiento en circuitos integrados, no es un material semiconductor en sí mismo.
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