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Chemical Name:
Fluoruro de sodio
Formula:
NaF
Product No.:
110900
CAS No.:
7681-49-4
EINECS No.:
231-667-8
Form:
Sputtering Target
HazMat:

MSDS

TDS

ID del producto Fórmula Purity Dimensión Quantity Precio en € Indagación
110900ST001 NaF 99.95% Ø 25.4mm x 3.175mm 1 POR Inquire
110900ST002 NaF 99.95% Ø 25.4mm x 6.35mm 1 POR Inquire
ID del producto
110900ST001
Fórmula
NaF
Purity
99.95%
Dimensión
Ø 25.4mm x 3.175mm
Quantity
1
Precio en €
POR
ID del producto
110900ST002
Fórmula
NaF
Purity
99.95%
Dimensión
Ø 25.4mm x 6.35mm
Quantity
1
Precio en €
POR

El objetivo de pulverización catódica de fluoruro de sodio es una forma especializada de fluoruro de sodio que se utiliza en técnicas de deposición de película delgada, como la deposición física de vapor (PVD) y la pulverización catódica, para crear recubrimientos uniformes y de alta pureza en varios sustratos. Este objetivo permite la deposición precisa de fluoruro de sodio en aplicaciones que requieren recubrimientos ópticos, electrónicos o protectores.

Propiedades físicas:

Fórmula: NaF Peso molecular: 41,99 g/mol Apariencia: El objetivo suele aparecer como un sólido denso y blanco, normalmente en forma de disco circular o rectangular, preparado para su montaje en equipos de pulverización catódica. Pureza: Se requieren altos niveles de pureza, a menudo del 99,9% o más, para los objetivos de pulverización catódica para garantizar la calidad y la consistencia de las películas depositadas. Densidad: Aproximadamente 2.558 g/cm³, lo que garantiza la durabilidad durante el proceso de pulverización catódica. Propiedades térmicas: El fluoruro de sodio tiene un punto de fusión de alrededor de 993 °C (1,819 °F), que es adecuado para condiciones de pulverización catódica a alta temperatura.

Aplicaciones:

Recubrimientos ópticos: Los objetivos de pulverización catódica de fluoruro de sodio se usan ampliamente para depositar películas delgadas para recubrimientos ópticos debido a su transparencia en las regiones ultravioleta (UV) e infrarroja (IR). Estos recubrimientos a menudo se aplican a lentes, espejos y otros dispositivos ópticos para mejorar el rendimiento y controlar la transmisión de luz. Componentes semiconductores y electrónicos: Los objetivos de pulverización catódica de fluoruro de sodio a veces se aplican en la fabricación de semiconductores y en componentes electrónicos para modificar las propiedades de la superficie o proporcionar capas aislantes. Recubrimientos protectores y antirreflectantes: Los objetivos de pulverización catódica de fluoruro de sodio se utilizan en recubrimientos protectores que resisten la humedad, los productos químicos y otros factores ambientales, lo que los hace ideales para aplicaciones en entornos hostiles o reactivos. Investigación y desarrollo: Los objetivos de pulverización catódica de fluoruro de sodio se utilizan en investigación y desarrollo para la ciencia de los materiales y la tecnología de película delgada, lo que permite recubrimientos experimentales para el desarrollo de nuevos productos y el análisis de las propiedades de la película de fluoruro de sodio.

Seguridad y manejo:

Equipo de protección: El manejo de objetivos de fluoruro de sodio requiere equipo de protección adecuado, ya que el polvo de fluoruro de sodio puede ser tóxico si se inhala o ingiere. Se recomiendan gafas de seguridad, guantes y mascarillas. Almacenamiento: Almacene en un lugar seco y fresco, lejos de la humedad y materiales incompatibles como los ácidos fuertes para evitar problemas de descomposición o reactividad.

 

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