El objetivo de fluoruro de gadolinio es un importante objetivo de pulverización catódica con múltiples propiedades y aplicaciones.
Composición: el componente principal es el GdF₃, que está formado por los elementos gadolinio y flúor.
Apariencia: Por lo general, copos sólidos, redondos u otras formas personalizadas.
Densidad: relativamente alta, lo que le da a los objetivos de fluoruro de gadolinio una buena estabilidad durante la pulverización catódica.
Punto de fusión: 1231°C.
Dureza: Tiene un cierto grado de dureza para resistir el bombardeo y la abrasión de los iones durante el proceso de pulverización catódica.
Campo óptico: se puede utilizar para preparar películas ópticas, como el recubrimiento de películas GdF ₃ en lentes ópticas, filtros, dispositivos láser y otros componentes ópticos, que pueden mejorar el rendimiento de los componentes ópticos, como aumentar el índice de refracción y mejorar la transmitancia óptica.
Campo electrónico: en la fabricación de dispositivos electrónicos, el objetivo GdF ₃ se puede utilizar para la preparación de películas electrónicas, como dispositivos semiconductores, circuitos integrados y otros componentes electrónicos recubiertos con una película de fluoruro de gadolinio, puede mejorar el rendimiento de los componentes electrónicos, como mejorar la conductividad eléctrica, propiedades magnéticas mejoradas.
Investigación en ciencia de materiales: Debido a que el fluoruro de gadolinio tiene propiedades físicas y químicas únicas, los objetivos de fluoruro de gadolinio también tienen aplicaciones importantes en la investigación de ciencia de materiales.
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