Los objetivos de pulverización catódica de cobalto, silicio y boro son aleaciones metálicas de cobalto, silicio y boro con buena estabilidad térmica, dureza y propiedades eléctricas. Se utilizan principalmente en el proceso de recubrimiento por pulverización catódica para depositar películas delgadas de alto rendimiento sobre sustratos para electrónica y semiconductores.
VIMATERIAL ofrece objetivos de pulverización catódica de cobalto, silicio y boro. Nuestros objetivos de pulverización catódica de cobalto, silicio y boro se caracterizan por una excelente homogeneidad composicional, una pureza ultra alta y una excelente estabilidad de pulverización catódica, y también podemos proporcionar servicios de unión de objetivos. Contamos con un equipo profesional del R&D y podemos aceptar la personalización y los experimentos, por favor contáctenos.
Fórmula molecular: CoSiB
Peso molecular: alrededor de 97.83
Aspecto: Gris plateado o blanquecino, brillo metálico sólido.
Densidad: alrededor de 6 – 7 g/cm³
Punto de fusión: alrededor de 1200 – 1400 °C
Campo electrónico: utilizado en la fabricación de componentes electrónicos, puede formar una buena conductividad y estabilidad de la película, mejorar el rendimiento y la confiabilidad de los componentes.
Campo de semiconductores: En la producción de chips semiconductores, el objetivo puede depositar películas delgadas especiales para optimizar las características eléctricas y la estabilidad térmica del chip, y ayudar a mejorar la función del chip.
Campo de material magnético: se puede utilizar para preparar películas magnéticas, y sus propiedades magnéticas únicas pueden proporcionar un fuerte apoyo para el desarrollo de dispositivos de memoria magnética.
Sensores: Utilizada en la producción de sensores, la deposición de películas delgadas les da a los sensores excelentes características de sensibilidad y adaptabilidad ambiental, mejorando la precisión y estabilidad de los sensores.
Nuestros productos se implementan con el sistema de gestión de calidad más estricto, los materiales entrantes, el proceso, la inspección final, la inspección de fábrica tienen estrictos estándares de inspección, para el procesamiento no calificado utilizará estrictas medidas de aislamiento para evitar el flujo de productos no conformes al siguiente proceso, de acuerdo con los requisitos del cliente, proporcionará a los clientes muestras para que los clientes vuelvan a inspeccionar.
Los objetivos de pulverización catódica de cobalto, silicio y boro se empaquetan en bolsas de vacío dobles y cartones.
Los objetivos de pulverización catódica de cobalto, silicio y boro deben almacenarse en un ambiente seco y bien ventilado con una temperatura y humedad relativamente estables, evitando el contacto con ácidos, álcalis y otras sustancias corrosivas, evitando la humedad y la oxidación y, al mismo tiempo, estando bien protegidos de daños físicos como colisiones y extrusión.
VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) emplea un estricto sistema de garantía de calidad para asegurar la fiabilidad de la calidad de nuestros productos. Se aplica un estricto control de calidad en toda la cadena de producción, y en el caso de productos defectuosos, aplicamos estrictamente el principio de reelaborar y rehacer. Cada lote se libera sólo después de superar pruebas detalladas de especificación.
Cada lote de nuestros materiales se somete a pruebas independientes y, si es necesario, enviamos muestras a empresas certificadas para que las prueben. Proporcionamos estos documentos y certificados de análisis con el envío para certificar que nuestros productos cumplen las normas exigidas.
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