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Chemical Name:
Carburo de tantalio
Formula:
TaC
Product No.:
730600
CAS No.:
12070-06-3
EINECS No.:
235-118-3
Form:
Sputtering Target
HazMat:

MSDS

TDS

ID del producto Fórmula Purity Dimensión Quantity Precio en € Indagación
730600ST001 TaC 99.5% Ø 25.4 mm x 6.35 mm 1 POR Inquire
730600ST002 TaC 99.5% Ø 50.8 mm x 3.175 mm 1 POR Inquire
730600ST003 TaC 99.5% Ø 76.2 mm x 3.175 mm 1 POR Inquire
730600ST004 TaC 99.5% Ø 101.6 mm x 6.35 mm 1 POR Inquire
730600ST005 TaC 99.5% Ø 203.2 mm x 6.35 mm 1 POR Inquire
ID del producto
730600ST001
Fórmula
TaC
Purity
99.5%
Dimensión
Ø 25.4 mm x 6.35 mm
Quantity
1
Precio en €
POR
ID del producto
730600ST002
Fórmula
TaC
Purity
99.5%
Dimensión
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Quantity
1
Precio en €
POR
ID del producto
730600ST003
Fórmula
TaC
Purity
99.5%
Dimensión
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Quantity
1
Precio en €
POR
ID del producto
730600ST004
Fórmula
TaC
Purity
99.5%
Dimensión
Ø 101.6 mm x 6.35 mm
Quantity
1
Precio en €
POR
ID del producto
730600ST005
Fórmula
TaC
Purity
99.5%
Dimensión
Ø 203.2 mm x 6.35 mm
Quantity
1
Precio en €
POR

El objetivo de carburo de tantalio es un importante objetivo de pulverización catódica con una amplia gama de aplicaciones.

Información básica:

Composición: compuesto principalmente por carburo de tantalio (TaC), un compuesto formado por elementos tantalio (Ta) y carbono (C).
Alta dureza: Dureza de Mohs entre 9-10, comparable a la del diamante.
Alto punto de fusión: punto de fusión hasta 3880 °C.
Buena conductividad eléctrica: baja resistencia a temperatura ambiente, buena conductividad eléctrica, que favorece la formación de un plasma estable en el proceso de pulverización catódica, mejora la eficiencia de pulverización catódica y la calidad de la película.
Alta densidad: generalmente por encima de 14 g / cm³, lo que hace que el material objetivo en el proceso de pulverización catódica tenga una buena estabilidad, no es fácil de ser impactado por partículas de pulverización catódica y desplazamiento o deformación.

Áreas de aplicación:

Industria de semiconductores: En la fabricación de semiconductores, los objetivos de carburo de tantalio se pueden utilizar en el proceso de deposición física de vapor (PVD) para preparar películas delgadas con funciones específicas, como películas conductoras y capas de barrera.

Óptica: Utilizados en la preparación de películas ópticas, como películas antirreflectantes, películas de mejora de la transmisión, etc., pueden mejorar el rendimiento de los componentes ópticos y aumentar la resolución y la transmitancia de los sistemas ópticos.

Recubrimiento duro: Debido a su alta dureza y buena resistencia a la abrasión, se puede utilizar como material de recubrimiento duro en las superficies de herramientas de corte, moldes, etc. para mejorar su vida útil y rendimiento de corte.

Campo aeroespacial: En el campo aeroespacial, los objetivos de carburo de tantalio se pueden utilizar para preparar materiales estructurales de alta temperatura y recubrimientos resistentes al desgaste, como álabes de turbinas de motores a reacción y recubrimientos de boquillas de cohetes, etc., que pueden mejorar su rendimiento anticombustión y prolongar su vida útil.

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