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Chemical Name:
Carburo de tantalio
Formula:
TaC
Product No.:
730600
CAS No.:
12070-06-3
EINECS No.:
235-118-3
Form:
Powder
HazMat:
Class 4.1 / UN3178 / PG III
ID del producto Fórmula Purity Dimensión Quantity Precio en € Indagación
730600PD001 TaC 99.5% Fsss: ≤ 1.5 μm 200g 320.00 Inquire
ID del producto
730600PD001
Fórmula
TaC
Purity
99.5%
Dimensión
Fsss: ≤ 1.5 μm
Quantity
200g
Precio en €
320.00

El polvo de carburo de tantalio es un importante material metal-cerámico.

 

Propiedades básicas:

 

Fórmula química: la fórmula química es TaC, compuesto por dos elementos, tantalio (Ta) y carbono (C).
Aspecto: Por lo general, polvo de color marrón claro, marrón oscuro o negro similar al metal.
Estructura cristalina: pertenece al sistema cristalino cúbico tipo cloruro de sodio, con una estructura cristalina estable, que aporta propiedades físicas y químicas únicas.
Alto punto de fusión y punto de ebullición: el punto de fusión es de hasta 3880 °C, el punto de ebullición es de 4780 °C.
Alta densidad: 13,9 g/ml.
Buena conductividad eléctrica: resistencia de 30Ω a temperatura ambiente, buena conductividad eléctrica.

 

Método de preparación:

 

Método de carbonización de óxido de tantalio: el pentóxido de tantalio y el negro de humo se utilizan como materias primas, los dos se mezclan completamente y se colocan en el horno de reducción, y luego se calientan en hidrógeno o vacío a 1500 °C durante un período de tiempo, se puede producir el polvo de carburo de tantalio.

 

Campo de aplicación:

 

Aeroespacial: El carburo de tantalio se puede utilizar para fabricar materiales estructurales de alta temperatura y recubrimientos resistentes al desgaste, como álabes de turbinas de motores a reacción y recubrimientos de boquillas de cohetes, que pueden mejorar su resistencia a la ablación y prolongar su vida útil.

Campo electrónico: Carburo de tantalio debido a su buena conductividad y estabilidad, se puede utilizar como material de electrodo para mejorar la estabilidad y confiabilidad de los dispositivos electrónicos.

Campo cerámico: utilizado en la preparación de cerámica fina, puede mejorar el rendimiento de la cerámica, como mejorar la dureza y la resistencia a altas temperaturas de la cerámica.

Deposición química de vapor (CVD): se utiliza como materia prima para CVD para preparar películas y recubrimientos de alta calidad.

Producto recomendado

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