El objetivo de pulverización catódica de carburo de boro es un material utilizado en el proceso de pulverización catódica para depositar películas de carburo de boro sobre un sustrato. La pulverización catódica es un tipo de deposición física de vapor (PVD) en la que los iones o partículas se aceleran hacia el material objetivo, lo que hace que los átomos o moléculas sean expulsados y depositados sobre un sustrato para formar una película delgada.
Fórmula química: B4C
Masa molar:55.255 g/mol
Aspecto: Típicamente negro o gris oscuro, discos o placas sólidas.
Densidad:2,52 g/cm3, sólido.
Punto de fusión: Aproximadamente 2.350 °C (4.270 °F), lo que es beneficioso para aplicaciones de alta temperatura. Dureza: Material extremadamente duro con una dureza de Mohs de aproximadamente 9,3, lo que lo hace adecuado para aplicaciones que requieren resistencia a la abrasión y protección contra el desgaste.
Solubilidad en agua: insoluble
Aislamiento eléctrico: El carburo de boro es un aislante a temperatura ambiente, que puede ser importante en ciertas aplicaciones electrónicas. Pureza: Los objetivos de pulverización catódica de carburo de boro suelen estar disponibles en grados de alta pureza, como el 99% o el 99,99%, según los requisitos del proceso de deposición.
Recubrimientos resistentes al desgaste: Los objetivos de pulverización catódica de carburo de boro se depositan sobre sustratos para proporcionar una alta resistencia al desgaste en piezas mecánicas, herramientas y maquinaria expuestas a condiciones extremas. Recubrimientos duros: La extrema dureza del carburo de boro lo hace ideal para depositar películas duras utilizadas en herramientas de corte, abrasivos y equipos industriales que requieren una superficie dura y duradera. Protección balística: Los objetivos de pulverización catódica de carburo de boro se pueden usar en recubrimientos protectores para armaduras, ya que el carburo de boro es conocido por su capacidad para absorber y disipar energía. Recubrimientos de absorción de neutrones: Debido a sus propiedades de absorción de neutrones, las películas de carburo de boro se utilizan en aplicaciones nucleares para el blindaje de neutrones o en barras de control. Recubrimientos semiconductores y electrónicos: Los objetivos de pulverización catódica de carburo de boro se pueden utilizar como recubrimiento dieléctrico en dispositivos semiconductores, ofreciendo protección y aislamiento. Recubrimientos ópticos: En ciertas aplicaciones ópticas, las películas de carburo de boro se pueden usar por su dureza, especialmente cuando se requiere resistencia al desgaste y al rayado. Gestión térmica: La alta conductividad térmica del carburo de boro lo hace adecuado para aplicaciones que involucran disipación de calor, como en escudos térmicos y entornos de alta temperatura.
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