Carbon Sputtering Target es un material a base de carbono de alta pureza diseñado para su uso en procesos de pulverización catódica. La pulverización catódica es una técnica de deposición física de vapor (PVD) en la que los átomos son expulsados de un material objetivo (en este caso, carbono) debido al bombardeo de partículas de alta energía, generalmente para aplicaciones de película delgada. Los objetivos de pulverización catódica de carbono están diseñados para producir recubrimientos de carbono uniformes y de alta pureza en varios sustratos y se usan comúnmente en aplicaciones electrónicas, ópticas y de recubrimiento duro.
Fórmula: C. Aspecto: Sólido, en forma de disco o placa, generalmente negro con una superficie lisa. Densidad: Generalmente alrededor de 2,1 g/cm³ para objetivos amorfos o de grafito, aunque la densidad puede variar ligeramente según el proceso de fabricación. Pureza: Por lo general, 99.99% o más para la mayoría de las aplicaciones de alta tecnología, lo que minimiza las impurezas que podrían afectar la calidad de la película delgada. Dimensiones: Disponible en varios tamaños (diámetros y espesores) dependiendo del equipo y de los requisitos de recubrimiento. Estructura: A menudo hecha de carbono amorfo o grafito altamente ordenado, dependiendo de la aplicación específica.
Semiconductores y microelectrónica: Se utilizan en la producción de películas de carbono para transistores, diodos y otros componentes electrónicos. Recubrimientos ópticos: Las películas de carbono proporcionan recubrimientos ópticos para lentes, espejos y otros componentes ópticos, lo que mejora la durabilidad y las propiedades antirreflectantes. Almacenamiento de datos: En los discos duros y otros dispositivos de almacenamiento, los objetivos de pulverización catódica de carbono se utilizan para depositar capas protectoras y funcionales. Recubrimientos biomédicos: Las películas delgadas de carbono son biocompatibles y, a veces, se utilizan en recubrimientos de dispositivos médicos. Recubrimientos tribológicos: Los recubrimientos de carbono pueden crear superficies de baja fricción y resistentes al desgaste en piezas mecánicas.
Manejo: Los objetivos de pulverización catódica de carbono son frágiles, especialmente en tamaños más grandes, y deben manipularse con cuidado para evitar que se astillen o agrieten. Almacenamiento: Almacene en un ambiente seco y controlado, generalmente en el empaque proporcionado por el fabricante para evitar la contaminación o la exposición a la humedad. Limpieza: Utilice métodos de limpieza no abrasivos si es necesario, ya que las imperfecciones de la superficie pueden afectar la calidad de la pulverización catódica.
VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) emplea un estricto sistema de garantía de calidad para asegurar la fiabilidad de la calidad de nuestros productos. Se aplica un estricto control de calidad en toda la cadena de producción, y en el caso de productos defectuosos, aplicamos estrictamente el principio de reelaborar y rehacer. Cada lote se libera sólo después de superar pruebas detalladas de especificación.
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