El objetivo de pulverización catódica de aleación de zinc y galio es un tipo de material funcional con aleación de zinc y galio como componente principal, que se utiliza para la técnica física de deposición de vapor para hacer que los átomos de zinc y galio se depositen en el material del sustrato mediante bombardeo de iones, con el fin de preparar la película delgada utilizada en el campo de los semiconductores, la optoelectrónica, etc.
El objetivo de pulverización catódica de aleación de zinc y galio tiene una alta pureza y la proporción de zinc a galio en el objetivo se puede ajustar de acuerdo con las necesidades específicas de la aplicación, regulando así con precisión las características del objetivo de pulverización catódica. El objetivo de pulverización catódica de aleación de zinc y galio producido por VIMATERIAL tiene una buena homogeneidad y puede estar disponible el servicio de unión.
Fórmula molecular: ZnGa
Apariencia: Por lo general, material objetivo gris plateado
| composición de la aleación de zinc y galio (% en peso) | ||||||
| ZnGa | Fe | Cu | Al | Mg | Si | Pb |
| 99.99 | 0.0008 | 0.0004 | 0.0001 | 0.0001 | 0.0002 | 0.00001 |
Campo de semiconductores: se utiliza en la fabricación de películas delgadas en dispositivos semiconductores, como en la fabricación de obleas, puede formar una capa conductora, una capa de barrera, etc., para ayudar a mejorar el rendimiento y la integración de los chips semiconductores.
Campo de visualización de pantalla plana: puede preparar películas conductoras transparentes en pantallas planas, como en pantallas de cristal líquido (LCD), diodos emisores de luz orgánicos (OLED) y otras tecnologías de visualización, para ayudar a mejorar la calidad de visualización y la conductividad de la pantalla.
Campo de células solares: utilizado en la deposición de película delgada de células solares, puede mejorar la eficiencia de conversión fotoeléctrica y la estabilidad de las células solares, como electrodos conductores transparentes u otros materiales funcionales de preparación de películas.
Campo de recubrimiento óptico: se puede recubrir en lentes ópticas, ventanas ópticas y otros componentes ópticos, películas delgadas funcionales, mejorar el rendimiento de los componentes ópticos, como aumentar la transmisión de luz, antirreflectante, etc.
Campo de dispositivos electrónicos: utilizado en la preparación de dispositivos electrónicos en el electrodo, alambre y otros componentes, debido a su buena conductividad y adhesión al sustrato, puede reducir la resistencia del dispositivo electrónico, mejorar la velocidad de transmisión de la señal y la confiabilidad del dispositivo.
Bolsas de doble capa al vacío, se pueden personalizar en caja de acuerdo con los requisitos del cliente.
Cada lote será inspeccionado y acompañado de un informe de inspección, se pueden realizar otras inspecciones de acuerdo con los requisitos del cliente y se adjuntarán informes de inspección.
Los objetivos de pulverización catódica de aleación de zinc y galio deben almacenarse en un ambiente seco, fresco y bien ventilado, evitando la humedad, la oxidación, las impurezas y el impacto físico, y lejos del fuego y las sustancias corrosivas fuertes.
VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) emplea un estricto sistema de garantía de calidad para asegurar la fiabilidad de la calidad de nuestros productos. Se aplica un estricto control de calidad en toda la cadena de producción, y en el caso de productos defectuosos, aplicamos estrictamente el principio de reelaborar y rehacer. Cada lote se libera sólo después de superar pruebas detalladas de especificación.
Cada lote de nuestros materiales se somete a pruebas independientes y, si es necesario, enviamos muestras a empresas certificadas para que las prueben. Proporcionamos estos documentos y certificados de análisis con el envío para certificar que nuestros productos cumplen las normas exigidas.
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