VI HALBLEITERMATERIAL GmbH ofrece una amplia gama de materiales de evaporación de alta pureza y alto rendimiento materiales de evaporación. Estos materiales son fundamentales para conseguir las propiedades de recubrimiento requeridas. Nuestro inventario incluye una gran variedad de formas (como gránulos, pellets, pastillas, trozos, alambre) de materiales, con purezas que van del 99,0% al 99,9999%.
Nuestras avanzadas capacidades de producción nos permiten fabricar materiales a medida con cualquier forma y pureza deseadas, en cantidades desde gramos hasta cientos de kilogramos. Cada lote de material de evaporación va acompañado de un certificado de análisis, específico del lote en cuestión. Se proporciona una Hoja de Datos de Seguridad de Materiales (MSDS) para los materiales peligrosos.
Si los materiales/especificaciones de evaporación necesarios no figuran en la lista, te animamos a que que te pongas en contacto con nosotros.
NUESTRA GUÍA DE MATERIALES DE EVAPORACIÓN
| Metal | Aleación | Óxido | Cerámica (sin óxido) | Calcogenuro | Metal precioso | Tierras raras | Haluro | Compuesto |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Al | AlCr | Al₂O₃ | CrC | Al₂Se₃ | Ag | CeF₃ | AlF₃ | ATO |
| En | AlCu | Bi₂O₃ | FeB | Como₂S₃ | Ag₂Se | CeO₂ | BaF₂ | AZO |
| B | AlSi | CaO | MoSi₂ | Ga₂S₃ | Au | Dy₂O₃ | BiI₃ | FTO |
| Co | AlV | Co₃O₄ | NbAlC | Ga₂Te₃ | AuSn | Eu | CaF₂ | IGZO |
| Cr | Ni₃Al | Cr₂O₃ | SiC | GaAs | Os | Sc₂O₃ | CuI | ITO |
| Cu | FeGa | CuO | Ti₃AlC₂ | GeS | Pd | Sm | GeI₂ | IZO |
| Fe | LaNi₅ | Fe₂O₃ | TiC | GeSbTe | Pt | EuSe | EnF₃ | YSZ |
| Ge | NiCr | HfO₂ | TiSiC | GeSe₂ | Ru | Gd | LaF₃ | ZTO |
| Hf | NiV | MgO | Ta₄HfC₅ | HfS₂ | … | TbBr₃ | LiF | BaTiO₃ |
| En | NiY | MoO₃ | B₄C | HfSe₂ | TbI₃ | MgF₂ | FeTiO₃ | |
| Li | SnAgCu | Nb₂O₅ | BN | HgTe | Tm | PbF₂ | LiAlO₂ | |
| Mg | CuZn | Sb₂O₃ | AlN | En₂S₃ | Y | … | LiNbO₃ | |
| Mn | MgNi | CoO | GaN | InAs | Y₂O₃ | Y₃Al₅O₁₂ | ||
| Mo | TiCr | SiO | NbN | InP | YbF₃ | BiFeO₃ | ||
| Nb | NbTi | SiO₂ | Mo₂C | PbSe | YbF₃ | BiFeO₃ | ||
| Ni | NbZr | SnO₂ | WC | PbTe | … | MgTiO₃ | ||
| Se | MgZn | SrO | ZrN | ZnS | MgSiO₃ | |||
| Si | FeCr | Ta₂O₅ | … | ZnSe | SrTiO₃ | |||
| Ta | TaNb | Ti₃O₅ | ZnTe | SrNbO₃ | ||||
| Ti | WTi | TiO₂ | … | ZnTiO₃ | ||||
| V | VZr | WO₃ | ZnTiO₃ | |||||
| Zn | ZrY | ZnO | ||||||
| Zr | … | ZrO₂ | ||||||
| … | … |
APLICACIÓN DE MATERIALES DE EVAPORACIÓN
La evaporación al vacío, un proceso que implica la vaporización del material de recubrimiento en condiciones de vacío y su condensación en la superficie de un sustrato para formar una película, es una tecnología de deposición de vapor temprana y ampliamente utilizada. Ofrece ventajas como un método sencillo de formación de la película, alta pureza y densidad de la película, y una estructura y rendimiento de la película únicos.
Los materiales de evaporación, como industria crítica de materiales de base en el sector de la información electrónica, están a la vanguardia de la cadena de la industria electrónica. Los materiales de evaporación de alta pureza se utilizan ampliamente en diversos campos, como los módulos de células solares CIGS de película fina de alta eficiencia, los componentes de iluminación OLED, los componentes ópticos, los diodos emisores de luz y las pantallas planas.
Los métodos de preparación de cátodos para sputtering predominantes en la actualidad son el proceso de fundición y el proceso pulvimetalúrgico.
GUÍA DE SELECCIÓN DE MATERIALES DE EVAPORACIÓN
Al seleccionar el material de evaporación óptimo para una aplicación, deben tenerse en cuenta varios factores clave, entre ellos: 1. El índice de refracción requerido; 2. El área de cobertura deseada; 3. La forma y el tamaño de los materiales de evaporación; 4. La permisibilidad de vapores radiactivos como el fluoruro de torio. Además, deben tenerse en cuenta otras consideraciones a la hora de seleccionar los materiales de evaporación:
Además, al elegir los materiales de evaporación deben tenerse en cuenta otros factores:
Prueba de efecto de la aplicación
El coste del material de evaporación es relativamente menor si se compara con el valor global del componente óptico o con el tiempo invertido en los procesos de recubrimiento. En consecuencia, es imprescindible que el material de evaporación sea compatible con los sistemas de vacío. Cada lote de materiales de evaporación debe someterse al examen de algunos o todos los parámetros siguientes:
1. Facilidad de evaporación;
2. Control de gases residuales;
3. Medición del índice de refracción en estado de película fina;
Y la distribución y composición del resto de componentes materiales. Para realizar estas pruebas se necesita una cámara de evaporación equipada con resistencia eléctrica y fuentes de haces de electrones, criobombas, sistemas de control óptico y espectrómetros.
Pureza química
Normalmente, los proveedores de materiales de evaporación especifican la pureza global, a menudo denotada como varios “nueves” (por ejemplo, 99,999%). Sin embargo, una medida más práctica de la pureza es la cantidad máxima permitida de cada impureza específica. Por ejemplo, en un fluoruro metálico, el contenido de óxido puede influir significativamente en el índice de refracción de la película.
Proceso
Los proveedores de materiales de evaporación deben proporcionar a los usuarios información completa sobre el desarrollo de los materiales. Este enfoque permite a las empresas de revestimiento óptico mantener un estándar tecnológico contemporáneo y seguir siendo competitivas en el sector.
A medida que la tecnología PVD evoluciona en respuesta a las necesidades dinámicas de los procesos de recubrimiento, la consistencia y el volumen de los materiales de evaporación se vuelven cruciales. Mediante una cuidadosa selección tanto de los materiales de evaporación como de sus fabricantes, es posible mitigar las incertidumbres del proceso de recubrimiento.