¿Para qué se utilizan los objetivos de pulverización catódica?

Ver nuestros productos

Los objetivos de pulverización catódica son materiales utilizados para preparar películas delgadas.
Se utilizan principalmente en el proceso de pulverización catódica de la tecnología de deposición física de vapor (PVD).
Como fuente de materiales, los propios objetivos de pulverización catódica son generalmente metales o compuestos con una pureza extremadamente alta.
Los objetivos de pulverización catódica no solo se utilizan ampliamente en la industria electrónica, sino también en la optoelectrónica, la energía, la química, la medicina y las ciencias de la vida.

Sputtering Target - VIMATERIAL

I. Clasificación de los objetivos de pulverización catódica

De acuerdo con los diferentes procesos de preparación y campos de aplicación, los objetivos de pulverización catódica se pueden dividir en muchos tipos, incluidos objetivos metálicos, objetivos de aleación, objetivos de metales raros, objetivos de óxido, objetivos de nitruro, objetivos de carburo, objetivos de boruro, objetivos de sulfuro, objetivos de fluoruro, etc.

Objetivos metálicos

Los objetivos metálicos son objetivos hechos de un solo metal o aleación metálica, como cobre, aluminio, titanio, etc.
Estos objetivos son favorecidos por su buena conductividad eléctrica y térmica.

Campos de aplicación: Ampliamente utilizado en semiconductores, dispositivos de memoria, tecnología de visualización y otros campos.
Por ejemplo, los objetivos de cobre se utilizan para formar canales conductores finos en circuitos integrados; Los objetivos de aluminio son muy importantes en la fabricación de circuitos integrados y electrodos de visualización.

Objetivos de aleación

Los objetivos de aleación están hechos de dos o más metales mezclados en una proporción específica y tienen propiedades físicas o químicas especiales que un solo objetivo metálico no tiene.

Campos de aplicación: Por ejemplo, los objetivos de aleación de níquel-cromo son muy útiles en la fabricación de películas resistentes a la corrosión y estables a altas temperaturas.

Objetivos de metales raros

Fabricados con metales raros como el molibdeno, el platino, etc., estos materiales son muy importantes en aplicaciones específicas debido a sus propiedades químicas y físicas únicas.

Áreas de aplicación: Comúnmente utilizado en la fabricación de películas delgadas de alto rendimiento, como aplicaciones en la industria aeroespacial y la electrónica de alta gama.

Objetivos de óxido

Los objetivos de óxido están compuestos por óxidos metálicos, como el óxido de indio y estaño (ITO) y el óxido de zinc.
Estos objetivos tienen una excelente transparencia y conductividad.

Áreas de aplicación: Se utiliza principalmente en la fabricación de películas conductoras transparentes como pantallas táctiles, pantallas de cristal líquido, células solares y varios sensores.

IGZO Sputtering Target - VIMATERIAL
Objetivo de pulverización catódica IGZO
Objetivos de nitruro

Los blancos de nitruro son compuestos de nitrógeno y metales, que generalmente tienen una alta estabilidad térmica y una excelente estabilidad química.
Además de las sales y los nitruros metálicos, también existen nitruros covalentes como el nitruro de aluminio, el nitruro de boro y el nitruro de silicio.

Áreas de aplicación: Nuestros objetivos de pulverización catódica de nitruro cerámico se utilizan para aplicaciones innovadoras en industrias de rápido desarrollo, como las industrias solar y automotriz, la tecnología de iluminación LED, la ingeniería mecánica y la tecnología industrial.

Objetivos de carburo

Los blancos de carburo son una clase de materiales con propiedades físicas y químicas extremas y una excelente estabilidad térmica a altas temperaturas.

Áreas de aplicación: Los objetivos de carburo son ampliamente utilizados en semiconductores, optoelectrónica, registro magnético, células solares y otros campos.

Objetivos de borida

Los blancos de boruro tienen excelentes propiedades como alta dureza, alta estabilidad química y resistencia al desgaste.

Áreas de aplicación: Los blancos de boruro tienen amplias perspectivas de aplicación en la preparación de películas delgadas de metal, semiconductores y cerámicas y el recubrimiento de componentes electrónicos nucleares solares.

Objetivos de sulfuro

Los compuestos compuestos de azufre y elementos metálicos tienen muchas propiedades especiales, como la estabilidad a altas temperaturas y excelentes propiedades fotoeléctricas.

Áreas de aplicación: Los objetivos de sulfuro se utilizan ampliamente en los campos de la química, los materiales y la electrónica, y se utilizan principalmente para fabricar dispositivos optoelectrónicos, como células fotovoltaicas y sensores fotoeléctricos.
También se pueden utilizar como precursores de materiales de recubrimiento de superficies, materiales anticorrosivos, semiconductores y otros materiales, y son ampliamente utilizados.

Objetivos de fluoruro

Los objetivos de fluoruro son adecuados para la fabricación de capas de película no convencionales, como el fluoruro de zinc y el fluoruro de calcio.
Estas capas de película tienen las características de reflexión, resistencia a la corrosión y decoloración óptica.

Áreas de aplicación: Se pueden utilizar en campos como paneles solares y espejos protectores.

II.Aplicación de los objetivos de pulverización catódica en la industria

Aplicaciones de la industria de semiconductores

En la industria de los semiconductores, los objetivos de pulverización catódica se utilizan para fabricar capas metálicas, capas aislantes y capas conductoras en circuitos integrados.
La calidad de estas capas de película delgada afecta directamente el rendimiento y la confiabilidad del producto final.

Objetivos de uso común: objetivos de aluminio de ultra alta pureza, objetivos de titanio, objetivos de cobre, objetivos de tantalio, etc., que se utilizan principalmente para formar canales conductores, mientras que los objetivos de óxido se utilizan para fabricar capas aislantes.

Los más altos requisitos técnicos en términos de rendimiento, metales de ultra alta pureza, alta uniformidad, dimensiones de alta precisión y alta integración para satisfacer las necesidades de menor tamaño y mayor rendimiento.

Mo sputtering target - VIMATERIAL
Objetivo de pulverización catódica Mo
Aplicaciones de películas ópticas

Las películas ópticas se utilizan ampliamente en productos como pantallas, lentes y ventanas para proporcionar funciones de reflexión, antirreflexión y filtrado de luz.

Por ejemplo, los objetivos de nitruro de silicio se utilizan para fabricar películas conductoras transparentes, mientras que los objetivos de aluminio o plata se utilizan para fabricar películas reflectantes.

Altos requisitos técnicos en términos de rendimiento, materiales de alta pureza, gran área de material y buena uniformidad.

Aplicaciones de células solares

Las capas de película delgada en las células solares se pueden preparar mediante tecnología de pulverización catódica, incluidas las capas de absorción, las capas conductoras transparentes y las capas reflectantes.
Las condiciones de selección y preparación de los objetivos de pulverización catódica tienen un impacto importante en la eficiencia de conversión fotoeléctrica de las células solares.

Objetivos de uso común: objetivos de aluminio de alta pureza, objetivos de cobre, objetivos de molibdeno, objetivos de cromo, objetivos ITO, etc.

En cuanto al rendimiento, los requisitos técnicos son altos y la gama de aplicaciones es amplia.

Aplicaciones de película magnética

Los objetivos de pulverización catódica también se pueden utilizar para preparar películas magnéticas para aplicaciones como dispositivos de almacenamiento magnético y sensores.

Objetivos de uso común: objetivos a base de hierro, objetivos a base de níquel, objetivos a base de cromo, objetivos de aleación a base de cobalto, etc., que se utilizan principalmente en unidades ópticas, discos ópticos, etc.

En cuanto al rendimiento, alta densidad de almacenamiento y alta velocidad de transmisión.

Aplicaciones de películas conductoras

Se utiliza principalmente en aplicaciones como dispositivos electrónicos y pantallas táctiles.
Mediante el control de las condiciones de pulverización catódica, se pueden obtener películas con diferentes propiedades conductoras.

Objetivos de uso común: objetivos de aleación de níquel-cromo, objetivos de aleación de cromo-silicio, etc., que se utilizan principalmente en resistencias de película delgada y condensadores de película delgada.

Requisitos de rendimiento: tamaño pequeño, buena estabilidad y pequeño coeficiente de temperatura de resistencia de los dispositivos electrónicos.

Industria de películas decorativas

Las películas decorativas se utilizan principalmente para la decoración de la apariencia y la mejora funcional de automóviles, edificios y productos electrónicos de consumo.

Materiales clave: Los objetivos metálicos y aleados, como el cromo, el níquel, el titanio, etc., se utilizan ampliamente porque proporcionan colores y brillo únicos.

III. ¿Cómo elegir el objetivo de pulverización catódica?

Efecto de las propiedades del material en el efecto de pulverización catódica

Propiedades físicas: El punto de fusión, la conductividad térmica y la conductividad eléctrica del objetivo afectan directamente la estabilidad y la eficiencia del proceso de pulverización catódica.
Por ejemplo, los materiales con altos puntos de fusión y altas conductividades térmicas son más estables durante los procesos de pulverización catódica a alta temperatura.

Propiedades químicas: La estabilidad química y la resistencia a la corrosión del objetivo afectan la pureza y uniformidad de la película.
Los materiales químicamente estables reducen los niveles de impurezas en las películas.

Ceramic sputtering target - VIMATERIAL
Objetivos cerámicos de pulverización catódica
Pureza del material y calidad de pulverización catódica

Requisitos de pureza: Los materiales objetivo de alta pureza pueden mejorar significativamente la calidad de la película.
Los objetivos de menor pureza pueden introducir impurezas indeseables que afectan las propiedades eléctricas y físicas de la película.

Tecnología de pureza: Para lograr altos estándares de pureza, se requieren tecnologías de purificación sofisticadas, como el refinado electrolítico y la fusión al vacío, durante el proceso de producción.

Análisis del beneficio económico de los materiales objetivo

Costo vs. Beneficios: Al seleccionar un objetivo, existe un equilibrio entre el costo del material y el rendimiento esperado.
Los materiales de alto rendimiento pueden costar más, pero proporcionan mejores resultados de pulverización catódica y una vida útil más larga.

Oferta del mercado: La disponibilidad de materiales y las fluctuaciones de los precios del mercado también son consideraciones importantes.
Elegir materiales que estén fácilmente disponibles y que tengan un precio relativamente estable puede reducir los costos y riesgos de producción.

IV. Conclusión

Los blancos de pulverización catódica son un material utilizado para preparar películas delgadas y tienen una amplia gama de aplicaciones.
Su calidad y pureza son muy importantes para la preparación de películas delgadas de alta precisión, por lo que debe tener cuidado al comprar objetivos de pulverización catódica.

VIMATERIAL tiene una amplia experiencia en la industria objetivo y puede recomendarle los materiales más adecuados para usted de acuerdo con sus necesidades.
Si tiene alguna pregunta sobre los objetivos, no dude en ponerse en contacto con nosotros.

Contáctenos

Contáctenos