ABSCHEIDUNGSMATERIALIEN
VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) ist ein Anbieter von Materialien für die Dünnschichtabscheidung aus einer Hand. Unsere Produkte umfassen eine Reihe von Sputtertargets (einschließlich planarer Targets, rotierender Targets, Ring-Targets usw.), Aufdampfmaterialien (einschließlich Granulat, Pellets, Stücke, Schüsse, Perlen, Tabletten usw.), Trägerplatten, Klebeservices usw.
Unsere Produkte umfassen reine Metallwerkstoffe, Legierungswerkstoffe, Oxidwerkstoffe, Halogenidwerkstoffe, verschiedene keramische Abscheidungswerkstoffe wie Karbide/Nitride/Boride/Silizide und Seltenerdwerkstoffe.
Die VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) bietet Ihnen maßgeschneiderte Dienstleistungen zur Entwicklung neuartiger Targetmaterialien, die auf Ihre spezifischen Prozessanforderungen abgestimmt sind. Wenn Sie Fragen zu Sputtertargets und Aufdampfmaterialien haben, zögern Sie nicht uns zu kontaktieren.
Planare Sputtering-Targets
Wir bieten das umfassendste Angebot an hochreinen und leistungsstarken planaren Sputtertargets, die in allen Materialien und in der Regel in Form von Scheiben oder rechteckigen Platten erhältlich sind.
Planare Targets sind wichtige Materialien für PVD-Verfahren (Physical Vapor Deposition), insbesondere für das Sputtern. Diese Targets sind in der Regel flach und rechteckig oder kreisförmig, daher der Begriff “planar” Während des Sputterprozesses wird die Oberfläche des planaren Targets mit Ionen beschossen, wodurch Atome oder Moleküle aus dem Targetmaterial herausgeschleudert werden. Diese herausgeschleuderten Partikel lagern sich dann auf einem Substrat ab und bilden dünne Schichten mit spezifischen Eigenschaften.
Unsere Sputtertargets zeichnen sich durch hohe Reinheit, hervorragende Gleichmäßigkeit und feine Korngröße aus, was sich erheblich auf die Qualität der Beschichtung auswirkt, die in Branchen wie Elektronik, Halbleiter, Solarenergie und Optik weit verbreitet ist. Sie sind entscheidend für die Herstellung von Mikrochips, Bildschirmen, photovoltaischen Zellen und Beschichtungen für verschiedene Geräte. Diese Targets können je nach den gewünschten Filmeigenschaften aus Metallen, Legierungen, Keramiken oder anderen Verbindungen hergestellt werden.
Verdampfung Materialien
Wir bieten eine breite Palette von ultrahochreinen Materialien für die chemische Abscheidung aus der Gasphase an, die durch Schmelz- und Sintertechniken hergestellt werden, darunter Metalle und Oxide.
Aufdampfungsmaterialien sind Stoffe, die in Dünnschichtabscheidungsverfahren verwendet werden, insbesondere bei der thermischen Verdampfung oder der Elektronenstrahlverdampfung (allgemein bekannt als “E-Beam”). Bei diesen Verfahren wird das Material bis zu einem Punkt erhitzt, an dem es von einer festen oder flüssigen Phase in Dampf übergeht, der dann auf einem Substrat kondensiert und einen dünnen Film bildet. Sie sind in Branchen wie Halbleiter, Optik, Solarzellen und Schutzbeschichtungen unverzichtbar.
Unsere Aufdampfmaterialien bieten eine optimale Aufdampfleistung und stellen die fortschrittlichsten Beschichtungsergebnisse dar, um die strengen Anforderungen Ihrer wissenschaftlichen Forschung, Prozessentwicklung oder Großproduktion zu erfüllen. Alle Formen sind erhältlich, einschließlich Pellets, Granulat, Schrot, Perlen, Tabletten…
Rotierende Sputtertargets
Unsere rotierenden Sputtertargets zeichnen sich durch einen ausgereiften Produktionsprozess aus. Sie haben eine kompakte Struktur und eine höhere Auslastung, wodurch das Problem der geringen Auslastung planarer Targets gelöst und gleichzeitig eine hohe Gleichmäßigkeit bei der großflächigen Beschichtung gewährleistet wird.
Das Funktionsprinzip des Rotationstargets besteht darin, die Gleichmäßigkeit des Films durch Rotation des Targetmaterials selbst zu erhöhen. Durch diese Konstruktion wird sichergestellt, dass das auf der Zieloberfläche abgeschiedene Material gleichmäßiger ist, was die Qualität und Effizienz der Beschichtung verbessert.
Wenn Sie spezielle Größenanforderungen haben, senden Sie uns bitte Ihre Zeichnungen, und wir werden die Zielscheiben entsprechend Ihren Spezifikationen anpassen.
SPUTTERTARGETS, AUFDAMPFMATERIALIEN
PVD ist eine der wichtigsten Technologien zur Herstellung von Materialien für die Dünnschichtabscheidung. Zu den PVD-Beschichtungsmaterialien gehören vor allem Sputtertargets und Aufdampfmaterialien. Die VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) hat sich mit der Entwicklung der Dünnschichttechnologie und ihrer Anwendungen dem Ziel verschrieben, innovative Lösungen anzubieten und nachhaltige Werte für unsere Kunden zu schaffen.
VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) ist bestrebt, ein vertrauenswürdiger Partner für unsere Kunden zu sein und eine bedeutende Rolle in der Dünnschichtindustrie zu spielen.
