Die VI HALBLEITERMATERIAL GmbH bietet ein umfassendes Sortiment an hochreinen, leistungsstarken Aufdampfmaterialien. Diese Materialien tragen dazu bei, die erforderlichen Beschichtungseigenschaften zu erzielen. Unser Bestand umfasst eine Vielzahl von Formen (z.B. Granulat, Pellets, Schrot, Tabletten, Stücke, Draht) mit Reinheitsgraden von 99,0% bis 99,9999%.
Unsere fortschrittlichen Produktionskapazitäten ermöglichen es uns, Materialien in jeder gewünschten Form und Reinheit in Mengen von Gramm bis zu Hunderten von Kilogramm zu fertigen. Jede Charge von Verdunstungsmaterial wird von einem Analysezertifikat begleitet, das sich auf die aktuelle Charge bezieht. Für gefährliche Materialien gibt es ein Sicherheitsdatenblatt (MSDS).
Sollten die benötigten Verdampfungsmaterialien/Spezifikationen nicht aufgelistet sein, bitten wir Sie uns zu kontaktieren.

UNSER LEITFADEN FÜR VERDUNSTUNGSMATERIALIEN
Metall | Legierung | Oxid | Keramik (Nicht-Oxid) | Chalkogenid | Edelmetall | Seltene Erde | Halogenid | Verbindung |
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Al | AlCr | Al₂O₃ | CrC | Al₂Se₃ | Ag | CeF₃ | AlF₃ | ATO |
Als | AlCu | Bi₂O₃ | FeB | As₂S₃ | Ag₂Se | CeO₂ | BaF₂ | AZO |
B | AlSi | CaO | MoSi₂ | Ga₂S₃ | Au | Dy₂O₃ | BiI₃ | FTO |
Co | AlV | Co₃O₄ | NbAlC | Ga₂Te₃ | AuSn | Eu | CaF₂ | IGZO |
Cr | Ni₃Al | Cr₂O₃ | SiC | GaAs | Os | Sc₂O₃ | CuI | ITO |
Cu | FeGa | CuO | Ti₃AlC₂ | GeS | Pd | Sm | GeI₂ | IZO |
Fe | LaNi₅ | Fe₂O₃ | TiC | GeSbTe | Pt | EuSe | InF₃ | YSZ |
Ge | NiCr | HfO₂ | TiSiC | GeSe₂ | Ru | Gd | LaF₃ | ZTO |
Hf | NiV | MgO | Ta₄HfC₅ | HfS₂ | … | TbBr₃ | LiF | BaTiO₃ |
Unter | NiY | MoO₃ | B₄C | HfSe₂ | TbI₃ | MgF₂ | FeTiO₃ | |
Li | SnAgCu | Nb₂O₅ | BN | HgTe | Tm | PbF₂ | LiAlO₂ | |
Mg | CuZn | Sb₂O₃ | AlN | In₂S₃ | Y | … | LiNbO₃ | |
Mn | MgNi | CoO | GaN | InAs | Y₂O₃ | Y₃Al₅O₁₂ | ||
Mo | TiCr | SiO | NbN | InP | YbF₃ | BiFeO₃ | ||
Nb | NbTi | SiO₂ | Mo₂C | PbSe | YbF₃ | BiFeO₃ | ||
Ni | NbZr | SnO₂ | WC | PbTe | … | MgTiO₃ | ||
Se | MgZn | SrO | ZrN | ZnS | MgSiO₃ | |||
Si | FeCr | Ta₂O₅ | … | ZnSe | SrTiO₃ | |||
Ta | TaNb | Ti₃O₅ | ZnTe | SrNbO₃ | ||||
Ti | WTi | TiO₂ | … | ZnTiO₃ | ||||
V | VZr | WO₃ | ZnTiO₃ | |||||
Zn | ZrY | ZnO | ||||||
Zr | … | ZrO₂ | ||||||
… | … |
ANWENDUNG VON VERDUNSTUNGSMATERIALIEN
Die Vakuumverdampfung, ein Prozess, bei dem das Beschichtungsmaterial unter Vakuumbedingungen verdampft und auf einer Substratoberfläche kondensiert, um einen Film zu bilden, ist eine frühe und weit verbreitete Aufdampfungstechnologie. Es bietet Vorteile wie eine einfache Filmbildungsmethode, hohe Filmreinheit und -dichte sowie eine einzigartige Filmstruktur und -leistung.
Verdampfungsmaterialien stehen als kritische Basismaterialien im elektronischen Informationssektor an vorderster Front der elektronischen Industriekette. Hochreine Aufdampfmaterialien werden in verschiedenen Bereichen eingesetzt, darunter hocheffiziente CIGS-Dünnschicht-Solarzellenmodule, OLED-Beleuchtungskomponenten, optische Komponenten, Leuchtdioden und Flachbildschirme.
Zu den vorherrschenden Präparationsmethoden für Sputtertargets gehören derzeit das Gießverfahren und das pulvermetallurgische Verfahren.

LEITFADEN ZUR AUSWAHL VON VERDUNSTUNGSMATERIALIEN
Bei der Auswahl des optimalen Verdunstungsmaterials für eine Anwendung müssen mehrere Schlüsselfaktoren berücksichtigt werden, darunter: 1. Der erforderliche Brechungsindex; 2. Der gewünschte Erfassungsbereich; 3. Die Form und Größe der Verdunstungsmaterialien; 4. Die Zulässigkeit von radioaktiven Dämpfen wie Thoriumfluorid. Darüber hinaus sollten Sie bei der Auswahl der Verdunstungsmaterialien weitere Überlegungen anstellen:
Darüber hinaus sollten Sie bei der Auswahl der Verdunstungsmaterialien einige weitere Faktoren berücksichtigen:
Test der Anwendungswirkung
Die Kosten für das Aufdampfmaterial sind im Vergleich zum Gesamtwert der optischen Komponente oder der in die Beschichtungsprozesse investierten Zeit relativ gering. Daher ist es zwingend erforderlich, dass das Verdampfungsmaterial mit Vakuumsystemen kompatibel ist. Jede Charge von Verdunstungsmaterialien sollte auf einige oder alle der folgenden Parameter untersucht werden:
1. Einfache Verdunstung;
2. Restgasüberwachung;
3. Messung des Brechungsindexes im Dünnschichtzustand;
Und die Verteilung und Zusammensetzung der übrigen Materialkomponenten. Für die Durchführung dieser Tests ist eine Verdampfungskammer erforderlich, die mit elektrischen Widerstands- und Elektronenstrahlquellen, Kryopumpen, optischen Überwachungssystemen und Spektrometern ausgestattet ist.
Chemische Reinheit
In der Regel geben die Lieferanten von Verdampfungsmaterialien die Gesamtreinheit an, die oft mit mehreren Neunen angegeben wird (z.B. 99,999%). Ein praktischeres Maß für die Reinheit ist jedoch die maximal zulässige Menge jeder spezifischen Verunreinigung. Bei einem Metallfluorid zum Beispiel kann der Oxidgehalt den Brechungsindex des Films erheblich beeinflussen.
Prozess
Von den Anbietern von Verdunstungsmaterialien wird erwartet, dass sie den Nutzern umfassende Informationen über die Entwicklung der Materialien zur Verfügung stellen. Dieser Ansatz ermöglicht es optischen Beschichtungsunternehmen, einen zeitgemäßen technologischen Standard zu halten und in der Branche wettbewerbsfähig zu bleiben.
Da sich die PVD-Technologie als Reaktion auf die dynamischen Anforderungen der Beschichtungsprozesse weiterentwickelt, werden die Konsistenz und das Volumen der Verdampfungsmaterialien immer wichtiger. Durch eine sorgfältige Auswahl sowohl der Verdampfungsmaterialien als auch ihrer Hersteller ist es möglich, die Unsicherheiten im Beschichtungsprozess zu verringern.