Sputtertargets sind Materialien, die zur Herstellung dünner Schichten verwendet werden.
Sie werden hauptsächlich im Sputterprozess der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) Technologie eingesetzt.
Sputtertargets selbst sind in der Regel Metalle oder Verbindungen mit extrem hoher Reinheit.
Sputtertargets sind nicht nur in der Elektronikindustrie weit verbreitet, sondern auch in der Optoelektronik, Energie, Chemie, Medizin und Life Sciences.
I. Klassifizierung von Sputtertargets
Entsprechend den verschiedenen Präparationsprozessen und Anwendungsbereichen können Sputtertargets in viele Typen unterteilt werden, darunter Metalltargets, Legierungstargets, Rare Metal-Targets, Oxidtargets, Nitridtargets, Carbidtargets, Boridtargets, Sulfidtargets, Fluoridtargets usw.
Metall-Targets
Metalltargets sind Targets, die aus einem einzelnen Metall oder einer Metalllegierung wie Kupfer, Aluminium, Titan usw. bestehen.
Diese Targets werden aufgrund ihrer guten elektrischen und thermischen Leitfähigkeit bevorzugt.
Anwendungsgebiete: Weit verbreitet in Halbleitern, Speichergeräten, Display-Technologie und anderen Bereichen.
Kupfertargets werden beispielsweise verwendet, um feine leitende Kanäle in integrierten Schaltkreisen zu bilden; Aluminium-Targets sind bei der Herstellung von integrierten Schaltkreisen und Display-Elektroden von großer Bedeutung.
Legierungs-Targets
Legierungstargets bestehen aus zwei oder mehr Metallen, die in einem bestimmten Verhältnis gemischt sind, und haben besondere physikalische oder chemische Eigenschaften, die ein einzelnes Metalltarget nicht hat.
Anwendungsgebiete: So sind z.B. Targets aus Nickel-Chrom-Legierungen sehr nützlich bei der Herstellung von korrosionsbeständigen und hochtemperaturstabilen Schichten.
Ziele für seltene Metalle
Hergestellt aus seltenen Metallen wie Molybdän, Platin usw., sind diese Materialien aufgrund ihrer einzigartigen chemischen und physikalischen Eigenschaften in bestimmten Anwendungen sehr wichtig.
Anwendungsbereiche: Wird häufig bei der Herstellung von Hochleistungs-Dünnschichten verwendet, z. B. für Anwendungen in der Luft- und Raumfahrt und in der High-End-Elektronik.
Oxid-Ziele
Oxidziele bestehen aus Metalloxiden wie Indiumzinnoxid (ITO) und Zinkoxid.
Diese Targets weisen eine ausgezeichnete Transparenz und Leitfähigkeit auf.
Anwendungsbereiche: Wird hauptsächlich bei der Herstellung von transparenten leitfähigen Folien wie Touchscreens, Flüssigkristallanzeigen, Solarzellen und verschiedenen Sensoren verwendet.
Nitrid-Targets
Nitrid-Targets sind Verbindungen aus Stickstoff und Metallen, die in der Regel eine hohe thermische Stabilität und eine ausgezeichnete chemische Stabilität aufweisen.
Neben Salzen und Metallnitriden gibt es auch kovalente Nitride wie Aluminiumnitrid, Bornitrid und Siliziumnitrid.
Anwendungsbereiche: Unsere nitridkeramischen Sputtertargets werden für innovative Anwendungen in sich schnell entwickelnden Industrien eingesetzt, wie z.B. der Solar- und Automobilindustrie, der LED-Beleuchtungstechnik, dem Maschinenbau und der Industrietechnik.
Hartmetall-Targets
Hartmetalltargets sind eine Werkstoffklasse mit extremen physikalischen und chemischen Eigenschaften und hervorragender thermischer Stabilität bei hohen Temperaturen.
Anwendungsbereiche: Hartmetalltargets werden häufig in Halbleitern, Optoelektronik, magnetischer Aufzeichnung, Solarzellen und anderen Bereichen eingesetzt.
Borid-Ziele
Borid-Targets weisen hervorragende Eigenschaften wie hohe Härte, hohe chemische Stabilität und Verschleißfestigkeit auf.
Anwendungsbereiche: Borid-Targets haben breite Anwendungsperspektiven bei der Herstellung von Metall-, Halbleiter- und Keramik-Dünnschichten und der Beschichtung von solaren nuklearen elektronischen Bauteilen.
Sulfid-Ziele
Verbindungen, die aus Schwefel- und Metallelementen bestehen, haben viele besondere Eigenschaften, wie z. B. eine hohe Temperaturstabilität und hervorragende photoelektrische Eigenschaften.
Anwendungsgebiete: Sulfidtargets sind in den Bereichen Chemie, Materialien und Elektronik weit verbreitet und werden hauptsächlich zur Herstellung optoelektronischer Bauelemente wie Photovoltaikzellen und optoelektronische Sensoren verwendet.
Sie können auch als Vorläufer für Oberflächenbeschichtungsmaterialien, Korrosionsschutzmaterialien, Halbleiter und andere Materialien verwendet werden und sind weit verbreitet.
Fluorid-Ziele
Fluoridtargets eignen sich für die Herstellung unkonventioneller Folienschichten, wie z.B. Zinkfluorid und Calciumfluorid.
Diese Folienschichten haben die Eigenschaften Reflexion, Korrosionsbeständigkeit und optische Verfärbung.
Anwendungsbereiche: Sie können in Bereichen wie Sonnenkollektoren und Schutzspiegeln eingesetzt werden.
II.Anwendung von Sputtertargets in der Industrie
Anwendungen in der Halbleiterindustrie
In der Halbleiterindustrie werden Sputtertargets zur Herstellung von Metallschichten, Isolierschichten und leitfähigen Schichten in integrierten Schaltkreisen verwendet.
Die Qualität dieser Dünnschichtschichten wirkt sich direkt auf die Leistung und Zuverlässigkeit des Endprodukts aus.
Häufig verwendete Targets: ultrahochreine Aluminiumtargets, Titantargets, Kupfertargets, Tantaltargets usw., die hauptsächlich zur Bildung leitfähiger Kanäle verwendet werden, während Oxidtargets zur Herstellung von Isolierschichten verwendet werden.
Die höchsten technischen Anforderungen in Bezug auf Leistung, ultrahochreine Metalle, hohe Gleichmäßigkeit, hohe Präzisionsabmessungen und hohe Integration, um die Anforderungen kleinerer Größe und höherer Leistung zu erfüllen.
Anwendungen für optische Folien
Optische Folien werden häufig in Produkten wie Displays, Linsen und Fenstern verwendet, um Reflexions-, Antireflexions- und Lichtfilterfunktionen bereitzustellen.
So werden beispielsweise Siliziumnitrid-Targets zur Herstellung transparenter leitfähiger Folien verwendet, während Aluminium- oder Silbertargets zur Herstellung von reflektierenden Folien verwendet werden.
Hohe technische Anforderungen an die Leistung, hochreine Materialien, große Materialfläche und gute Gleichmäßigkeit.
Anwendungen von Solarzellen
Die Dünnschichtschichten in Solarzellen können durch Sputtertechnologie hergestellt werden, einschließlich Absorptionsschichten, transparenter leitfähiger Schichten und reflektierender Schichten.
Die Auswahl und Vorbereitungsbedingungen von Sputtertargets haben einen wichtigen Einfluss auf den photoelektrischen Umwandlungswirkungsgrad von Solarzellen.
Häufig verwendete Targets: hochreine Aluminiumtargets, Kupfertargets, Molybdäntargets, Chromtargets, ITO-Targets, etc.
In Bezug auf die Leistung sind die technischen Anforderungen hoch und der Anwendungsbereich breit.
Anwendungen von magnetischen Folien
Sputtertargets können auch verwendet werden, um magnetische Schichten für Anwendungen wie magnetische Speicher und Sensoren vorzubereiten.
Häufig verwendete Targets: Targets auf Eisenbasis, Targets auf Nickelbasis, Targets auf Chrombasis, Targets auf Kobaltbasis usw., die hauptsächlich in optischen Laufwerken, optischen Disks usw. verwendet werden.
In Bezug auf die Leistung, hohe Speicherdichte und hohe Übertragungsgeschwindigkeit.
Anwendungen für leitfähige Folien
Wird hauptsächlich in Anwendungen wie elektronischen Geräten und Touchscreens verwendet.
Durch die Kontrolle der Sputterbedingungen können Schichten mit unterschiedlichen leitfähigen Eigenschaften erhalten werden.
Häufig verwendete Targets: Targets aus Nickel-Chrom-Legierungen, Targets aus Chrom-Silizium-Legierungen usw., die hauptsächlich in Dünnschichtwiderständen und Dünnschichtkondensatoren verwendet werden.
Leistungsanforderungen: geringe Größe, gute Stabilität und kleiner Widerstandstemperaturkoeffizient von elektronischen Geräten.
Industrie für dekorative Folien
Dekorfolien werden hauptsächlich zur Dekoration des Aussehens und zur Funktionsverbesserung von Automobilen, Gebäuden und Produkten der Unterhaltungselektronik verwendet.
Schlüsselmaterialien: Metall- und Legierungstargets wie Chrom, Nickel, Titan usw. werden häufig verwendet, da sie einzigartige Farben und Glanz bieten.
III.Wie wählt man ein Sputtertarget aus?
Einfluss der Materialeigenschaften auf die Sputterwirkung
Physikalische Eigenschaften: Der Schmelzpunkt, die Wärmeleitfähigkeit und die elektrische Leitfähigkeit des Targets wirken sich direkt auf die Stabilität und Effizienz des Sputterprozesses aus.
So sind beispielsweise Materialien mit hohen Schmelzpunkten und hohen Wärmeleitfähigkeiten bei Hochtemperatur-Sputterprozessen stabiler.
Chemische Eigenschaften: Die chemische Stabilität und Korrosionsbeständigkeit des Targets beeinflussen die Reinheit und Gleichmäßigkeit des Films.
Chemisch stabile Materialien reduzieren den Gehalt an Verunreinigungen in Folien.
Materialreinheit und Sputterqualität
Anforderungen an die Reinheit: Hochreine Zielmaterialien können die Qualität der Folie deutlich verbessern.
Ziele mit geringerer Reinheit können unerwünschte Verunreinigungen einführen, die die elektrischen und physikalischen Eigenschaften der Folie beeinträchtigen.
Reinheitstechnologie: Um hohe Reinheitsstandards zu erreichen, sind während des Produktionsprozesses ausgeklügelte Reinigungstechnologien wie elektrolytische Raffination und Vakuumschmelzen erforderlich.
Wirtschaftlichkeitsanalyse von Zielmaterialien
Kosten vs. Nutzen: Bei der Auswahl eines Ziels gibt es einen Kompromiss zwischen Materialkosten und erwarteter Leistung.
Hochleistungswerkstoffe kosten zwar mehr, bieten aber bessere Sputterergebnisse und eine längere Lebensdauer.
Marktangebot: Die Verfügbarkeit von Materialien und Marktpreisschwankungen sind ebenfalls wichtige Aspekte.
Die Wahl von Materialien, die leicht verfügbar und relativ preisstabil sind, kann die Produktionskosten und -risiken senken.
IV.Schlussfolgerung
Sputtertargets sind ein Material, das zur Herstellung dünner Schichten verwendet wird und ein breites Anwendungsspektrum hat.
Ihre Qualität und Reinheit sind sehr wichtig für die Herstellung hochpräziser dünner Schichten, daher müssen Sie beim Kauf von Sputtertargets vorsichtig sein.
VIMATERIAL verfügt über umfangreiche Erfahrung in der Zielbranche und kann Ihnen je nach Bedarf die für Sie am besten geeigneten Materialien empfehlen.
Wenn Sie Fragen zu Targets haben, zögern Sie bitte nicht, uns zu kontaktieren.
