{"id":1056110,"date":"2024-06-17T15:47:30","date_gmt":"2024-06-17T07:47:30","guid":{"rendered":"https:\/\/vimaterial.de\/product\/pentossido-di-tantalio-2\/"},"modified":"2024-06-17T15:47:30","modified_gmt":"2024-06-17T07:47:30","slug":"pentossido-di-tantalio-2","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/product\/pentossido-di-tantalio-2\/","title":{"rendered":"Pentossido di tantalio"},"content":{"rendered":"<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/vimaterial.de\/it\/search\/?type=element&#038;keyword=Ta2O5\">Pentossido di tantalio<\/a><\/span> Il bersaglio di sputtering in pentossido di tantalio \u00e8 un materiale ceramico ad alte prestazioni ampiamente utilizzato per la deposizione di film sottili dielettrici, ottici e protettivi. Il Ta\u2082O\u2085 combina un&#8217;elevata costante dielettrica, un alto indice di rifrazione, un&#8217;eccellente stabilit\u00e0 chimica e una buona stabilit\u00e0 termica, rendendolo adatto ad applicazioni avanzate di deposizione di film sottili.<\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><strong><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/vimaterial.de\/it\/su-di-noi\/\">VIMATERIAL<\/a><\/strong><\/span> fornisce bersagli di sputtering in Ta\u2082O\u2085 ad alta purezza in varie dimensioni, forme e configurazioni per soddisfare le esigenze dei settori dei semiconduttori, dei rivestimenti ottici, dell\u2019elettronica e di altre applicazioni con film sottili. <span style=\"color: #0000ff;\"><strong><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/vimaterial.de\/it\/contatto\/\">Contattateci<\/a><\/strong><\/span> per ulteriori informazioni.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Specifiche del prodotto<\/span><\/h2>\n<table style=\"border-collapse: collapse; width: 100%; height: 336px;\">\n<tbody>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\"><strong>Articolo<\/strong><\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\"><strong>Specifiche<\/strong><\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Nome del prodotto<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Target di sputtering al pentossido di tantalio<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Formula chimica<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Ta\u2082O\u2085<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Peso molecolare<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">441,89 g\/mol<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Purezza<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">99,95% \u2013 99,99%<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Aspetto<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Solido ceramico di colore da bianco a biancastro<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Densit\u00e0<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Circa 8,2 g\/cm\u00b3<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Punto di fusione<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Circa 1872 \u00b0C<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Indice di rifrazione<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Circa 2,1<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Costante dielettrica<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Circa 25\u201335<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Tipo di bersaglio<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Planare \/ Rotativo \/ Personalizzato<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Forma<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Circolare \/ Rettangolare \/ Personalizzata<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Incollaggio<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Non incollato \/ Incollato alla piastra di supporto<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Metodi di deposizione<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">DC \/ RF \/ Sputtering reattivo<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<p><em>*Nota: la densit\u00e0 effettiva, la costante dielettrica, l&#8217;indice di rifrazione e altre propriet\u00e0 possono variare a seconda della purezza del bersaglio, della microstruttura, delle condizioni di deposizione e del metodo di misurazione.<\/em><\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Caratteristiche principali<\/span><\/h2>\n<ul>\n<li>Elevata costante dielettrica<\/li>\n<li>Elevato indice di rifrazione<\/li>\n<li>Eccellente stabilit\u00e0 chimica<\/li>\n<li>Elevata stabilit\u00e0 termica<\/li>\n<li>Adatto per film sottili ad alte prestazioni<\/li>\n<\/ul>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Applicazioni del bersaglio di sputtering in pentossido di tantalio<\/span><\/h2>\n<ul>\n<li><strong>Semiconduttori e microelettronica: utilizzato <\/strong>per strati dielettrici ad alta costante dielettrica (high-k), film dielettrici per condensatori e strati isolanti in dispositivi elettronici e a semiconduttori.<\/li>\n<li><strong>Rivestimenti ottici: utilizzato <\/strong>in rivestimenti antiriflesso, rivestimenti ad alta riflessione, filtri ottici, lenti e altri film ottici multistrato.<\/li>\n<li><strong>Componenti elettronici: Adatto <\/strong>per film dielettrici in condensatori, sensori e altri componenti elettronici e optoelettronici.<\/li>\n<li><strong>Rivestimenti funzionali e protettivi: utilizzati <\/strong>come film sottili funzionali o protettivi laddove sono richieste elevate propriet\u00e0 dielettriche, stabilit\u00e0 chimica e stabilit\u00e0 termica.<\/li>\n<\/ul>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Opzioni dei target\/Personalizzazione<\/span><\/h2>\n<table style=\"border-collapse: collapse; width: 100%; height: 264px;\">\n<tbody>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\"><strong>Parametri del bersaglio<\/strong><\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\"><strong>Contenuto consigliato<\/strong><\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Purezza<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">99,95% \/ 99,99%<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Densit\u00e0<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">\u2265 densit\u00e0 teorica \/ valore effettivo<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Forma<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Circolare \/ Rettangolare \/ Su misura<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Dimensioni<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Su misura<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Spessore<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Su misura<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Incollaggio<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Indio \/ Elastomero \/ Senza incollaggio<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Piastra di supporto<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Cu \/ Mo \/ Acciaio inossidabile \/ Personalizzata<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Deposizione per sputtering<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">RF \/ Reattivo<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Confezionamento<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Sottovuoto \/ Gas inerte \/ A prova di umidit\u00e0<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Tempi di consegna<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Disponibile a magazzino \/ 2\u20134 settimane<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<p>Per esigenze di deposizione particolari, \u00e8 possibile concordare la composizione del bersaglio, la densit\u00e0, le dimensioni e le specifiche di incollaggio in base all\u2019attrezzatura di sputtering e ai parametri di processo del cliente.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Perch\u00e9 scegliere VIMATERIAL?<\/span><\/h2>\n<ul>\n<li><strong>Elevata purezza: disponibile <\/strong>in gradi di elevata purezza per ridurre la contaminazione durante la deposizione di film sottili.<\/li>\n<li><strong>Composizione stabile: <\/strong>la composizione<strong>controllata <\/strong>di Ta\u2082O\u2085 garantisce una qualit\u00e0 del film e prestazioni di deposizione costanti.<\/li>\n<li><strong>Dimensioni personalizzate: <\/strong>le dimensioni e le configurazioni<strong>dei target <\/strong>possono essere personalizzate in base ai requisiti dell\u2019apparecchiatura di sputtering.<\/li>\n<li><strong>Diverse opzioni di purezza:<\/strong>i livelli<strong>di purezza<\/strong>possono essere selezionati in base alle diverse applicazioni di ricerca, rivestimenti ottici, semiconduttori e applicazioni industriali.<\/li>\n<li><strong>Assistenza tecnica professionale: siamo <\/strong>in grado di fornire supporto in merito alle specifiche dei target, alle dimensioni, ai requisiti di incollaggio e alla scelta dei materiali per specifici processi di deposizione.<\/li>\n<\/ul>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Imballaggio e stoccaggio<\/span><\/h2>\n<p>I target di sputtering in ossido di tantalio vengono imballati con cura per proteggerli da umidit\u00e0, contaminazione, danni meccanici e contaminazione superficiale durante il trasporto e lo stoccaggio.<\/p>\n<p>I bersagli devono essere conservati in un ambiente pulito e asciutto e mantenuti nella loro confezione originale sigillata fino al momento dell\u2019uso. Quando vengono forniti bersagli incollati, viene utilizzata una protezione aggiuntiva per evitare danni al bersaglio e alla piastra di supporto durante il trasporto.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Domande frequenti<\/span><\/h2>\n<h3><span style=\"font-size: 12pt;\">D1. Che cos&#8217;\u00e8 un bersaglio di sputtering in pentossido di tantalio?<\/span><\/h3>\n<p>R. Un bersaglio di sputtering in pentossido di tantalio \u00e8 un bersaglio ceramico realizzato in pentossido di tantalio ad alta purezza e utilizzato come materiale di partenza per il deposito di film sottili di ossido di tantalio tramite sputtering.<\/p>\n<h3><span style=\"font-size: 12pt;\">D2. A cosa serve un bersaglio di sputtering in ossido di tantalio?<\/span><\/h3>\n<p>I target di sputtering in ossido di tantalio sono utilizzati principalmente per rivestimenti ottici, film dielettrici ad alta costante dielettrica (high-k), condensatori, dispositivi a semiconduttori, componenti elettronici e film sottili funzionali.<\/p>\n<h3><span style=\"font-size: 12pt;\">D3. \u00c8 possibile personalizzare i bersagli in Ta\u2082O\u2085?<\/span><\/h3>\n<p>S\u00ec. I target Ta\u2082O\u2085 possono essere personalizzati in termini di purezza, dimensioni, forma, spessore, piastra di supporto e configurazione di incollaggio in base all\u2019apparecchiatura di sputtering del cliente e ai requisiti tecnici.<\/p>\n<h3><span style=\"font-size: 12pt;\">Domanda 4. Il Ta\u2082O\u2085 \u00e8 un materiale dielettrico ad alta costante dielettrica (high-k)?<\/span><\/h3>\n<p>S\u00ec. Il Ta\u2082O\u2085 \u00e8 ampiamente studiato e utilizzato come materiale dielettrico ad alta costante dielettrica (high-k) poich\u00e9 la sua costante dielettrica \u00e8 significativamente superiore a quella del SiO\u2082 convenzionale.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Pentossido di tantalio Il bersaglio di sputtering in pentossido di tantalio \u00e8 un materiale ceramico ad alte prestazioni ampiamente utilizzato per la deposizione di film sottili dielettrici, ottici e protettivi. 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