{"id":1055371,"date":"2024-06-17T15:44:03","date_gmt":"2024-06-17T07:44:03","guid":{"rendered":"https:\/\/vimaterial.de\/product\/ossido-di-tellurio-iv\/"},"modified":"2024-06-17T15:44:03","modified_gmt":"2024-06-17T07:44:03","slug":"ossido-di-tellurio-iv","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/product\/ossido-di-tellurio-iv\/","title":{"rendered":"Ossido di tellurio (IV)"},"content":{"rendered":"

Biossido di tellurio<\/a> <\/span>\u00e8 un materiale ceramico per sputtering ad alta purezza progettato per la deposizione fisica da vapore (PVD) e lo sputtering magnetronico. Grazie al suo elevato indice di rifrazione, alla trasparenza ottica e alle eccellenti propriet\u00e0 acusto-ottiche e ottiche non lineari, il TeO\u2082 \u00e8 ampiamente utilizzato per rivestimenti ottici, dispositivi fotonici, guide d’onda, optoelettronica e ricerca avanzata sui film sottili.<\/p>\n

VIMATERIAL<\/a><\/strong><\/span> fornisce bersagli di sputtering in TeO\u2082 ad alta purezza con purezze, dimensioni, forme e configurazioni di incollaggio personalizzate per soddisfare i requisiti dei diversi sistemi di sputtering e di deposizione di film sottili. Contattateci<\/a> <\/strong><\/span>per ulteriori informazioni.<\/p>\n

Caratteristiche<\/span><\/h2>\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n
Propriet\u00e0<\/strong><\/td>\nValore<\/strong><\/td>\n<\/tr>\n
Formula chimica<\/td>\nTeO\u2082<\/td>\n<\/tr>\n
N. CAS<\/td>\n7446-07-3<\/td>\n<\/tr>\n
Peso molecolare<\/td>\n159,60 g\/mol<\/td>\n<\/tr>\n
Purezza<\/td>\n99,99% o su richiesta<\/td>\n<\/tr>\n
Aspetto<\/td>\nSolido di colore da bianco a biancastro<\/td>\n<\/tr>\n
Densit\u00e0<\/td>\n5,7\u20136,0 g\/cm\u00b3<\/td>\n<\/tr>\n
Punto di fusione<\/td>\nCirca 733 \u00b0C<\/td>\n<\/tr>\n
Solubilit\u00e0 in acqua<\/td>\nTrascurabile<\/td>\n<\/tr>\n
Forma del materiale<\/td>\nTarget ceramico per sputtering<\/td>\n<\/tr>\n
Forma del bersaglio<\/td>\nCircolare, rettangolare o personalizzata<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n

Vantaggi principali<\/span><\/h2>\n
    \n
  • Elevate prestazioni ottiche: il TeO\u2082 <\/strong>offre un elevato indice di rifrazione e propriet\u00e0 ottiche favorevoli, rendendolo adatto per strati ottici ad alto indice, guide d’onda e strutture fotoniche specializzate.<\/li>\n
  • Eccellente deposizione di film sottili: <\/strong>i targetin TeO\u2082 <\/strong>possono essere utilizzati nei processi di sputtering RF e magnetronico per produrre film sottili uniformi con spessore e composizione controllati. Le prestazioni di deposizione possono essere ottimizzate regolando la potenza di sputtering, la pressione di lavoro, la composizione del gas, la temperatura del substrato e la distanza tra il target e il substrato.<\/li>\n
  • Propriet\u00e0 acusto-ottiche e ottiche non lineari: il TeO\u2082 <\/strong>\u00e8 apprezzato per le sue spiccate caratteristiche acusto-ottiche e ottiche non lineari, che lo rendono adatto a modulazioni ottiche specializzate, all\u2019elaborazione dei segnali e ad applicazioni fotoniche.<\/li>\n
  • Elevata purezza e personalizzazione: <\/strong>i bersagli di sputtering in TeO\u2082ad alta purezza <\/strong>contribuiscono a ridurre al minimo la contaminazione durante la deposizione e garantiscono un migliore controllo sulla composizione e sulle prestazioni del film. La purezza del bersaglio, le dimensioni, lo spessore, la configurazione di incollaggio e altre specifiche possono essere personalizzate in base alle esigenze del cliente.<\/li>\n<\/ul>\n

    Applicazioni dei target di sputtering in biossido di tellurio<\/span><\/h2>\n
      \n
    • Rivestimenti ottici: <\/strong>i film sottilidi TeO\u2082 <\/strong>possono essere utilizzati come strati ad alto indice di rifrazione in rivestimenti ottici, strutture multistrato, rivestimenti interferenziali e altri componenti ottici.<\/li>\n
    • Guide d’onda fotoniche: <\/strong>i film di TeO\u2082depositati mediante sputtering <\/strong>sono adatti per guide d’onda ottiche e strutture fotoniche integrate in cui sono richiesti un elevato indice di rifrazione e propriet\u00e0 ottiche controllate.<\/li>\n
    • Dispositivi acusto-ottici: il TeO\u2082 <\/strong>viene utilizzato in applicazioni acusto-ottiche quali modulatori ottici, deflettori e dispositivi di elaborazione dei segnali ottici grazie alle sue favorevoli propriet\u00e0 acusto-ottiche.<\/li>\n
    • Optoelettronica: <\/strong>i film sottilidi TeO\u2082 <\/strong>possono essere incorporati in dispositivi e strutture optoelettroniche specializzate che richiedono propriet\u00e0 ottiche e dielettriche controllate.<\/li>\n
    • Ottica non lineare: le <\/strong>propriet\u00e0 ottiche non lineari del TeO\u2082 lo rendono adatto alla ricerca e allo sviluppo di dispositivi fotonici non lineari e di tecnologie di elaborazione dei segnali ottici.<\/li>\n
    • Sensori e ricerca:<\/strong>i film sottili di TeO\u2082 possono essere studiati per applicazioni di rilevamento ottico e chimico, nonch\u00e9 per ricerche avanzate nei campi dei film sottili, della fotonica e del PVD.<\/li>\n<\/ul>\n

      Considerazioni sullo sputtering<\/span><\/h2>\n

      Il TeO\u2082 presenta una conduttivit\u00e0 termica relativamente bassa; si raccomanda pertanto un raffreddamento adeguato e una potenza di sputtering controllata per ridurre al minimo il riscaldamento localizzato e lo stress termico. La velocit\u00e0 di deposizione dipende da parametri di processo quali la potenza di sputtering, la pressione di lavoro, la composizione del gas, la temperatura del substrato e la distanza tra il bersaglio e il substrato.<\/p>\n

      Manipolazione e conservazione<\/span><\/h2>\n

      I target di sputtering in ossido di tellurio sono imballati in modo sicuro per ridurre al minimo il rischio di umidit\u00e0, polvere, contaminazione e danni meccanici durante il trasporto e lo stoccaggio. Conservare i target in un ambiente ermeticamente sigillato, asciutto e pulito, preferibilmente nella loro confezione protettiva originale, e proteggerli dall\u2019umidit\u00e0 e dalla contaminazione chimica.<\/p>\n

      Domande frequenti<\/span><\/h2>\n

      D1. A cosa serve un bersaglio di sputtering in TeO\u2082?<\/span><\/h3>\n

      I target di sputtering in TeO\u2082 vengono utilizzati principalmente per il deposito di film sottili di biossido di tellurio destinati a rivestimenti ottici, guide d\u2019onda fotoniche, dispositivi acusto-ottici, optoelettronica, ottica non lineare e applicazioni con sensori specializzati.<\/p>\n

      D2. Quali gradi di purezza sono disponibili per i target di sputtering in TeO\u2082?<\/span><\/h3>\n

      VIMATERIAL \u00e8 in grado di fornire target di sputtering in TeO\u2082 con purezza del 99,99% e altri gradi di purezza personalizzati, a seconda dell\u2019applicazione e dei requisiti di contaminazione.<\/p>\n

      D3. \u00c8 possibile personalizzare i bersagli di sputtering in TeO\u2082?<\/span><\/h3>\n

      S\u00ec. I target in TeO\u2082 possono essere personalizzati in termini di purezza, dimensioni, spessore, forma, densit\u00e0, configurazione di fissaggio e imballaggio per adattarsi a specifiche apparecchiature di sputtering e processi di deposizione.<\/p>\n

      Q4. Come devono essere conservati i target di sputtering in TeO\u2082?<\/span><\/h3>\n

      I target di sputtering in ossido di tellurio devono essere conservati sigillati in un ambiente asciutto e pulito e protetti da umidit\u00e0, polvere, contaminazione chimica e urti meccanici. L\u2019imballaggio protettivo originale deve essere conservato fino al momento dell\u2019utilizzo del materiale.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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