{"id":1054426,"date":"2024-06-17T14:21:46","date_gmt":"2024-06-17T06:21:46","guid":{"rendered":"https:\/\/vimaterial.de\/product\/titanio-metallico\/"},"modified":"2024-06-17T14:21:46","modified_gmt":"2024-06-17T06:21:46","slug":"titanio-metallico","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/product\/titanio-metallico\/","title":{"rendered":"Titanio metallico"},"content":{"rendered":"<p>I bersagli di sputtering in titanio sono bersagli metallici ad alta purezza ampiamente utilizzati nei processi di rivestimento a film sottile mediante deposizione fisica da vapore (PVD). Il titanio presenta un\u2019eccellente resistenza alla corrosione, una forte adesione, un\u2019elevata resistenza meccanica e una straordinaria stabilit\u00e0 chimica, che lo rendono un materiale ideale per i semiconduttori, i rivestimenti ottici, i rivestimenti decorativi e le applicazioni industriali avanzate.<\/p>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><strong><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/vimaterial.de\/it\/su-di-noi\/\">VIMATERIAL<\/a><\/strong><\/span> fornisce bersagli di sputtering in titanio ad alta purezza con purezza fino al 99,999% (5N). I nostri bersagli sono prodotti mediante fusione sotto vuoto, lavorazione di precisione e rigorosi controlli di qualit\u00e0 per garantire un\u2019eccellente densit\u00e0, una microstruttura uniforme, un basso contenuto di impurit\u00e0 e prestazioni di sputtering stabili. <span style=\"color: #0000ff;\"><strong><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/vimaterial.de\/it\/contatto\/\">Contattateci<\/a> <\/strong><\/span>per ulteriori informazioni.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Propriet\u00e0<\/span><\/h2>\n<table style=\"border-collapse: collapse; width: 100%; height: 293px;\">\n<tbody>\n<tr style=\"height: 29px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 29px;\"><strong>Propriet\u00e0<\/strong><\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 29px;\"><strong>Valore<\/strong><\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Formula chimica<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Ti<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Numero atomico<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">22<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Peso molecolare<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">47,867 g\/mol<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Aspetto<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Metallico bianco-argenteo<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Purezza<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">99,5%\u201399,999%<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Densit\u00e0<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">4,506 g\/cm\u00b3<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Punto di fusione<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">1660 \u00b0C<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Punto di ebollizione<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">3287 \u00b0C<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Struttura cristallina<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Esagonale compatto (HCP)<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Conducibilit\u00e0 termica<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">21,9 W\/m\u00b7K<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">Resistivit\u00e0 elettrica<\/td>\n<td style=\"width: 50%; height: 24px;\">42 n\u03a9\u00b7m<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Caratteristiche principali<\/span><\/h2>\n<ul>\n<li>Elevata purezza con livelli di impurit\u00e0 estremamente bassi<\/li>\n<li>Eccellente stabilit\u00e0 di sputtering ed erosione uniforme<\/li>\n<li>Elevata densit\u00e0 per un migliore utilizzo del bersaglio<\/li>\n<li>Eccezionale resistenza alla corrosione e all&#8217;ossidazione<\/li>\n<li>Forte adesione del film con eccellente finitura superficiale<\/li>\n<li>Adatto per la deposizione magnetronica in corrente continua (DC) e per la deposizione a radiofrequenza (RF)<\/li>\n<li>Disponibile in dimensioni e configurazioni di incollaggio personalizzate<\/li>\n<\/ul>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Specifiche disponibili<\/span><\/h2>\n<p>VIMATERIAL produce bersagli di titanio per sputtering in un&#8217;ampia variet\u00e0 di configurazioni.<\/p>\n<p><strong>Purezza<\/strong><\/p>\n<ul>\n<li>99,5%<\/li>\n<li>99,99%<\/li>\n<li>99,999<\/li>\n<\/ul>\n<p><strong>Forma<\/strong><\/p>\n<ul>\n<li>Disco<\/li>\n<li>Rettangolo<\/li>\n<li>Anello<\/li>\n<li>Bersaglio rotante<\/li>\n<li>Forma personalizzata<\/li>\n<\/ul>\n<p><strong>Piastra di supporto<\/strong><\/p>\n<ul>\n<li>Rivestito in rame<\/li>\n<li>Acciaio inossidabile rivestito<\/li>\n<li>Rivestito di indio<\/li>\n<li>Non rivestito<\/li>\n<\/ul>\n<p>Su richiesta sono disponibili dimensioni personalizzate e specifiche OEM.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Tipi di target in titanio<\/span><\/h2>\n<p><strong>Target in titanio puro<\/strong><\/p>\n<p>I target di sputtering in titanio puro offrono un&#8217;eccellente resistenza alla corrosione, un comportamento di sputtering stabile e un&#8217;elevata purezza del film. Sono ampiamente utilizzati per la metallizzazione dei semiconduttori, i rivestimenti ottici, i rivestimenti decorativi e la ricerca sui film sottili.<\/p>\n<p><strong>Target in lega di titanio<\/strong><\/p>\n<p>I target di sputtering in<strong>lega<\/strong>di titanio combinano il titanio con elementi quali alluminio (TiAl), silicio (TiSi), tungsteno (TiW) o nichel per ottenere maggiore durezza, conduttivit\u00e0, resistenza all\u2019ossidazione o resistenza all\u2019usura per applicazioni specializzate con film sottili.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Applicazioni dei bersagli di sputtering in titanio<\/span><\/h2>\n<p>I bersagli di sputtering in titanio sono ampiamente utilizzati per il deposito di film sottili ad alte prestazioni in applicazioni relative a semiconduttori, ottica, rivestimenti decorativi e industriali.<\/p>\n<ul>\n<li>Semiconduttori \u2013 Strati barriera, strati di adesione, interconnessioni e dispositivi MEMS.<\/li>\n<li>Rivestimenti ottici \u2013 Rivestimenti antiriflesso, filtri ottici, lenti per fotocamere e ottiche laser.<\/li>\n<li>Rivestimenti decorativi \u2013 Orologi, gioielli, elettronica di consumo e finiture decorative in acciaio inossidabile.<\/li>\n<li>Rivestimenti duri \u2013 Film sottili di TiN, TiCN e TiO\u2082 per utensili da taglio, stampi, componenti automobilistici e componenti resistenti all\u2019usura.<\/li>\n<li>Archiviazione dati \u2013 Film sottili per dischi rigidi e dispositivi di archiviazione magnetica.<\/li>\n<\/ul>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Garanzia di qualit\u00e0<\/span><\/h2>\n<p>Ogni bersaglio di sputtering in titanio viene sottoposto a rigorosi controlli di qualit\u00e0 prima della spedizione, al fine di garantire prestazioni di sputtering costanti e una deposizione affidabile del film sottile.<\/p>\n<p>Gli elementi sottoposti a ispezione includono:<\/p>\n<ul>\n<li>Analisi chimica ICP<\/li>\n<li>Test di densit\u00e0<\/li>\n<li>Analisi della granulometria<\/li>\n<li>Controllo della rugosit\u00e0 superficiale<\/li>\n<li>Rilevamento di difetti mediante ultrasuoni (se necessario)<\/li>\n<li>Verifica dimensionale<\/li>\n<\/ul>\n<p>I certificati di analisi (COA) sono disponibili su richiesta.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Imballaggio e conservazione<\/span><\/h2>\n<p>I target di sputtering in titanio sono sigillati sottovuoto e imballati con materiale protettivo imbottito per prevenire la contaminazione e i danni meccanici durante il trasporto.<\/p>\n<p>Conservare il prodotto in un ambiente pulito, asciutto e ben ventilato. Evitare l&#8217;esposizione all&#8217;umidit\u00e0, alle sostanze chimiche corrosive e agli urti diretti prima dell&#8217;installazione.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Perch\u00e9 scegliere VIMATERIAL?<\/span><\/h2>\n<ul>\n<li>Purezza fino al 99,999%<\/li>\n<li>Lavorazione di precisione con tolleranze ristrette<\/li>\n<li>Prestazioni di sputtering stabili<\/li>\n<li>Disponibilit\u00e0 di dimensioni personalizzate e target incollati<\/li>\n<li>Consegna rapida in tutto il mondo<\/li>\n<li>Assistenza tecnica professionale<\/li>\n<li>Gestione della qualit\u00e0 secondo le norme ISO<\/li>\n<\/ul>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Domande frequenti<\/span><\/h2>\n<p><strong>D1. Qual \u00e8 il grado di purezza dei bersagli di titanio per sputtering che offrite?<\/strong><\/p>\n<p>I gradi di purezza standard includono il 99,5%, il 99,99% e il 99,999%. Su richiesta, \u00e8 possibile personalizzare gradi di purezza pi\u00f9 elevati.<\/p>\n<p><strong>D2. \u00c8 possibile realizzare dimensioni personalizzate?<\/strong><\/p>\n<p>S\u00ec. Produciamo bersagli in base ai disegni o alle specifiche del cliente, inclusi diametro, spessore, forma e requisiti della piastra di supporto.<\/p>\n<p><strong>D3. Quali metodi di sputtering sono adatti?<\/strong><\/p>\n<p>I bersagli in titanio sono compatibili con lo sputtering a magnetrone in corrente continua (DC), lo sputtering a radiofrequenza (RF) e altri sistemi di rivestimento PVD.<\/p>\n<p><strong>D4. Sono disponibili bersagli in titanio incollati?<\/strong><\/p>\n<p>S\u00ec. Offriamo target con supporto e senza supporto, con piastre di supporto in rame, acciaio inossidabile o personalizzate.<\/p>\n<p><strong>D5. Quali settori industriali utilizzano comunemente i target di titanio per sputtering?<\/strong><\/p>\n<p>I target di titanio per sputtering sono ampiamente utilizzati nella produzione di semiconduttori, nei rivestimenti ottici, nei rivestimenti decorativi, nell\u2019energia solare, nei rivestimenti duri, nell\u2019archiviazione dei dati e nella ricerca scientifica.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>I bersagli di sputtering in titanio sono bersagli metallici ad alta purezza ampiamente utilizzati nei processi di rivestimento a film sottile mediante deposizione fisica da vapore (PVD). 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