{"id":1052395,"date":"2024-06-17T15:50:43","date_gmt":"2024-06-17T07:50:43","guid":{"rendered":"https:\/\/vimaterial.de\/product\/metallo-di-tungsteno\/"},"modified":"2024-06-17T15:50:43","modified_gmt":"2024-06-17T07:50:43","slug":"metallo-di-tungsteno","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/product\/metallo-di-tungsteno\/","title":{"rendered":"Metallo di tungsteno"},"content":{"rendered":"<p>Il target di sputtering di tungsteno \u00e8 un tipo di metallo di tungsteno, in un ambiente ad alto vuoto dal bombardamento del flusso di ioni, gli atomi di superficie saranno sputati e depositati sulla superficie del substrato, in modo da formare un film sottile di materiali chiave, ampiamente utilizzati nei semiconduttori, nell&#8217;energia solare, nei display a schermo piatto e cos\u00ec via in molti campi high-tech.<\/p>\n<p>VIMATERIAL offre obiettivi di sputtering in tungsteno di elevata purezza e pu\u00f2 personalizzare diverse dimensioni per soddisfare le vostre esigenze. <span style=\"color: #0000ff;\"><strong><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/vimaterial.de\/it\/contatto\/\">Contattateci<\/a><\/strong><\/span> per ulteriori informazioni.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Caratteristiche<\/span><\/h2>\n<p>Aspetto e colore: Grigio<\/p>\n<p>Peso atomico: 183,85.<\/p>\n<p>Punto di fusione: 3410\u2103 (6192\u2109).<\/p>\n<p>Conduttivit\u00e0 termica: 174W\/m-K<\/p>\n<p>Coefficiente di espansione termica: 4.5\u00d710-\u2076\/K.<\/p>\n<p>Densit\u00e0 teorica: 19,25g\/cm\u00b3.<\/p>\n<p>Purezza: Di solito 99,95% e oltre.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Vantaggi principali degli obiettivi di sputtering al tungsteno<\/span><\/h2>\n<p>Eccellente stabilit\u00e0 alle alte temperature: Il tungsteno rimane strutturalmente stabile alle alte temperature ed \u00e8 adatto agli ambienti di sputtering pi\u00f9 esigenti.<\/p>\n<p>Buona conducibilit\u00e0 termica: Trasferisce efficacemente il calore, contribuendo a mantenere l&#8217;uniformit\u00e0 della temperatura e la stabilit\u00e0 del processo durante lo sputtering.<\/p>\n<p>Bassa espansione termica: Il tungsteno presenta variazioni dimensionali minime al variare della temperatura, garantendo un&#8217;elevata precisione e coerenza del rivestimento.<\/p>\n<p>Conducibilit\u00e0 elettrica stabile: La sua bassa resistenza favorisce un flusso di corrente regolare e una formazione stabile del plasma, migliorando l&#8217;efficienza dello sputtering.<\/p>\n<p>Il tungsteno ad alta purezza riduce gli effetti delle impurit\u00e0, garantendo una deposizione pi\u00f9 stabile e una migliore uniformit\u00e0 del film e delle prestazioni.<\/p>\n<p>Elevate propriet\u00e0 meccaniche\uff1b Ha un&#8217;elevata durezza e forza, con una buona resistenza all&#8217;usura e alla deformazione, che consente una lunga durata.<\/p>\n<p>Buone prestazioni di sputtering e qualit\u00e0 del film: il tungsteno offre un comportamento di sputtering stabile, producendo film densi e uniformi con buona adesione e propriet\u00e0 generali.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Applicazioni di <\/span><span style=\"font-size: 14pt;\">Obiettivi di sputtering al tungsteno<\/span><\/h2>\n<p><strong>Campo dei semiconduttori<\/strong><\/p>\n<p>I target di sputtering al tungsteno sono utilizzati per formare elettrodi e interconnessioni nei chip grazie alla loro buona conduttivit\u00e0 e all&#8217;elevata stabilit\u00e0 termica. Servono anche come strati di barriera alla diffusione, impedendo la commistione dei materiali e migliorando l&#8217;affidabilit\u00e0 dei dispositivi. Inoltre, il tungsteno \u00e8 ampiamente utilizzato per il riempimento delle spine di tungsteno (W-plug) per ottenere connessioni elettriche verticali nei circuiti altamente integrati.<\/p>\n<p><strong>Campo dei display a schermo piatto<\/strong><\/p>\n<p>Il tungsteno viene utilizzato negli elettrodi dei transistor a film sottile (TFT), contribuendo a migliorare le prestazioni, la stabilit\u00e0 e la velocit\u00e0 di risposta dei display. Pu\u00f2 anche essere utilizzato per formare film di ossido funzionali per strati conduttivi trasparenti in applicazioni di display e touch panel.<\/p>\n<p><strong>Campo dell&#8217;energia solare<\/strong><\/p>\n<p>Il tungsteno viene utilizzato negli elettrodi delle celle solari per migliorare la conduttivit\u00e0, la stabilit\u00e0 e l&#8217;efficienza complessiva. Pu\u00f2 essere utilizzato anche nei rivestimenti antiriflesso per migliorare l&#8217;assorbimento della luce e ridurre le perdite ottiche.<\/p>\n<p><strong>Campo ottico<\/strong><\/p>\n<p>I film sottili di tungsteno sono utilizzati nei rivestimenti ottici come strati riflettenti, filtranti e protettivi. Viene anche applicato in componenti ottici a infrarossi, come finestre e lenti, grazie alle sue favorevoli propriet\u00e0 ottiche a infrarossi.<\/p>\n<p><strong>Settore aerospaziale<\/strong><\/p>\n<p>I rivestimenti di tungsteno sono utilizzati su componenti ad alta temperatura come le parti dei motori per migliorare la resistenza al calore, all&#8217;usura e alla corrosione. Viene utilizzato anche nei componenti dei satelliti per il cablaggio, gli elettrodi e i rivestimenti per il controllo termico per garantire l&#8217;affidabilit\u00e0 negli ambienti spaziali.<\/p>\n<p><strong>Altri campi<\/strong><\/p>\n<p>Nelle applicazioni mediche, il tungsteno viene utilizzato nelle apparecchiature a raggi X e per la TAC grazie al suo forte assorbimento delle radiazioni. Nella lavorazione meccanica, i rivestimenti di tungsteno migliorano la durezza degli utensili, la resistenza all&#8217;usura e la durata.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Condizioni di imballaggio e conservazione<\/span><\/h2>\n<p>Gli obiettivi di sputtering al tungsteno sono tipicamente imballati in materiali puliti, asciutti e sigillati sotto vuoto o a prova di umidit\u00e0 per evitare la contaminazione e l&#8217;ossidazione. L&#8217;imbottitura protettiva viene utilizzata per evitare danni meccanici come graffi, ammaccature o scheggiature dei bordi durante il trasporto e la movimentazione.<\/p>\n<p>Devono essere conservati in un ambiente asciutto, pulito e ben ventilato, lontano da umidit\u00e0, sostanze corrosive e contatto diretto con sostanze chimiche reattive.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Domande frequenti<\/span><\/h2>\n<p><strong>D1: Che cos&#8217;\u00e8 un materiale per bersagli di tungsteno?<\/strong><\/p>\n<p>R: Un materiale target di tungsteno \u00e8 un solido di tungsteno di elevata purezza utilizzato come materiale di partenza nei processi di sputtering. Sotto bombardamento ionico, gli atomi del target di tungsteno vengono espulsi e depositati su un substrato per formare film sottili. Grazie alle sue eccellenti propriet\u00e0 termiche, elettriche e meccaniche, il tungsteno \u00e8 ampiamente utilizzato nei settori dei semiconduttori, dei display, del solare, dell&#8217;ottica e dell&#8217;aerospaziale.<\/p>\n<p><strong>D2: \u00c8 possibile effettuare lo sputtering del tungsteno?<\/strong><\/p>\n<p>R: S\u00ec, il tungsteno pu\u00f2 essere sottoposto a sputtering utilizzando tecniche di deposizione fisica da vapore (PVD) come lo sputtering magnetronico. Sebbene il tungsteno abbia un punto di fusione elevato e un forte legame atomico, pu\u00f2 essere depositato efficacemente in film sottili in condizioni di potenza di sputtering e di processo adeguate.<\/p>\n<p><strong>D3: Qual \u00e8 la resa di sputtering del tungsteno?<\/strong><\/p>\n<p>R: La resa di sputtering del tungsteno \u00e8 relativamente bassa rispetto a molti altri metalli. Ci\u00f2 significa che per ogni ione in ingresso viene espulso un numero inferiore di atomi di tungsteno, principalmente a causa della sua elevata massa atomica e del forte legame atomico. L&#8217;esatta resa dipende da parametri di processo quali l&#8217;energia degli ioni, il gas di lavoro, la pressione e le condizioni del target.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Il target di sputtering di tungsteno \u00e8 un tipo di metallo di tungsteno, in un ambiente ad alto vuoto dal bombardamento del flusso di ioni, gli atomi di superficie saranno sputati e depositati sulla superficie del substrato, in modo da formare un film sottile di materiali chiave, ampiamente utilizzati nei semiconduttori, nell&#8217;energia solare, nei display [&hellip;]<\/p>\n","protected":false},"featured_media":1033196,"comment_status":"open","ping_status":"closed","template":"","meta":{"_acf_changed":false},"product_brand":[],"product_cat":[197],"product_tag":[],"class_list":["post-1052395","product","type-product","status-publish","has-post-thumbnail","product_cat-obiettivi-di-sputtering-planari","first","instock","shipping-taxable","product-type-variable"],"acf":[],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product\/1052395","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=1052395"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media\/1033196"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=1052395"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=1052395"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=1052395"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=1052395"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}