{"id":1050466,"date":"2024-06-17T15:47:25","date_gmt":"2024-06-17T07:47:25","guid":{"rendered":"https:\/\/vimaterial.de\/product\/ossido-di-afnio-3\/"},"modified":"2024-06-17T15:47:25","modified_gmt":"2024-06-17T07:47:25","slug":"ossido-di-afnio-3","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/product\/ossido-di-afnio-3\/","title":{"rendered":"Ossido di afnio"},"content":{"rendered":"

Ossido di afnio<\/a><\/span> \u00e8 una polvere cristallina bianca composta da elementi di afnio e ossigeno, con un alto punto di fusione, un’elevata durezza, una buona stabilit\u00e0 chimica, un’elevata costante dielettrica, ecc. \u00c8 ampiamente utilizzato nei semiconduttori, nell’ottica, nei materiali ad alta temperatura, nell’industria nucleare e in molti altri campi.<\/p>\n

VIMATERIALE<\/a><\/span> offre polvere di ossido di afnio di elevata purezza con dimensioni delle particelle personalizzabili. Forniamo anche particelle di ossido di afnio e target di ossido di afnio. Contattateci<\/a><\/span> per ulteriori informazioni.<\/p>\n

Propriet\u00e0<\/span><\/h2>\n

Formula chimica: HfO\u2082<\/p>\n

Massa molare: 210,49 g\/mol<\/p>\n

Aspetto: generalmente polvere bianca o biancastra<\/p>\n

Densit\u00e0: 9,68 g\/cm\u00b3<\/p>\n

Punto di fusione: 2810\u00b0C<\/p>\n

Punto di ebollizione: 5400\u00b0C;<\/p>\n

Band gap: da 5,3 a 5,7 eV, un isolante elettrico;<\/p>\n

Indice di rifrazione: elevato nella regione dal vicino ultravioletto al medio infrarosso, ad esempio 2,13 a 1700 nm;<\/p>\n

Coefficiente di espansione termica: basso<\/p>\n

Conducibilit\u00e0 termica: 1,1 W\/m-K<\/p>\n

Modulo di Young: 57 GPa<\/p>\n

Resistivit\u00e0 elettrica: elevata, tipicamente 9 \u00d7 10\u2079 \u03a9-m.<\/p>\n

Applicazioni dell’ossido di afnio in polvere<\/span><\/h2>\n

Campo dei semiconduttori<\/strong><\/p>\n

    \n
  • Dielettrico di gate: l’ossido di afnio pu\u00f2 sostituire il SiO\u2082 nei MOSFET, consentendo dispositivi pi\u00f9 piccoli, pi\u00f9 veloci e pi\u00f9 integrati.<\/li>\n
  • Dispositivi di memoria: La sua propriet\u00e0 ferroelettrica consente l’uso in memorie non volatili come le FeRAM.<\/li>\n<\/ul>\n

    Campo ottico<\/strong><\/p>\n

      \n
    • Rivestimenti ottici: Migliorano la trasmissione della luce, riducono i riflessi e l’abbagliamento e proteggono dai raggi UV.<\/li>\n
    • Materiali per laser: Utilizzati nei componenti laser near-UV per migliorare le prestazioni.<\/li>\n<\/ul>\n

      Ceramica per alte temperature<\/strong><\/p>\n

        \n
      • Materiali refrattari: Adatti per forni, crogioli e rivestimenti a barriera termica grazie all’elevata resistenza al calore.<\/li>\n
      • Utensili da taglio: Aumenta la durezza e la resistenza all’usura per la lavorazione di materiali duri.<\/li>\n<\/ul>\n

        Campo chimico<\/strong><\/p>\n

          \n
        • Catalizzatori: Agisce come catalizzatore o vettore per migliorare l’efficienza e la selettivit\u00e0 delle reazioni.<\/li>\n<\/ul>\n

          Altri campi<\/strong><\/p>\n

            \n
          • Rivestimenti antiradiazioni: Forniscono protezione in ambienti radioattivi.<\/li>\n
          • Biomedicale: Potenziale utilizzo nei materiali dentali e medici.<\/li>\n
          • Aerospaziale: Utilizzato per componenti e rivestimenti resistenti alle alte temperature e all’usura.<\/li>\n<\/ul>\n

            Imballaggio e stoccaggio<\/span><\/h2>\n

            Imballaggio: <\/strong><\/p>\n

            La polvere di ossido di afnio \u00e8 tipicamente a doppio strato (ad esempio, sacchetto interno in polietilene + sacchetto esterno in foglio di alluminio o fusto di plastica) per evitare l’assorbimento dell’umidit\u00e0 o la reazione con le impurit\u00e0 presenti nell’aria. \u00c8 necessario includere un essiccante e le informazioni sul prodotto, il numero di lotto e le precauzioni devono essere chiaramente etichettate sull’imballaggio esterno per garantire la sicurezza e la tracciabilit\u00e0 durante il trasporto e l’uso.<\/p>\n

            Conservazione: <\/strong><\/p>\n

            L’ossido di afnio in polvere deve essere conservato in un ambiente asciutto, fresco e ben ventilato, evitando l’umidit\u00e0, le alte temperature e la luce solare diretta, e tenuto lontano da sostanze corrosive come acidi e alcali. Durante lo stoccaggio, la confezione deve essere mantenuta sigillata per evitare l’assorbimento di umidit\u00e0, la formazione di grumi o la contaminazione.<\/p>\n

            Domande frequenti<\/span><\/h2>\n

            Q1: A cosa serve l’ossido di afnio?<\/strong><\/p>\n

            R: L’ossido di afnio (HfO\u2082) \u00e8 un importante composto inorganico. Grazie alla sua elevata sezione d’urto per l’assorbimento dei neutroni termici, \u00e8 un materiale chiave per le barre di controllo dei reattori nucleari e ha anche ampie applicazioni nei semiconduttori, nell’ottica e nelle tecnologie di memoria avanzate.<\/p>\n

            Energia nucleare e ingegneria delle alte temperature: Barre di controllo dei reattori nucleari e materiali protettivi, materiali refrattari e di rivestimento ad alta temperatura, preparazione e precursori del metallo afnio.<\/p>\n

            Semiconduttori e microelettronica: Strati dielettrici di gate dei transistor, applicazioni di memoria, altri componenti elettronici.<\/p>\n

            Ottica e materiali multifunzionali: Rivestimenti ottici e materiali laser, ceramiche e catalizzatori, materiali funzionali speciali.<\/p>\n

            D2: Qual \u00e8 la differenza tra Al2O3 e HfO2?<\/strong><\/p>\n

            R: L’Al\u2082O\u2083 (ossido di alluminio) e l’HfO\u2082 (ossido di afnio) si differenziano principalmente per le propriet\u00e0 dielettriche e per le applicazioni. L’Al\u2082O\u2083 ha una costante dielettrica pi\u00f9 bassa ma un’eccellente qualit\u00e0 dell’interfaccia, un’elevata stabilit\u00e0 termica e una bassa dispersione, che lo rendono adatto agli strati di passivazione e di interfaccia. L’HfO\u2082 ha una costante dielettrica molto pi\u00f9 elevata, vantaggiosa per lo scaling CMOS avanzato e per i dispositivi ad alta densit\u00e0, ma presenta perdite relativamente pi\u00f9 elevate e una minore stabilit\u00e0 termica. In pratica, l’Al\u2082O\u2083 viene utilizzato per la stabilit\u00e0 e il controllo dell’interfaccia, mentre l’HfO\u2082 viene utilizzato per le prestazioni ad alto coefficiente k, e la combinazione di entrambi pu\u00f2 ottenere migliori prestazioni complessive del dispositivo.<\/p>\n

            Q3: Che cos’\u00e8 l’ossido di afnio?<\/strong><\/p>\n

            R: L’ossido di afnio (HfO\u2082) \u00e8 un composto inorganico composto da afnio e ossigeno. \u00c8 un importante materiale funzionale appartenente alla famiglia degli ossidi di metalli di transizione. Possiede un elevato punto di fusione (circa 2810\u2103), un’elevata durezza (durezza Mohs 6,5-7,5) e un’eccellente stabilit\u00e0 chimica, essendo praticamente insolubile in acqua e nella maggior parte degli acidi (tranne l’acido fluoridrico) a temperatura ambiente. Queste propriet\u00e0 lo rendono un materiale fondamentale per i materiali ad alta temperatura, i rivestimenti ottici e i dispositivi elettronici.<\/p>\n

            Q4: Qual \u00e8 il tempo di consegna della polvere di ossido di afnio?<\/strong><\/p>\n

            R: In magazzino: Spedizione immediata<\/p>\n

            Prodotti standard: Generalmente 2-4 settimane<\/p>\n

            Prodotti personalizzati: Determinati in base ai dettagli richiesti<\/p>\n

            I requisiti speciali possono essere discussi<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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