{"id":1050221,"date":"2024-06-17T15:19:45","date_gmt":"2024-06-17T07:19:45","guid":{"rendered":"https:\/\/vimaterial.de\/product\/ossido-di-ittrio-2\/"},"modified":"2024-06-17T15:19:45","modified_gmt":"2024-06-17T07:19:45","slug":"ossido-di-ittrio-2","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/vimaterial.de\/it\/product\/ossido-di-ittrio-2\/","title":{"rendered":"Ossido di ittrio"},"content":{"rendered":"<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/vimaterial.de\/it\/search\/?type=name&#038;keyword=y2o3\">Ossido di ittrio<\/a><\/span> il target di sputtering \u00e8 un tipo di target di sputtering ceramico con l&#8217;ossido di ittrio come componente principale, che ha le caratteristiche di elevata purezza, alto punto di fusione e buona stabilit\u00e0 chimica ed \u00e8 ampiamente utilizzato nei campi dell&#8217;ottica, dell&#8217;elettronica, del magnetismo e cos\u00ec via.<\/p>\n<p><a href=\"https:\/\/vimaterial.de\/it\/su-di-noi\/\"><span style=\"color: #0000ff;\">VIMATERIALE<\/span><\/a> offre target di ossido di ittrio di elevata purezza, con dimensioni personalizzabili in base alle vostre esigenze. Offriamo anche polvere di ossido di ittrio e granuli di ossido di ittrio. <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/vimaterial.de\/it\/contatto\/\">Contattateci<\/a><\/span> per ulteriori informazioni.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Propriet\u00e0 del target di sputtering all&#8217;ossido di ittrio<\/span><\/h2>\n<p><strong>Elevato punto di fusione: l&#8217;<\/strong> ossido di ittrio ha un elevato punto di fusione, che lo rende in grado di sopportare il bombardamento ad alta energia nel processo di sputtering senza fondersi e deformarsi facilmente, garantendo la stabilit\u00e0 del processo di sputtering e la durata del materiale target.<\/p>\n<p><strong>Stabilit\u00e0 chimica:<\/strong> a temperatura e pressione ambiente, l&#8217;ossido di ittrio ha una buona stabilit\u00e0 chimica e non reagisce facilmente con altre sostanze, quindi non introduce impurit\u00e0 durante il processo di sputtering, garantendo la purezza e le prestazioni del film preparato.<\/p>\n<p><strong>Buona conducibilit\u00e0 elettrica e termica:<\/strong> Ha un certo grado di conducibilit\u00e0 elettrica e termica, che aiuta a controllare meglio la generazione di plasma e l&#8217;emissione di calore durante il processo di sputtering, migliorando cos\u00ec l&#8217;efficienza dello sputtering e la qualit\u00e0 del film.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Applicazioni del target di sputtering all&#8217;ossido di ittrio<\/span><\/h2>\n<p><strong>Campo ottico:<\/strong> Utilizzato per la preparazione di film ottici, come film ad alto indice di rifrazione, film antiriflesso e cos\u00ec via. Il film di ossido di ittrio ha buone propriet\u00e0 ottiche, pu\u00f2 migliorare la trasmittanza, la riflettivit\u00e0 e l&#8217;indice di rifrazione dei componenti ottici e altre propriet\u00e0, ampiamente utilizzate in lenti ottiche, dispositivi laser, comunicazioni ottiche e altri campi.<\/p>\n<p><strong>Settore elettronico:<\/strong> Pu\u00f2 essere utilizzato per preparare film elettronici, come film isolanti e film conduttivi. Nei dispositivi a semiconduttore, il film di ossido di ittrio pu\u00f2 essere utilizzato come strato isolante o strato tampone per migliorare le prestazioni e l&#8217;affidabilit\u00e0 del dispositivo; nei display elettronici, il film di ossido di ittrio pu\u00f2 essere utilizzato come additivo per il film conduttivo trasparente per migliorare la conduttivit\u00e0 e la stabilit\u00e0 del film.<\/p>\n<p><strong>Magnetismo:<\/strong> \u00c8 uno dei materiali importanti per la preparazione di film magnetici, come i film di granato di ittrio e ferro (YIG), ecc. I film YIG hanno eccellenti propriet\u00e0 magneto-ottiche e a microonde e sono ampiamente utilizzati nell&#8217;immagazzinamento magneto-ottico, nelle comunicazioni a microonde, nei sensori e in altri campi.<\/p>\n<p><strong>Altri campi:<\/strong> Pu\u00f2 essere utilizzato anche nella superconduttivit\u00e0 ad alta temperatura, nei catalizzatori, nei rivestimenti ceramici e in altri campi.<\/p>\n<p>Nel campo della superconduttivit\u00e0 ad alta temperatura, l&#8217;ossido di ittrio pu\u00f2 essere utilizzato come matrice o drogante di materiali superconduttori per migliorarne le prestazioni;<\/p>\n<p>Nel campo dei catalizzatori, l&#8217;ossido di ittrio pu\u00f2 essere utilizzato come vettore o componente attivo dei catalizzatori per migliorarne l&#8217;attivit\u00e0 e la selettivit\u00e0;<\/p>\n<p>Nel campo dei rivestimenti ceramici, l&#8217;ossido di ittrio pu\u00f2 essere utilizzato come materiale di rivestimento per migliorare la durezza, la resistenza all&#8217;usura e la resistenza alla corrosione dei materiali ceramici.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Imballaggio e stoccaggio<\/span><\/h2>\n<p><strong>Imballaggio:<\/strong><\/p>\n<p>Gli obiettivi di sputtering all&#8217;ossido di ittrio sono tipicamente sigillati per evitare la contaminazione e l&#8217;assorbimento di umidit\u00e0. Di solito sono confezionati sottovuoto in sacchetti di plastica o di alluminio puliti, spesso con sostanze essiccanti, e fissati in scatole rivestite di schiuma o in contenitori personalizzati per proteggerli da eventuali danni durante il trasporto.<\/p>\n<p><strong>Conservazione:<\/strong><\/p>\n<p>Devono essere conservati in un ambiente pulito, asciutto e fresco, con una buona ventilazione. Evitare l&#8217;esposizione all&#8217;umidit\u00e0, alle alte temperature e alla luce solare diretta. Tenere lontano da sostanze chimiche corrosive e maneggiare con cura per evitare danni alla superficie o contaminazioni che potrebbero influire sulle prestazioni.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Domande frequenti<\/span><\/h2>\n<p><strong>Q1: A cosa serve il target di sputtering all&#8217;ossido di ittrio?<\/strong><\/p>\n<p>R: I target di sputtering all&#8217;ossido di ittrio sono ampiamente utilizzati in applicazioni ottiche, elettroniche e magnetiche. Sono utilizzati per produrre rivestimenti ottici che migliorano la trasmittanza e la riflettivit\u00e0 e film elettronici che migliorano le prestazioni e la stabilit\u00e0 dei dispositivi semiconduttori e dei display. Sono anche importanti per la produzione di materiali magnetici, come i film YIG per la comunicazione e il rilevamento. Inoltre, sono utilizzati nei superconduttori, nei catalizzatori e nei rivestimenti ceramici per migliorare le propriet\u00e0 dei materiali come la conduttivit\u00e0, l&#8217;attivit\u00e0, la durezza e la resistenza alla corrosione.<\/p>\n<p><strong>D2: Il target di sputtering in ossido di ittrio pu\u00f2 essere personalizzato?<\/strong><\/p>\n<p>R: S\u00ec, offriamo servizi di personalizzazione. La purezza e le dimensioni possono essere personalizzate. \u00c8 meglio fornire i disegni del materiale del target per una migliore personalizzazione. Offriamo anche polvere e granuli di ossido di ittrio in varie forme per soddisfare le vostre esigenze.<\/p>\n<p><strong>Q3: Qual \u00e8 il tempo di produzione?<\/strong><\/p>\n<p>A: In magazzino: Spedizione immediata<\/p>\n<p>Prodotti standard: Generalmente 2-4 settimane<\/p>\n<p>Prodotti personalizzati: Determinati in base ai dettagli richiesti<\/p>\n<p>I requisiti speciali possono essere discussi<\/p>\n<p><strong>Q4: Fornite rapporti TDS o MSDS?<\/strong><\/p>\n<p>R: S\u00ec, forniamo file TDS e MSDS. Il pulsante &#8220;MSDS&#8221; e &#8220;TDS&#8221; si trova sotto la casella di richiesta a destra dell&#8217;immagine del prodotto.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Ossido di ittrio il target di sputtering \u00e8 un tipo di target di sputtering ceramico con l&#8217;ossido di ittrio come componente principale, che ha le caratteristiche di elevata purezza, alto punto di fusione e buona stabilit\u00e0 chimica ed \u00e8 ampiamente utilizzato nei campi dell&#8217;ottica, dell&#8217;elettronica, del magnetismo e cos\u00ec via. 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